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表面梯度化材料對內(nèi)皮細(xì)胞黏附與遷移影響的研究

發(fā)布時間:2020-08-20 07:28
【摘要】: 為探討表面梯度化材料對內(nèi)皮細(xì)胞的黏附與遷移行為的影響,我們通過不同方式體外構(gòu)建材料表面I型膠原蛋白梯度(蛋白密度梯度和圖案化不同曲率和弧度梯度的蛋白基底),來研究內(nèi)皮細(xì)胞在梯度表面的黏附狀態(tài)和運動趨化性。實驗一通過連續(xù)堿水解聚乳酸膜制備形成羧基密度,并共價偶聯(lián)膠原蛋白形成相應(yīng)的蛋白密度梯度。接觸角測量儀和激光掃描共聚焦顯微鏡分別表征了- COOH密度梯度和膠原蛋白密度梯度,通過熒光顯微鏡可觀測到明顯的膠原蛋白梯度,以上結(jié)果證實了聚乳酸薄膜上通過連續(xù)堿水解方法制備膠原蛋白梯度的可行性。在低密度和中間密度的膠原蛋白梯度區(qū)域培養(yǎng)的內(nèi)皮細(xì)胞表現(xiàn)出較強的沿著梯度方向的運動性(凈遷移,趨化指數(shù),遷移率和細(xì)胞軌跡證實),然而,內(nèi)皮細(xì)胞在高濃度蛋白密度區(qū)域的運動與膠原蛋白梯度反向。結(jié)果表明,細(xì)胞運動受膠原蛋白梯度趨向,但必須是適宜的利于細(xì)胞黏附的蛋白密度。實驗二基于仿生學(xué)原理,根據(jù)人體內(nèi)不同種類和不同口徑(從最細(xì)小的毛細(xì)血管到大動脈)的血管厚度和彎曲度不同設(shè)計出一系列弧度梯度(20μm,60μm,100μm弧度寬度),并運用微接觸印刷技術(shù)制備出不同曲率半徑的膠原蛋白基底,掃描電子顯微鏡和光學(xué)顯微鏡檢驗PDMS印章表面平整度,激光共聚焦顯微鏡檢驗基底蛋白黏附情況和均勻度,細(xì)胞骨架蛋白肌動蛋白和粘著斑蛋白染色觀測細(xì)胞粘附狀態(tài),活細(xì)胞工作站對細(xì)胞6h運動情況進行錄像,運用相關(guān)軟件測定20,60,100μm弧度寬度梯度之間或自身不同曲率半徑之間的細(xì)胞遷移速度和細(xì)胞遷移總位移與凈位移比值。結(jié)果表明細(xì)胞的黏附狀態(tài)與弧度寬度成正比;設(shè)計的曲率半徑越小,遷移速度越快,運動性越強;在不同弧度寬度的材料表面細(xì)胞運動能力如下:100μm20μm60μm。本研究分析了內(nèi)皮細(xì)胞在不同形式的膠原蛋白梯度上的一系列運動遷移參數(shù),獲得了內(nèi)皮細(xì)胞黏附、運動遷移的最適宜的蛋白梯度基底,為進一步研究內(nèi)皮細(xì)胞化學(xué)誘導(dǎo)運動性提供依據(jù),為植入體在植入宿主后的微循環(huán)血管新生中的脈管重塑和血管再生提供新的思路,為組織工程血管支架材料的內(nèi)皮化提供理論依據(jù)。
【學(xué)位授予單位】:重慶大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2010
【分類號】:R329
【圖文】:

連續(xù)事件,主要步驟,過程,粘著斑


的細(xì)胞骨架蛋白,其主要是在細(xì)胞連接中將肌動蛋白結(jié)合蛋白,在細(xì)胞連接和與基底黏附中有重發(fā)生適當(dāng)?shù)酿じ讲拍苓M行增殖、遷移和運動,若多,粘著斑穩(wěn)定且增多,細(xì)胞的運動性則減弱;骨架連接的機械強度,粘著斑減少,細(xì)胞的運動括 6 個步驟如圖[42]:①細(xì)胞感受外來信號。②細(xì)胞周圍產(chǎn)生大量黏著斑[44-47];④細(xì)胞骨架收后在前進方向形成新的黏著點[48-49]。⑤后部應(yīng)力許多病變或腫瘤組織中,受腫瘤內(nèi)炎性因子趨化入到腫瘤實體內(nèi)形成新生的血管[50-52],在這一度材料,通過觀察細(xì)胞骨架蛋白和粘著斑蛋白判效控制細(xì)胞在病變過程中的運動遷移,就能夠控,達到預(yù)防和治療病變組織的效果。

示意圖,羧基,密度梯度,控制時間


多次測量得到平均值,使液滴流速達到 1證液面完全覆蓋聚乳酸膜(55 mm×25 mm),后續(xù)實大小與玻片大小一致(55 mm×25 mm),特定夾子固 的 NaOH 溶液置于訂制的接觸角測量儀分液瓶符合,將包被聚乳酸膜的玻片豎立放入特定容器中,打反應(yīng)容器中,開始計時。同時間制備均一羧基密度浸泡在 1 mol/L 的 NaOH 溶液中。同時將未經(jīng)過堿浸泡在堿液中的載玻片,用大量 0.1 mol/L 的 HCl 解時,產(chǎn)生游離羧基,用 HCl 沖洗水解后的材料,可風(fēng)干,置于熱風(fēng)干燥箱中 37℃干燥至材料表面無可于后期實驗(為方便計算,將聚乳酸膜按照羧基濃 0-55 mm)。

模板設(shè)計,弧度,寬度,模板


[75]。本實驗硅片模板由德國光學(xué)科技研究所利用軟刻蝕技術(shù)。本實驗所設(shè)計圖形尺寸如圖2.7中所示,根據(jù)設(shè)計圖案利用光刻技術(shù)制備硅片模板。圖2.7模板設(shè)計圖,弧度寬度分別為①20μm②60μm③100μmFig.2.7 Scheme of the masker, the width of the radian is ①20μm②60μm③100μm②.PDMS印章的制備1)聚二甲基硅氧烷Sylgard184與交聯(lián)劑按10:1的比例混合,充分?jǐn)嚢杌旌虾,放入真空干燥箱中抽真?0min,除去混合物中氣泡。2)將真空處理后的混合液均勻涂覆于模板表面,再將模板抽真空30 min。取出后放入70℃恒溫箱中交聯(lián)12 h,然后將PDMS印章和模板剝離,清洗印章表面?zhèn)溆。PDMS印章制備流程圖如圖2.8

【參考文獻】

相關(guān)期刊論文 前2條

1 潘力佳,何平笙;軟刻蝕——圖形轉(zhuǎn)移和微制造新工藝[J];微細(xì)加工技術(shù);2000年02期

2 林少芬,唐仕波,胡潔,鄭健j,鄭湖鈴,羅燕;人血管內(nèi)皮細(xì)胞體外培養(yǎng)及鑒定[J];眼科學(xué)報;2000年02期



本文編號:2797699

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