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411.
GaN
基光電陰極的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與制備研究
412. 增強(qiáng)型
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功率器件柵驅(qū)動(dòng)技術(shù)設(shè)計(jì)考慮
413. 等離子增強(qiáng)原子層沉積低溫生長(zhǎng)
GaN
薄膜
414.
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基太赫茲耿氏二極管新結(jié)構(gòu)研究
415. 硅襯底
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基LED薄膜芯片的應(yīng)力調(diào)制
416. MOVPE生長(zhǎng)
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薄膜的表面吸附和擴(kuò)散研究
417. 微波毫米波
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HEMT大信號(hào)模型研究
418. 梯度摻雜
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光電陰極的光譜響應(yīng)測(cè)試與分析
419. Ce摻雜
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納米結(jié)構(gòu)的制備及物性研究
420. 硅基
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外延膜生長(zhǎng)與LED性能提升研究
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