【摘要】： 鈦由于其出色的生物相容性和機(jī)械性能,在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域已得到廣泛應(yīng)用,并被譽(yù)為是21世紀(jì)最具前景的牙科金屬材料[1]。經(jīng)醫(yī)學(xué)工作者及學(xué)者們多年研究發(fā)現(xiàn),鈦雖然有著諸多其他金屬無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn),但鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度卻無(wú)法達(dá)到傳統(tǒng)金瓷結(jié)合強(qiáng)度的水平。鈦瓷材料不斷的在進(jìn)步和發(fā)展,但在純鈦的預(yù)氧化處理工藝上,仍然存在爭(zhēng)議。本實(shí)驗(yàn)根據(jù)ISO9396:[2]國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化金瓷結(jié)合測(cè)試標(biāo)準(zhǔn),采用三點(diǎn)彎曲[3]實(shí)驗(yàn)方法進(jìn)行測(cè)試及電鏡掃描和能譜分析進(jìn)行觀察。對(duì)鑄鈦組和切削鈦組試件上瓷前分別進(jìn)行5min、15min、30min自然氧化及300℃、500℃、700℃、750℃、800℃、850℃加熱氧化等9組不同工藝預(yù)氧化處理,使用Duceratin Kiss和Noritake Ti22兩種瓷粉進(jìn)行烤瓷熔附,研究不同預(yù)氧化工藝對(duì)鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響,為臨床操作提供參考。 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 1.鑄鈦與Duceratin Kiss瓷粉烤瓷組中,對(duì)鑄鈦進(jìn)行5min、15min、30min自然氧化和300℃、500℃、700℃、750℃、800℃、850℃加熱氧化處理。各組三點(diǎn)彎曲測(cè)試鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度分別為28.03±2.82MPa、27.72±5.25MPa、27.38±2.61MPa、28.80±1.54MPa、28.91±1.53MPa、30.60±0.97MPa、33.36±4.42MPa、28.80±2.90MPa、21.68±2.32MPa。結(jié)果表明750℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最高,850℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最低。除850℃預(yù)氧化組外,各氧化組均滿足臨床標(biāo)準(zhǔn)25.5Mpa。電鏡及能譜分析顯示,750℃處理組鈦瓷分離界面有大塊瓷體覆蓋,Si、Al元素含量所占比重最高。850℃處理組鈦瓷分離界面基本無(wú)瓷塊覆蓋,其Si、Al元素含量所占比重最低。其它各組形貌基本相同,可見(jiàn)少量小瓷塊殘留在鈦瓷界面。 2.鑄鈦與Noritake Ti22瓷粉烤瓷組中,9個(gè)預(yù)氧化處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度分別為25.11±2.25MPa、24.33±1.69MPa、24.04±1.77MPa、24.86±2.78MPa、24.25±3.11MPa、26.06±1.78MPa、27.14±2.33MPa、28.49±2.37MPa、22.17±2.03MPa。結(jié)果表明800℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最高,850℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最低。只有700℃、750℃、800℃三組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度可達(dá)到25.5 MPa金瓷結(jié)合強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)。電鏡及能譜分析顯示,800℃處理組鈦瓷分離界面有大塊瓷體覆蓋,Si、Al元素含量所占比重最高。850℃處理組鈦瓷分離界面基本無(wú)瓷塊覆蓋,其Si、Al元素含量所占比重最低。其它各組形貌及Si、Al元素含量所占比基本相同。 3.切削鈦與Duceratin Kiss瓷粉烤瓷組中,9個(gè)處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度分別為27.86±1.79MPa、27.21±2.48MPa、26.45±1.84MPa、28.80±1.54MPa、28.91±1.53MPa、30.60±0.97MPa、31.89±1.23MPa、31.67±2.43MPa、22.57±3.84MPa。結(jié)果表明750℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最高,850℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最低。除850℃預(yù)氧化組外,各氧化組均滿足臨床標(biāo)準(zhǔn)25.5Mpa。電鏡及能譜分析結(jié)果與鑄鈦與Duceratin Kiss瓷粉烤瓷組基本一致。 4.切削鈦與Noritake Ti22瓷粉烤瓷組中,9個(gè)預(yù)氧化處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度分別為24.48±1.88MPa、23.73±2.13MPa、23.77±1.76MPa、24.02±2.51MPa、24.00±2.44MPa、24.98±2.26MPa、26.06±2.42MPa、30.16±1.53MPa、21.78±1.78MPa。結(jié)果表明800℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最高,850℃處理組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度最低。只有750℃、800℃兩組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度可達(dá)到25.5 MPa金瓷結(jié)合強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)。電鏡及能譜分析顯示結(jié)果與鑄鈦與Noritake Ti22瓷粉烤瓷組基本一致。 結(jié)論 1.預(yù)氧化工藝對(duì)鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響 各組實(shí)驗(yàn)結(jié)果說(shuō)明,純鈦烤瓷前經(jīng)750℃加熱預(yù)氧化處理與Duceratin Kiss瓷粉結(jié)合強(qiáng)度最高,當(dāng)預(yù)氧化溫度超過(guò)850℃,鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度顯著下降,不能達(dá)到25.5 MPa金瓷結(jié)合強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)。Noritake Ti22瓷粉與800℃加熱氧化后的純鈦結(jié)合強(qiáng)度最好,純鈦700℃以下及850℃預(yù)氧化組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度均不能達(dá)到25.5 MPa金瓷結(jié)合強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)。 2.瓷粉對(duì)鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)顯示,Duceratin Kiss瓷粉與預(yù)氧化750℃處理后的鑄鈦結(jié)合強(qiáng)度最高,Noritake Ti22瓷粉與預(yù)氧化800℃處理后的切削鈦結(jié)合強(qiáng)度最高。認(rèn)為由于不同瓷粉的制作工藝不同,瓷粉中的成分以及各成分的所占百分比不同,導(dǎo)致其對(duì)鈦烤瓷前的預(yù)處理工藝要求略有差異,但從各組鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度數(shù)值、電鏡掃描圖像及能譜分析上比較發(fā)現(xiàn),兩種瓷粉隨氧化工藝的改變,鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度變化趨勢(shì)基本一致。 3.鈦材對(duì)鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度的影響 通過(guò)比較發(fā)現(xiàn),切削鈦與鑄鈦隨氧化程度的改變與瓷粉的結(jié)合的升高或下降趨勢(shì)一致,盡管鑄鈦鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度絕對(duì)值均略高于相同處理?xiàng)l件下切削鈦與瓷粉的結(jié)合強(qiáng)度(切削鈦/Noritake Ti22/800℃處理組除外),但統(tǒng)計(jì)結(jié)果并未顯示統(tǒng)計(jì)學(xué)差異。由此可見(jiàn),鑄造鈦烤瓷前的預(yù)處理工藝方法完全適用于切削鈦烤瓷,切削鈦烤瓷鈦瓷結(jié)合強(qiáng)度可達(dá)到臨床標(biāo)準(zhǔn),滿足臨床需要。
【學(xué)位授予單位】：第四軍醫(yī)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2009
【分類(lèi)號(hào)】：R783
【圖文】：

將所有試件隨機(jī)分為九組，每組20個(gè)試件，在室溫條件（20℃）下分別行5min、15min、30min自然氧化和終止氧化溫度為300℃、500℃、700℃、0℃、800℃、850℃的加熱氧化（起始溫度低于終止溫度100℃，升溫速率℃/min）預(yù)處理。氧化完成后，再將各處理組的20個(gè)試件隨機(jī)分成兩組，組10個(gè)，分別用Duceratin Kiss和Noritake Ti22進(jìn)行烤瓷。其中用Duceratinss烤瓷的九個(gè)梯度預(yù)處理鈦試件，按氧化程度從自然氧化5min至加熱氧化0℃，分別記為A1-A9。同法，將用Noritake Ti22烤瓷的試件分別記為a1-a9。 試件制作各組試件氧化完成后，根據(jù) ISO 9396 金瓷結(jié)合強(qiáng)度測(cè)試試件制作標(biāo)準(zhǔn)行制備（圖 1-1）。在每個(gè)鈦試條中 8mm×3mm 處，堆塑黏結(jié)瓷 0.1mm，色瓷 0.2mm，牙本質(zhì)瓷 0.8mm（圖 1-1，1-2）。瓷層厚度均用自制夾具進(jìn)控制。堆塑后震動(dòng)，吸水，入爐燒結(jié)。燒結(jié)程序嚴(yán)格按照廠家要求進(jìn)行操（表 1-1，1-2）。

第四軍醫(yī)大學(xué)碩士學(xué)位論文圖2-1 鑄鈦/Ducerratin Kiss/自然氧化5min 圖2-2 鑄鈦/Ducerratin Kiss/加熱氧化300℃鈦瓷分離界面SEM形貌 ×1000 鈦瓷分離界面SEM形貌 ×1000圖2-3 鑄鈦/Ducerratin Kiss/加熱氧化750℃ 圖2-4 鑄鈦/Ducerratin Kiss/加熱氧化850℃鈦瓷界面 SEM 形貌 ×1000 鈦瓷界面 SEM 形貌 ×1000圖2-5 鑄鈦/Noritake Ti22/自然氧化5min 圖2-6 鑄鈦/Noritake Ti22/加熱氧化300℃鈦瓷分離界面 SEM 形貌 ×1000 鈦瓷分離界面 SEM 形貌 ×1000-29-

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：2729783