【摘要】： 目的:通過對HBIC型鈦種植體與口腔科常用修復烤瓷合金在中性人工唾液、酸性及含氟人工唾液中的電偶腐蝕性能進行綜合評價,為臨床合理選擇與種植體相匹配的種植義齒上部結構材料提供參考。 方法:(1)試件制備選擇目前本院使用的HBIC型鈦種植體(T-H)以及臨床常用冠修復材料:鎳鉻合金(Ni)、鈷鉻合金(Co)、金鉑合金(Au)、鑄造純鈦(Ti),按廠家要求包埋鑄造。所有試樣均為直徑4mm,高10mm的圓柱體,每種金屬各4個。將金屬圓柱體楔入直徑為3.5mm的聚四氟乙烯管中,環(huán)氧樹脂密封,一端導線接出。暴露面積為0.1257cm2。用220目、400目、600目、800目水砂紙順序磨平,再用400目、800目、1200目金相砂紙磨光,20-50nmAl2O3拋光,浸入人工唾液中24h備用,使表面狀態(tài)趨于穩(wěn)定。(2)人工唾液的制備配pH=6.8;pH=5.6;pH=6.8加入0.1%F-; pH=5.6加入0.1%F-;pH=6.8加入0.2%F-;pH=5.6加入0.2%F-的A,B,C,D,E,F六種人工唾液。(3)采用經典三電極體系的電化學方法,在A,B,C,D,E,F六種人工唾液中檢測4種常用牙科金屬(合金)分別與HBIC型鈦種植體(T-H)組成電偶對的浸泡初電位(E1)、電偶電流密度(Id)以及混合電位(E2),并繪制出電流時間曲線。(4)掃描電鏡對合金表面形貌進行觀察。 結果: 1不同金屬偶對在同種人工唾液中的浸泡初電位(E1) 1.1在pH=6.8的人工唾液中四種不同金屬偶對的浸泡初電位為E1Au E1TiE1CoE1Ni,其中Co組的浸泡初電位大于Ni組的浸泡初電位,小于Ti組的浸泡初電位,有統(tǒng)計學意義(p0.05)。 1.2在pH=5.6的人工唾液中四種不同金屬偶對的浸泡初電位為E1Au E1CoE1TiE1Ni,四組之間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 1.3在pH=6.8,含0.1%F-的人工唾液中四種不同金屬偶對的浸泡初電位為E1AuE1CoE1NiE1Ti,其中Ni組的浸泡初電位與Au、Co, Ti組的浸泡初電位與Au、Co有統(tǒng)計學意義(p0.05)。Ni組和Ti組之間無統(tǒng)計學意義(p0.05)。 1.4在pH=5.6,含0.1%F-的人工唾液中四種不同金屬偶對的浸泡初電位為E1AuE1CoE1NiE1Ti,除Ni組和Co組之間無統(tǒng)計學差異(p0.05),其余各組之間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 1.5在pH=6.8,含0.2%F-的人工唾液中四種不同金屬偶對的浸泡初電位為E1AuE1CoE1NiE1Ti,四組之間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 1.6在pH=5.6,含0.2%F-的人工唾液中四種不同金屬偶對的浸泡初電位為E1AuE1NiE1CoE1Ti,除Ti組和其余三組之間有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余三組之間無統(tǒng)計學差異( p0.05)。 2同種金屬偶對在不同人工唾液中的浸泡初電位(E1) 2.1金鉑合金組在六種人工唾液中測得浸泡初電位(E1)依次為AuA AuBAuCAuDAuFAuE,在人工唾液A中的浸泡初電位和其余各組無統(tǒng)計學差異(p0.05)。 2.2鎳鉻合金組在六種人工唾液中測得浸泡初電位(E1)依次為NiF NiANiBNiDNiCNiE,NiF除與NiA沒有統(tǒng)計學差異外,和其余各組都有統(tǒng)計學差異(p0.05),NiB除與NiA沒有統(tǒng)計學差異外,和其余各組都有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 2.3鈷鉻合金組在六種人工唾液中測得浸泡初電位(E1)依次為CoACoBCoCCoECoDCoF,其中Co組在唾液A中的浸泡初電位和在唾液D、E中的浸泡初電位都有統(tǒng)計學差異,在唾液B中的浸泡初電位和在D中的浸泡初電位有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 2.4鑄造純鈦組在六種人工唾液中測得浸泡初電位(E1)依次為TiATiBTiCTiETiDTiF, TiF和TiD、TiE都沒有統(tǒng)計學差異, TiC和TiE沒有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余各組之間都有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 3四種不同金屬偶對在同種人工唾液中的混合電位(E2) 3.1在pH=6.8的人工唾液中的混合電位(E2)為E2AuE2TiE2CoE2Ni,其中Au組的混合電位與Ni組有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余各組間沒有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 3.2在pH=5.6的人工唾液中的混合電位(E2)為E2AuE2CoE2NiE2Ti,其中Au組的混合電位與其余三組的混合電位有統(tǒng)計學差異(p0.05),Ni組和Ti組、Co組之間無統(tǒng)計學意義(p0.05)。 3.3在pH=6.8,含0.1%F-的人工唾液中的混合電位(E2)為E2AuE2Co E2NiE2Ti,其中Au組和Co組;Ni組和Ti組之間沒有統(tǒng)計學意義(p0.05),其余各組間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 3.4在pH=5.6,含0.1%F-的人工唾液中的混合電位(E2)為E2AuE2Ni E2CoE2Ti,除Ti組和其余三組之間有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余三組之間無統(tǒng)計學差異( p0.05)。 3.5在pH=6.8,含0.2%F-的人工唾液中的混合電位(E2)為E2Au E2CoE2NiE2Ti,各組間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 3.6在pH=5.6,含0.2%F-的人工唾液中的混合電位(E2)為E2Ni E2CoE2AuE2Ti, Ti組和其余三組之間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 4同種金屬偶對在不同人工唾液中的混合電位(E2) 4.1金鉑合金組在六種人工唾液中測得混合電位(E2)依次為AuAAuBAuCAuEAuDAuF,其中在F中的混合電位和其余各組都有統(tǒng)計學差異(p0.05),AuA和AuB、AuC、AuD、AuE都沒有統(tǒng)計學差異(p0.05),AuB和AuD、AuE都有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 4.2鎳鉻合金組在六種人工唾液中測得混合電位(E2)依次為NiFNiBNiDNiANiCNiE,其中NiB和NiD、NiE有統(tǒng)計學差異(p0.05),NiD和NiE、NiE和NiF有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余各組間沒有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 4.3鈷鉻合金組在六種人工唾液中測得混合電位(E2)依次為CoACoBCoCCoECoDCoF,其中在F中的混合電位和在A、B、C中的混合電位都有統(tǒng)計學差異(p0.05),和在D、E中的混合電位沒有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 4.4鑄造純鈦組在六種人工唾液中測得混合電位(E2)依次為TiATiBTiCTiETiDTiF,其中TiB和TiC、TiC和TiE沒有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余各組之間都有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 5同種電偶對在不同液體中的電偶電流密度Id(μA/cm2) 5.1金鉑合金組在六種人工唾液中測得電偶電流密度(Id)依次為AuAAuCAuDAuFAuEAuB;在人工唾液F中測得電流密度與在人工唾液A、C、D中測得的有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余各組間無統(tǒng)計學差異(p 0.05)。 5.2鎳鉻合金組在六種人工唾液處理后測得電偶電流密度(Id)依次為NiDNiCNiANiFNiENiB;在人工唾液E中測得腐蝕電流密度大于在人工唾液A、C、D中的腐蝕電流,有統(tǒng)計學差異(p0.05),NiD組小于NiF組,有統(tǒng)計學差異(p0.05) ,其余各組間無統(tǒng)計學差異(p 0.05)。 5.3鈷鉻合金組在六種人工唾液處理后測得電偶電流密度(Id)依次為CoACoCCoDCoBCoECoF,在人工唾液A、B、C、D中測得電流密度與在人工唾液E、F中的電流密度有統(tǒng)計學差異(p0.05),CoE組與CoF組有統(tǒng)計學差異(p0.05),在A、B、C、D四種唾液中測得的電偶電流密度之間無統(tǒng)計學差異(p 0.05)。 5.4鑄造純鈦組在六種人工唾液中測得電偶電流密度(Id)依次為TiA TiBTiCTiETiDTiF;在人工唾液E中測得腐蝕電流密度大于在人工唾液A、B、C中的電流密度與在人工唾液D、F中的電流密度有統(tǒng)計學差異(p0.05)。TiD組與TiF組有統(tǒng)計學差異(p0.05)。在A、B、C三種唾液中的電偶電流密度之間無統(tǒng)計學差異(p0.05)。 6不同種電偶對在同一液體中的電偶電流密度(μA/cm2) 6.1在pH=6.8的人工唾液中,四種電偶對電流密度(Id)依次為IdNiIdCoIdTiIdAu,其中Ni組與Au組、Ti組間有統(tǒng)計學差異(p0.05),Co組與Ni組、Ti組、Au組,Ti組與Au組間無統(tǒng)計學差異(p0.05);在pH=5.6的人工唾液中四種電偶對電流密度(Id)依次為IdNiIdCoIdAuIdTi,其中Ni組顯著大于Ti組、Co組、Au組,有統(tǒng)計學差異(p0.05),Ti組、Co組、Au組三組間無統(tǒng)計學差異(p0.05)。 6.2在pH=6.8的含0.1%F-人工唾液中,四種電偶對的電流密度(Id)沒有統(tǒng)計學差異(p0.05)。在pH=5.6的含0.1%F-人工唾液中IdAuIdNiIdCoIdTi,其中Au組與Ni組間無統(tǒng)計學差異(p0.05)。它們與其余兩組、它們之間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 6.3在pH=6.8的含0.2%F-人工唾液中,四種電偶對電流密度(Id) IdAuIdTiIdCoIdNi,其中Ni組顯著大于其余三組,有統(tǒng)計學差異(p0.05),其余三組間無統(tǒng)計學差異(p0.05)。在pH=5.6的含0.2%F-人工唾液中,四種電偶對電流密度(Id) IdAuIdNiIdCoIdTi,各組之間有統(tǒng)計學差異(p0.05)。 7掃描電鏡觀察: 金合金在pH=6.8、pH=6.8含氟、pH=5.6人工唾液中測試后在掃描電鏡下觀察未見明顯腐蝕破壞;在pH=5.6含氟人工唾液中測試后合金表面可見散在的且直徑較小的淺的點蝕坑。 鎳鉻合金在pH=6.8、pH=6.8含氟人工唾液中腐蝕不明顯,在pH=5.6中呈典型的孔蝕樣表現。在pH=5.6含氟人工唾液中的腐蝕與在pH=5.6不含氟的人工唾液中相比,表面未見腐蝕加大。 鈷鉻合金在pH=6.8、pH=6.8含氟、pH=5.6的人工唾液中腐蝕不明顯,在酸性含氟環(huán)境有顆粒狀腐蝕產物生成。 鑄造純鈦在pH=6.8、pH=6.8含氟、pH=5.6的人工唾液中的腐蝕均不明顯,但在pH=5.6加0.1% F、0.2% F的人工唾液中測試后,掃描電鏡觀察表現為不規(guī)則坑狀腐蝕形貌。 結論: 1在中性pH=6.8人工唾液中,金鉑合金、鎳鉻合金、鈷鉻合金、鑄造純鈦均有較好的耐腐蝕性能,它們耐腐蝕的順序為:金合金鑄造純鈦鈷鉻合金鎳鉻合金。 2在pH=5.6人工唾液中,四種合金電偶電流密度與中性人工唾液相比沒有明顯變化。pH=5.6對鈷鉻合金、鎳鉻合金、金合金的浸泡初電位、混合電位沒有明顯影響。鑄造純鈦浸泡初電位、混合電位比起在中性人工唾液中略有降低,但仍維持在較高水平。 3在pH=5.6人工唾液中,氟化物的加入使金合金、鈷鉻合金、鑄造純鈦的電偶電流密度均呈增大趨勢,其中鑄造純鈦對酸性環(huán)境中加入氟化物敏感性最大,腐蝕電流與中性人工唾液相比有明顯差別。當氟濃度達到0.2%時,鎳鉻合金的電偶電流振蕩很大,從-0.4μA到0.4μA,臨床應盡量避免此環(huán)境。 4金合金、鑄造純鈦是種植體上部冠修復金屬的合理選擇。氟和酸都會使口腔內種植體和上部冠金屬產生一定的腐蝕性。口腔內有種植體的患者應當盡量避免使用含氟制品,同時保持口腔衛(wèi)生,減少酸性環(huán)境出現的機率也能有效防止電偶腐蝕。
【學位授予單位】：河北醫(yī)科大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2010
【分類號】：R783.1

【參考文獻】

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本文編號：2658101