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氧化鋯基臺(tái)的研制及機(jī)械性能檢測(cè)

發(fā)布時(shí)間:2020-05-07 21:12
【摘要】: 目的:研制氧化鋯基臺(tái)并對(duì)其機(jī)械性能進(jìn)行初步檢測(cè)。 方法:選用納米氧化鋯粉,采用冷等靜壓成型方法和二次燒結(jié)工藝制作氧化鋯基臺(tái)。(1)分別取10枚氧化鋯基臺(tái)和鈦基臺(tái)測(cè)量其表面粗糙度Ra、Rz值;(2)分別取10枚氧化鋯基臺(tái)和鈦基臺(tái)與Osstem USⅡ種植體裝配組成氧化鋯基臺(tái)組與鈦基臺(tái)組,用掃描電鏡測(cè)量?jī)山M基臺(tái)-種植體連接界面的微間隙;(3)各取5枚氧化鋯基臺(tái)和鈦基臺(tái)組成氧化鋯基臺(tái)組與鈦基臺(tái)組,分別將基臺(tái)與Osstem USⅡ種植體裝配,置于不銹鋼夾具中,用與基臺(tái)長(zhǎng)軸垂直的力對(duì)基臺(tái)進(jìn)行加載測(cè)量其抗折強(qiáng)度(加載速度0.5mm/min)。 結(jié)果:制得的氧化鋯基臺(tái)形態(tài)良好。(1)氧化鋯基臺(tái)組的表面粗糙度Ra、Rz值為0.108±0.026μm、1.058±0.227μm,鈦基臺(tái)組的表面粗糙度Ra、Rz值為0.131±0.037μm、1.157±0.268μm;兩組間差別均無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。(2)氧化鋯基臺(tái)-種植體連接界面的邊緣微間隙為3.01±0.64μm、內(nèi)部微間隙為28.5±1.6μm,鈦基臺(tái)-種植體連接界面的邊緣微間隙為2.71±0.42μm、內(nèi)部微間隙為23.9±1.4μm;兩組間差別均有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。(3)氧化鋯基臺(tái)組與鈦基臺(tái)組的抗折強(qiáng)度分別為537.6±90.0N、753.9±160.8N,兩組間差別具有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。 結(jié)論:在本實(shí)驗(yàn)條件下,采用納米氧化鋯粉經(jīng)冷等靜壓成型和二次燒結(jié)工藝制作的氧化鋯基臺(tái)的表面粗糙度、基臺(tái)-種植體連接界面的適合性、抗折強(qiáng)度達(dá)到了臨床應(yīng)用的要求。
【圖文】:

視圖,基臺(tái),底視圖,視圖


時(shí)J恒溫2小時(shí),待爐溫自然冷卻至室溫,取出氧化錯(cuò)基臺(tái)。(7)精修完成:按照?qǐng)D紙要求對(duì)二次燒結(jié)后的氧化錯(cuò)基臺(tái)進(jìn)行精修,完成氧化錯(cuò)基臺(tái)制作(圖1)。圖1氧化錯(cuò)基臺(tái)(左一側(cè)視圖;右一底視圖)3.2基臺(tái)表面粗糙度的測(cè)定在放大鏡下選取表面未開(kāi)裂的氧化錯(cuò)基臺(tái)10枚組成氧化錯(cuò)基臺(tái)組,另取10枚欽基臺(tái)組成欽基臺(tái)組,分別置于95%乙醇中超聲清洗10分鐘,蒸餾水流水沖洗3分鐘,晾干。用精密粗糙度測(cè)試儀分別測(cè)量氧化錯(cuò)基臺(tái)、欽基臺(tái)的表面粗糙度。取樣長(zhǎng)度為0.Sllnll,評(píng)定長(zhǎng)度為4.Olnm,前進(jìn)速度為0.snlln/min。每個(gè)樣本隨機(jī)選擇三處進(jìn)行測(cè)量Ra值、Rz值,取平均值記錄。3.3基臺(tái)一種植體連接界面適合性的測(cè)定所謂適合性是指基臺(tái)與種植體之間微間隙的大小

基臺(tái),種植體


(l)基臺(tái)一種植體連接界面邊緣微間隙的測(cè)量:取20枚種植體隨機(jī)均分為兩組,其中10枚與氧化錯(cuò)基臺(tái)進(jìn)行裝配,組成氧化錯(cuò)基臺(tái)組,另外10枚與欽基臺(tái)裝配組成欽基臺(tái)組;基臺(tái)與種植體均用中央固位螺絲固定,,扭矩為3ONcm(如圖2)。按照時(shí)鐘的3、6、9、12點(diǎn)對(duì)兩實(shí)驗(yàn)組基臺(tái)一種植體連接界面邊緣間隙處進(jìn)行定點(diǎn)(如圖4)。用掃描電鏡放大5000倍分別測(cè)定所標(biāo)記的3、6、9、12點(diǎn)等4個(gè)點(diǎn)處的微間隙大小,每個(gè)點(diǎn)測(cè)量3次,取平均值記錄。(2)基臺(tái)一種植體連接界面內(nèi)部微間隙的測(cè)量:將上步組裝的基臺(tái)和種植體分離。按照定點(diǎn)位置,用掃描電鏡放大20倍測(cè)量基臺(tái)六角的對(duì)角線長(zhǎng)度L基臺(tái)和相對(duì)應(yīng)的種植體六角的對(duì)角線長(zhǎng)度L種植體(即圖4中L人B、蝙、L二、與L;IBI、Lcl。,、L:,F(xiàn),),每條對(duì)角線的長(zhǎng)度測(cè)量三次
【學(xué)位授予單位】:青島大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2010
【分類號(hào)】:R783

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本文編號(hào):2653555

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