發(fā)布時間：2020-04-22 00:12

【摘要】：目的：通過對臨床常用鎳鉻合金表面進行鍍氮化鈦膜后，在模擬人體溫度37℃的人工唾液中，變化pH和氟離子濃度，用以觀察鎳鉻合金在不同條件下的耐腐蝕性，并做出綜合性評定，為進一步對含有鎳鉻合金的修復材料腐蝕防護提供實驗依據(jù)。 方法：1鎳鉻合金鑄件的制作：選擇直徑為5mm的蠟線，鑄造包埋制成48個鎳鉻合金試件,應用數(shù)控機床把每個試件車成均為長30mm,直徑為3mm的圓柱形，均無肉眼可見的變形和沙眼。將全部鎳鉻合金的暴露面用400目、600目、800目、1000目水砂紙磨平，再用400目、800目、1200目金相砂紙以順序磨光。然后把鎳鉻合金試件隨機分成兩組，即A組，B組。A組：應用物理氣相沉積技術(shù)在表面均勻的鍍上一層厚度為2.5μm的氮化鈦鍍層，B組為對照組不做處理。試件體部用環(huán)氧樹脂密封，一端露出接導線，一端暴露備用，其暴露面積為7.065mm~2。暴露面應用95%的酒精擦拭，使其浸入人工唾液中20分鐘，使試件暴露面趨于穩(wěn)定狀態(tài)時，備用。2實驗分組：分別配置人工唾液如下，a組（ph6.8）,b組（pH6.8，0.1%F-），c組（pH6.8，0.2%F-），d組（pH4），e組（pH4，0.1%F-），f組（pH4，0.2%F-）六種人工唾液。3在a,b,c,d,e,f六種人工唾液中分別加入A組和B組試件，通過電化學工作站進行分析，得到浸泡初電位(Ecorr)、塔菲爾曲線及自腐蝕電流（Icorr），進而進行比較分析 實驗結(jié)果： 1自然腐蝕電位E(mv). 1.1在a,b,c,d,e,f溶液中兩兩比較鍍膜組和非鍍膜組的差別。在b,c,d組中E（A）E（B）有統(tǒng)計學意義（p0.05）。在a,e,f組中E（A）E（B）,但無統(tǒng)計學意義（p0.05）。 1.2在pH值一定的條件下，氟離子濃度變化對鍍膜組和非鍍膜組自然腐蝕電位的影響。 在pH值為6.8的條件下，A組，E(a組)E(b組)E(c組),三者之間有統(tǒng)計學意義（p0.05），其中E(a組)與E(b組)無明顯差別（p0.05）。B組E(a組) E(b組) E(c組),三者之間有統(tǒng)計學意義（p0.05）。其中E(a組)與E(b組)無明顯差別。在pH值=4的條件下，A組E(d組)E(e組)E(f組),,三者之間無統(tǒng)計學意義（p0.05）。B組E(d組)E(e組) E(f組),三者之間接近統(tǒng)計學意義（p=0.052）。 1.3在溶液中氟離子濃度不變的條件下， pH值變化對鍍膜組和非鍍膜組的自然腐蝕電位的變化。 在不含氟離子的溶液中(a組和d組)，A組E(pH6.8)E(pH4)，但兩者無統(tǒng)計學意義（p0.05）。B組E(pH6.8)E(pH4)，（p=0.051），接近統(tǒng)計學意義。在溶液中含有0.1%F-濃度組中(b組和e組)，A組，B組均無統(tǒng)計學意義（p0.05）。在溶液中含有0.2%F-濃度組中(c組和f組)，A組E(pH6.8)E(pH4)，但兩者無統(tǒng)計學意義（p0.05）。B組E(pH6.8)E(pH4),兩者之間有統(tǒng)計學意義（p0.05） 2腐蝕電流密度I（μA/cm~2） 2.1在a,b,c,d,e,f溶液中兩兩比較鍍膜組和非鍍膜組的差別。在a,c,d,e,f組中I（A）I（B）有統(tǒng)計學意義（p0.05）。在b組中I（A）I（B）,無統(tǒng)計學意義（p0.05）。 2.2在pH值一定的條件下，比較溶液中氟離子濃度變化時，鍍膜組和非鍍膜組的腐蝕電流密度變化。 在pH值為6.8的條件下，A組I（a組）I(b組)I(c組),有統(tǒng)計學意義（p0.05），其中含0.1%F-濃度組與含0.2%F-濃度組無統(tǒng)計學意義（p0.05）B組I（a組）I(b組)I(c組)，有統(tǒng)計學意義（p0.05），其中無Fˉ組與含0.1%F-組無統(tǒng)計學意義（p0.05）。在pH值為4的條件下，A組I（d組）I(e組)I(f組)，有統(tǒng)計學意義（p0.05），其中無Fˉ組與含0.1%F-組無明顯差異，無統(tǒng)計學意義（p0.05）。B組I（d組）I(e組)I(f組)，有統(tǒng)計學意義（p0.05）。 2.3在溶液中氟離子濃度不變的條件下，比較pH值變化的條件下，鍍膜組和非鍍膜組的腐蝕電流密度變化。 在無氟離子添加組中(a組和d組)，A組，B組中I（pH6.8）均小于I（pH4），但兩者間無統(tǒng)計學意義（p0.05）。在含0.1%F-濃度組中(b組和e組)，A組I（pH6.8）I（pH4），無統(tǒng)計學意義（p0.05）。B組I（pH6.8）I（pH4），兩者有統(tǒng)計學意義（p0.05）。在含0.2%F-濃度組中A組(c組和f組)，B組中I（pH6.8）均小于I（pH4），兩者有統(tǒng)計學意義（p0.05）。 結(jié)論： 1在pH6.8時，無添加F-的條件下，實驗組和對照組浸泡初電位結(jié)果分析表明：兩組合金耐腐蝕性無明顯差別。腐蝕電流密度結(jié)果顯示鍍膜組腐蝕電流密度小于對照組腐蝕電流密度，耐腐蝕性高于對照組。隨著pH降低，F(xiàn)-濃度增加，鍍膜組浸泡初電位向負方向變化幅度小，腐蝕電流增加幅度小，提示實驗組耐腐蝕性能均高于對照組。 2在pH6.8，變化F-濃度條件下，隨著F-濃度的增高，實驗組和對照組比較結(jié)果分析表明：從浸泡初電位和腐蝕電流密度的變化來看，均受影響，但實驗組浸泡初電位向負方向變化幅度小，腐蝕電流增加幅度小，說明實驗組更穩(wěn)定，耐腐蝕性更高。 在pH4時，隨著F-濃度的增加，鍍膜組和對照組從浸泡初電位和腐蝕電流密度的變化分析表明：實驗組無明顯變化，對照組浸泡初電位向負方向變化幅度和腐蝕電流密度增加幅度均較大，，說明實驗組更穩(wěn)定，耐腐蝕性較高。 3在同一F-濃度時，比較中性環(huán)境和酸性環(huán)境下，鍍膜組和對照組腐蝕性變化。從浸泡電位上來看，鍍膜組浸泡初電位向負方向變化幅度較小，對pH值的減小不敏感，耐腐蝕性較高；對照組隨pH值的減小浸泡初電位向負方向變化幅度較大。從腐蝕電流密度上來看，鍍膜組和對照組均受影響，但鍍膜組腐蝕電流密度增加幅度更小，所以穩(wěn)定性更高，即耐腐蝕性更好。
【學位授予單位】：河北醫(yī)科大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2012
【分類號】：R783.1

【參考文獻】

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本文編號：2635901