基于體素的形態(tài)測量學方法分析顳葉癲癇患者腦灰質體積變化
本文關鍵詞:基于體素的形態(tài)測量學方法分析顳葉癲癇患者腦灰質體積變化
更多相關文章: 基于體素的形態(tài)測量學 顳葉癲癇 磁共振成像 灰質
【摘要】:目的采用基于體素的形態(tài)測量學方法比較顳葉癲癇患者和正常人腦灰質的體積,探討顳葉癲癇患者腦灰質體積的變化。方法收集22例經手術病例證實的顳葉癲癇患者及15例性別、年齡相匹配的健康志愿者,分別行全腦三維結構像掃描,采用基于體素的形態(tài)學測量學(VBM)方法分析病例組及對照組的數據,計算和比較兩組腦灰質的體積。結果與對照組相比,左側顳葉癲癇患者的右側小腦前葉、左側顳中回、左側顳下回、左側枕中回、左側額下回、右側額下回、右側顳中回、左側海馬、左側額上回、右側尾狀葉、右側額中回、左側中央后回、右側中央前回灰質體積減小(P均0.05);右側顳葉癲癇患者的右側顳下回、右側顳中回、左側舌回、左側枕下回、左側顳下回、左側海馬旁回、右側丘腦、左側枕上回、左側顳中回、右側額上回、左側中央前回、左側中央后回、右側中央前回灰質體積減小(P均0.05)。結論顳葉癲癇患者多個腦區(qū)腦灰質體積降低,通過采用基于體素的形態(tài)測量學技術可以反映腦灰質體積的變化。
【作者單位】: 解放軍福州總醫(yī)院醫(yī)學影像中心;
【關鍵詞】: 基于體素的形態(tài)測量學 顳葉癲癇 磁共振成像 灰質
【基金】:福建省科技計劃重點項目,項目編號:2016I0010
【分類號】:R445.2;R742.1
【正文快照】: 癲癇是由多種原因引起的、以腦神經元過度放電所致的發(fā)作性、短暫性和重復性中樞神經系統(tǒng)功能失常為特征的臨床綜合征[1]。大多數癲癇患者可通過藥物控制癲癇發(fā)作,但約有20%~40%患者不能通過藥物有效控制癲癇發(fā)作而成為難治性癲癇,在難治性癲癇中,顳葉癲癇(temporal lobe epil
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,本文編號:891837
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