純鈦作為理想的義齒支架材料已經(jīng)廣泛應(yīng)用于口腔修復(fù)領(lǐng)域。但鑄造后表面易產(chǎn)生氣孔,耐磨性差,易被氟化物腐蝕并析出離子,這些缺點需要通過表面改性來解決。類金剛石膜（DLC）作為新興工業(yè)材料已得到廣泛應(yīng)用。但在口腔修復(fù)中應(yīng)用較少,原因是韌性不足,顏色單一,與金屬基底結(jié)合力差。本課題擬通過研制納米滲氮類金剛石復(fù)合膜以及尋找最佳鍍膜工藝參數(shù)來改善義齒鈦支架的性能,使其達(dá)到口腔修復(fù)臨床應(yīng)用的要求。實驗方法是:1.采用脈沖真空多弧等離子體鍍膜技術(shù)制備滲氮含氫非晶碳膜,在N2氣氛中預(yù)處理純鈦表面形成TiN梯度膜,再采用甲烷與氮氣混合沉積類金剛石薄膜;2.對比已有的純鈦表面修飾方法（TiN、陽極氧化）采用磨耗試驗機測試DLC薄膜的摩擦性;用能譜分析和掃描電鏡觀察DLC薄膜的表面成分與形態(tài);潤濕角測量儀檢測薄膜的潤濕性;細(xì)菌黏附試驗對比DLC薄膜黏附白色念珠菌的數(shù)量;改變沉積時間觀察DLC薄膜表面顏色變化;細(xì)胞毒性實驗測試DLC薄膜的生物安全性。3.臨床觀察滲氮類金剛石薄膜應(yīng)用效果。主要實驗結(jié)果如下:1類金剛石薄膜工藝參數(shù)的確定⑴①脈沖真空電弧離子源的鍍膜均勻性隨主回路電壓減小而變好。主回路電壓越小,膜厚分... 

【文章來源】：中國人民解放軍空軍軍醫(yī)大學(xué)陜西省 211工程院校

【文章頁數(shù)】：128 頁

【學(xué)位級別】：博士

【部分圖文】：

碳元素的同素異構(gòu)體對于類金剛石碳膜，至今尚無非常精確的定義和完全的統(tǒng)一概念，從組成成分來看，由于其成膜的碳原子的載體不盡一致，有含氫的，不含氫；從

圖 2 脈沖真空電弧離子鍍工作設(shè)備示意圖沖真空電弧離子源利用脈沖真空電弧離子鍍制備類金剛石薄膜，其臺脈沖真空電弧離子源，脈沖真空電弧離子源主要由陰極、陽極、三部分組成（見圖 2）。陰極由被蒸發(fā)的材料制成，脈沖真空電弧離門制作一個陽極，也可以把真空室或基片夾作陽極。脈沖真空電弧理基于冷陰極真空電弧放電，真空電弧可理解為封閉容器中的強電脈沖真空電弧離子源產(chǎn)生的真空電弧放電使陰極材料蒸發(fā)并電離，子體束流，這些等離子體一方面在基片（工件）上形成膜層，另一電弧放電。冷陰極真空電弧放電的電子發(fā)射機理主要是場致電子場致電子發(fā)射需要在陰極表面建立很強的電場，因此，僅靠脈沖真子源的陰極和陽極之間的電位差是不夠的，故需要引弧，引弧的方三種：①噴氣引弧法。向陰極表面噴射氣體，形成渦流，造成局部當(dāng)陰極前的氣壓滿足點燃條件，首先產(chǎn)生輝光放電，然后轉(zhuǎn)為弧光

第四軍醫(yī)大學(xué)博士學(xué)位論文主電極之間產(chǎn)生小電流放電，然后在兩個主電極之間加上不很高的氣體擊穿形成電弧。③接觸短路引弧法。用與陽極等電位的金屬觸極接觸短路，在觸頭剛分離的瞬間，電流將收縮到觸頭剛分離的某一數(shù)點上，表現(xiàn)出電阻的劇烈增大和溫度迅速提高，直至發(fā)生金屬的蒸發(fā)形成極高的電場強度，這樣就會導(dǎo)致強烈的場致發(fā)射和間隙的擊穿，成了真空電弧。


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