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表面處理對(duì)氧化鋯與飾面瓷之間剪切強(qiáng)度影響的體外研究

發(fā)布時(shí)間:2020-11-09 17:02
   目的: 本實(shí)驗(yàn)通過體外研究不同噴砂條件及不同表面粗化方法對(duì)氧化鋯與飾面瓷之間結(jié)合強(qiáng)度的影響,為氧化鋯的技工加工選擇合適的表面處理方法提供依據(jù)。 方法: 1.氧化鋯試件塊的制作:將氧化鋯陶瓷坯塊切割、致密性燒結(jié)成8mm×8mm×3mm(±0.02)186塊,隨機(jī)分為31組,每組6個(gè)試件塊。 2.實(shí)驗(yàn)分組:⑴根據(jù)不同的噴砂粉顆粒(A_1=75μm、A_2=110μm、A_3=150μm)、不同的噴砂壓強(qiáng)(B_1=0.2MPa、B_2=0.4MPa、B_3=0.6MPa)和不同的噴砂時(shí)間(C_1=10s、C_2=20s、C_3=30s)進(jìn)行組合,如A_1B_1C_1、A_1B_1C_2、A_1B_1C_3、A_1B_2C_1等共形成27組,分別進(jìn)行不同條件的噴砂處理。 ⑵根據(jù)氧化鋯表面不同的粗化方式,分為對(duì)照組、打磨組、噴砂組、打磨+噴砂組。對(duì)照組:氧化鋯表面不做處理;打磨組:金剛砂車針濕打磨;噴砂組:氧化鋁噴砂(110μm,0.4MPa,20s);打磨+噴砂組:金剛砂車針濕打磨后氧化鋁噴砂(110μm,0.4MPa,20s)。 3.實(shí)驗(yàn)測(cè)定:從每組選出一個(gè)標(biāo)本表面噴金后電子掃描電鏡觀察表面形態(tài),剩余標(biāo)本在氧化鋯處理面上粉漿涂塑法制作直徑為3mm,高為3mm的圓柱形飾面瓷,標(biāo)本加底座制成剪切試驗(yàn)試件(直徑為14mm高為5mm),用電子萬能測(cè)力計(jì)測(cè)最大剪切力(N),計(jì)算剪切強(qiáng)度(MPa),肉眼觀察并記錄試件的破壞形式,所得數(shù)據(jù)運(yùn)用SPSS16.0統(tǒng)計(jì)軟件進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析。 結(jié)果: 1.對(duì)于不同噴砂條件所測(cè)得剪切試驗(yàn)值進(jìn)行三因素析因分析,結(jié)果顯示:⑴因素“顆!钡闹餍(yīng)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.01),可認(rèn)為三種不同顆粒的噴砂粉對(duì)SB_S(Shear B_ond Strength,剪切粘結(jié)強(qiáng)度)有顯著性的影響;⑵因素“壓強(qiáng)”的主效應(yīng)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.01),可認(rèn)為在三種不同壓強(qiáng)下噴砂對(duì)SB_S有顯著性的影響;⑶因素“時(shí)間”的主效應(yīng)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.01),可認(rèn)為三種不同噴砂時(shí)間對(duì)SB_S有顯著性的影響;⑷因素“顆!迸c因素“壓強(qiáng)”存在交互作用(P0.01);⑸因素“顆!迸c因素“時(shí)間”存在交互作用(P0.05);⑹三因素之間存在交互作用(P0.01)。 2.對(duì)于不同噴砂條件所測(cè)得剪切試驗(yàn)值進(jìn)行單因素方差分析及LSD法(least significant difference,最小顯著差異)進(jìn)行組間兩兩比較,⑴以“顆!睘榉治鲆蛩,噴砂條件為B_2C_3、B_3C_1、B_3C_2時(shí),A_1組的SB_S值最大;噴砂條件為B_2C_2、B_3C_3時(shí),A_1A_2之間SB_S值無差異且都大于A_3組;噴砂條件為B_1C_3、B_2C_1時(shí),A_3組SB_S值最大。⑵以“壓強(qiáng)”為分析因素,在噴砂條件為A_3C_3時(shí),B_1組SB_S值最大;在噴砂條件為A_1C_2、A_1C_3、A_2C_2、A_2C_3、A_3C_1、A_3C_2時(shí)B_2組SB_S值最大;在噴砂條件為A_2C_1時(shí)B_2與B_3組SB_S值無差異且都大于B_1;在噴砂條件為A_1C_1時(shí),A_3組SB_S值最大。⑶以“時(shí)間”為分析因素,在噴砂條件為A_1B_3、A_2B_3、A_3B_3時(shí),C_1組SB_S值最大;在噴砂條件為A_1B_2、A_2B_2、A_3B_2時(shí),C_2組SB_S值最大;在噴砂條件為A_3B_1時(shí)C_3組SB_S值最大。 3.對(duì)于不同粗化處理所測(cè)得剪切試驗(yàn)值進(jìn)行單因素方差分析,4組試件塊之間的差別(P0.01),噴砂組所測(cè)得剪切強(qiáng)度最大P=34.10±0.97MPa,打磨組測(cè)得的剪切強(qiáng)度最小P=24.84±0.21MPa,再采用LSD法進(jìn)行組間兩兩比較,結(jié)果顯示對(duì)照組打磨組(P0.01);噴砂組對(duì)照組(P0.01);噴砂組打磨+噴砂組(P0.01);打磨+噴砂組對(duì)照組(P0.05)。 4.氧化鋯與飾面瓷之間的破壞方式主要是界面破壞。 結(jié)論: 1.在本實(shí)驗(yàn)中,在噴砂壓強(qiáng)為0.4Mpa,采用75μm或110μmA_l2O3噴砂粉噴砂20s時(shí),氧化鋯與飾面瓷之間的剪切強(qiáng)度最大。 2.在本實(shí)驗(yàn)中,在噴砂壓強(qiáng)為0.6Mpa,噴砂時(shí)間為30s時(shí),采用150μmA_l2O3噴砂粉噴砂,氧化鋯與飾面瓷之間的剪切強(qiáng)度最小。 3.打磨處理會(huì)降低氧化鋯與飾面瓷之間的剪切強(qiáng)度,臨床上氧化鋯基底冠表面應(yīng)避免打磨處理,若經(jīng)過打磨處理后應(yīng)再進(jìn)行噴砂處理。
【學(xué)位單位】:南昌大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位年份】:2013
【中圖分類】:R783.2
【部分圖文】:

示意圖,剪切試驗(yàn),示意圖,單因素


計(jì)方法所得剪切強(qiáng)度數(shù)值用 SPSS16.0 統(tǒng)計(jì)學(xué)軟件進(jìn)行三因,若組間有交互作用再對(duì)單獨(dú)效應(yīng)進(jìn)行單因素方方差分析有差別時(shí)再采用 LSD 檢驗(yàn)(Least significa圖 2.2 剪切試驗(yàn)示意圖

噴砂,輪廓圖,交互作用,顆粒


在噴砂時(shí)間為10s時(shí)顆粒與壓強(qiáng)的交互作用輪廓圖

噴砂,輪廓圖,交互作用,顆粒


在噴砂時(shí)間為20s時(shí)顆粒與壓強(qiáng)的交互作用輪廓圖
【引證文獻(xiàn)】

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1 羅克;廢棄鋁塑復(fù)合物界面解離作用研究[D];陜西科技大學(xué);2015年

2 萬里揚(yáng);熱堿溶液蝕刻對(duì)氧化鋯與樹脂粘結(jié)強(qiáng)度的影響實(shí)驗(yàn)研究[D];南昌大學(xué)醫(yī)學(xué)院;2015年



本文編號(hào):2876720

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