發(fā)布時(shí)間：2020-08-13 06:13

【摘要】：目的:了解Ⅱ類(lèi)高角骨面型矯治前后磨牙高度、下頜平面的變化及相互之間的關(guān)系;探討微種植支抗在Ⅱ類(lèi)高角骨面型垂直向控制中的作用。方法:按納入標(biāo)準(zhǔn)選取16例恒牙期Ⅱ類(lèi)高角骨面型病例,ANB5°(6.63±1.19)°,SN-MP37°(44.03±6.72)°,年齡13~30歲(20.88±5.70歲),均拔除四顆雙尖牙,采用直絲弓矯治技術(shù),配合微種植支抗或橫腭桿聯(lián)合微種植支抗。利用矯治前后X線頭影測(cè)量技術(shù),測(cè)量相關(guān)項(xiàng)目,評(píng)價(jià)矯治前后顱頜牙面軟硬組織變化及磨牙高度、下頜平面的變化。應(yīng)用SPSS17.0軟件對(duì)矯治前后數(shù)據(jù)進(jìn)行配對(duì)t檢驗(yàn),相關(guān)性采用Pearson相關(guān)分析,以P0.05為差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。結(jié)果:(1)矯治前后頜骨關(guān)系的變化:矯治后SNA、ANB減小,下頜平面SN-MP減小,矯治前后比較差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。(2)矯治前后牙與牙槽的變化:上頜磨牙高度U6-PP減小,矯治前后差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05);下頜磨牙高度L6-MP、U6-Ptm增加,矯治前后差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。U1-NA角、U1-NA距、L1-NB距、U1-PP、L1-MP減小,矯治前后差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。(3)矯治前后軟組織側(cè)貌指標(biāo)變化:矯治后上唇突度UL-SnPos、下唇突度LL-SnPos、頦唇角LL-Bs-Pos減小,Z角、面角NsPos-FH、頦溝傾角PosBs-FH增大,矯治前后差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。(4)矯治前后顱頜牙面軟硬組織變化的相關(guān)性:L1-NB距、L1-MP距變化與頦溝傾角變化呈負(fù)相關(guān)(P0.05),下唇突度變化與Z角變化呈負(fù)相關(guān)(P0.05)。(5)矯治前后上氣道矢狀徑變化:矯治后PNS-R、PNS-UPW、SPP-SPPW、U-MPW、PAS、V-LPW減小,矯治前后差異無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。(6)矯治前后顱頜牙面結(jié)構(gòu)變化與上氣道矢狀徑變化的相關(guān)性:矯治后SNA變化與SPP-SPPW變化,U1-NA距變化與PNS-ULW變化,L1-NB距變化與PNS-R變化,SN-MP變化與PAS變化均呈負(fù)相關(guān)關(guān)系(P0.05)。矯治后U1-NA角變化與U-MPW、PAS變化,L1-NB角變化與PNS-R變化均呈正相關(guān)關(guān)系(P0.05)。結(jié)論:(1)Ⅱ類(lèi)高角骨面型正畸掩飾性治療配合微種植支抗,可有效內(nèi)收前牙、控制后牙及下頜平面高度。在矯治上下頜垂直向、矢狀向不調(diào)方面,較傳統(tǒng)支抗有較明顯優(yōu)勢(shì)。(2)正畸掩飾性治療通過(guò)有效的支抗設(shè)計(jì),能夠改善Ⅱ類(lèi)高角骨面型患者的鼻唇頦關(guān)系和正、側(cè)貌外形。(3)Ⅱ類(lèi)高角骨面型正畸掩飾性治療后,上氣道矢狀徑可能發(fā)生程度不同的縮窄,提示我們矯治設(shè)計(jì)及治療過(guò)程中要注意該類(lèi)患者上氣道矢狀徑的變化,盡可能在改善患者正側(cè)貌美觀與維持上氣道通暢之間尋求平衡。
【學(xué)位授予單位】：右江民族醫(yī)學(xué)院
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2018
【分類(lèi)號(hào)】：R783.5
【圖文】：

3）Pos：軟組織頦前點(diǎn)4）Bs：下唇凹點(diǎn)5）LL：下唇突點(diǎn)6）UL：上唇突點(diǎn)7）Sn：鼻下點(diǎn)2.4.2 本研究相關(guān)平面測(cè)量項(xiàng)目：（見(jiàn)圖 1-2））腭平面（PP）：后鼻棘（PNS）到前鼻棘（ANS）的連線）眼耳平面（FH）：由耳點(diǎn)(Po)與眶點(diǎn)(Or)連線組成）下頜平面（MP）：頦下點(diǎn)（Me）與下頜角下緣相切的線）前顱底平面（SN）：由蝶鞍點(diǎn)（S）與鼻根點(diǎn)（N）之連線構(gòu)成）牙合平面（OP）：第一恒磨牙咬合中點(diǎn)與上下中切牙切緣間中點(diǎn)的連線

3）Pos：軟組織頦前點(diǎn)4）Bs：下唇凹點(diǎn)5）LL：下唇突點(diǎn)6）UL：上唇突點(diǎn)7）Sn：鼻下點(diǎn)2.4.2 本研究相關(guān)平面測(cè)量項(xiàng)目：（見(jiàn)圖 1-2））腭平面（PP）：后鼻棘（PNS）到前鼻棘（ANS）的連線）眼耳平面（FH）：由耳點(diǎn)(Po)與眶點(diǎn)(Or)連線組成）下頜平面（MP）：頦下點(diǎn)（Me）與下頜角下緣相切的線）前顱底平面（SN）：由蝶鞍點(diǎn)（S）與鼻根點(diǎn)（N）之連線構(gòu)成）牙合平面（OP）：第一恒磨牙咬合中點(diǎn)與上下中切牙切緣間中點(diǎn)的連線

（4）L1-MP：下頜中切牙切緣至下頜平面（MP）垂直距離（5）U6-PP：上頜第一磨牙近中頰尖的最高點(diǎn)至腭平面（PP）的垂直距離（6）L6-MP：下頜第一磨牙近中頰尖的最高點(diǎn)至下頜平面（MP）的垂直距離（7）L1-NB 距：下中切牙切緣到鼻根點(diǎn)至下齒槽座點(diǎn)連線的距離（8）U6-Ptm：翼上頜裂垂線至上頜第一恒磨牙頰溝垂線距離（9）UL-SnPos：上唇最突點(diǎn)（UL）至鼻下點(diǎn)（Sn)與軟組織頦前點(diǎn)連線（Sn-Pos 線）的距離（10）LL- SnPos：下唇最突點(diǎn)（LL）至鼻下點(diǎn)（Sn)與軟組織頦前點(diǎn)連線（Sn-Pos 線）的距離（11）UL-SnPos-LL-SnPos： UL-SnPos 距減 LL-SnPos 距的差值

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 吳欣;劉國(guó)元;蔣勇聯(lián);季玉花;楊沛蕾;葉彩;;微種植體支抗矯治高角開(kāi)牙合病例的臨床研究[J];口腔醫(yī)學(xué)研究;2015年09期

2 王巧靜;黃振賢;肖立偉;;正畸負(fù)載下微種植支抗移位的研究進(jìn)展[J];國(guó)際口腔醫(yī)學(xué)雜志;2015年05期

3 殷飛云;張漫;;微種植體支抗矯治成人高角型深覆的臨床應(yīng)用[J];中國(guó)口腔種植學(xué)雜志;2015年01期

4 包晨剛;;影響微種植釘支抗的臨床穩(wěn)定性因素研究[J];北華大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2014年05期

5 高冬玲;金

本文編號(hào)：2791636