【摘要】：目的:研究不同支抗下無托槽隱形矯治器遠移上頜磨牙時,前牙區(qū)的受力情況,為臨床隱形矯治器推上頜磨牙遠移時支抗選擇和設計提供參考。方法:選取個別正常合女性志愿者一名,上頜智齒已拔除,上頜結節(jié)區(qū)骨組織完整。對其頜面部進行CBCT掃描,通過Mimics、Geomagic Studio12.0及Pro/E5.0等軟件建立上頜骨、上頜牙列、牙周膜及無托槽隱形矯治器的三維模型,應用Hyperrmesh12.0進行有限元網格劃分,ANSYS WORKBENCH為有限元分析工具,建立高質量的有限元模型。模擬無托槽隱形矯治器在不同支抗條件下推上頜磨牙遠移,移動步距均為0.2mm,組一以頜內1-6為支抗,推上頜單顆磨牙7遠移;組二以頜內1-5為支抗,推上頜6、7一起遠移;組三以頜內1-5為支抗,同時配合頜間II類牽引,推上頜6、7一起遠移;組四以頜內1-5為支抗,同時借助頜內同側5、6之間種植體支抗,推6、7一起遠移。觀察不同支抗下前牙區(qū)的牙周膜應力分布及位移趨勢。結果:從牙周膜等效應力分布可見,組一、組二上頜中切牙牙周膜的Von-Mises應力主要集中于唇側頸緣,側切牙集中于近中面頸緣,尖牙集中于唇側頸緣和近中面頸緣,組二的應力集中面積約為組一的兩倍。組三、組四上頜中切牙牙周膜的Von-Mises應力主要集中于唇側頸緣和舌側頸緣,側切牙集中于近中面頸緣和舌側頸緣,尖牙集中于唇側頸緣、舌側頸緣及近中面頸緣,且組三、組四唇側牙周膜受力面積明顯小于組二。四個組的前牙唇側牙周膜應力集中情況為組二組三組四組一。從上頜前牙位移趨勢圖可見,組一前牙區(qū)的唇向位移量最小,支抗丟失最少;組二前牙區(qū)唇側位移量最大,約為組一的兩倍;組三、組四上頜前牙的唇向位移量明顯小于組二。四組上頜前牙的唇向位移組二組三組四組一。結論:無托槽隱形矯治器推磨牙遠移的過程中,四種支抗方式均伴有不同程度的前牙唇傾,支抗消耗。牙齒的移動趨勢表現為唇舌向移動近遠中向移動垂直向移動,且中切牙位移量最大,側切牙移動量最小。從磨牙遠移方式來看:單顆磨牙遠移,前牙唇向位移量最小,支抗丟失量最少;整體遠移磨牙配合種植體支抗牽引力2N,前牙唇側牙周膜應力集中面積基本等同單顆磨牙遠移;采用種植體支抗推磨牙遠移時,與頜間II類牽引比較,上前牙出現更明顯的壓低效應。
【學位授予單位】：蘭州大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2019
【分類號】：R783.5
【圖文】：

值的方法表達牙周膜。將牙齒與頜骨相交部分進行數據選擇，設計牙周膜厚均勻的 0.25mm[57]，通過布爾運算向外沿法線擴展 0.25mm，建立牙周膜數圖 2-7)。接下來進行隱形矯治器建模，單獨移動右側上頜第二磨牙向遠中mm，選擇移動后的牙列的牙冠部分，向外沿法線擴展 0.75mm[48、52]，即為隱治器膜片的厚度，去除牙齒相重疊部分，同時沿牙頸緣的弧度剪去齦方多余分，得到遠中移動磨牙后的矯治器數據，對此數據進行建模，存儲為 IGES（圖 2-8）。將建立了包括上頜牙槽骨、上頜牙齒、牙周膜、無托槽隱形矯治器的三維數合，存儲為 IGES 格式導入 Pro/E 軟件，進行組裝，建立完整的上頜牙列的有限元模型（圖 2-9）。 實驗圖片.1 影像數據處理

三角片存在孔洞，修補模型

依據曲率提取輪廓線，構造曲面片，構造柵格，曲面擬合

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本文編號：2787170