鄰面不同去釉方法對(duì)牙釉質(zhì)影響的實(shí)驗(yàn)研究
發(fā)布時(shí)間:2020-07-09 10:27
【摘要】: 實(shí)驗(yàn)一鄰面不同去釉方法對(duì)牙釉質(zhì)的影響 目的通過離體雙尖牙的體外PH循環(huán)實(shí)驗(yàn),觀察、測(cè)定和比較采用鄰面不同去釉方法后牙釉質(zhì)的再礦化效果,旨在找到一種臨床效果較好的鄰面去釉方法,以利于臨床的使用。 方法收集因正畸減數(shù)的雙尖牙50顆,沿牙體長(zhǎng)軸縱向劈開得到100個(gè)樣本。隨機(jī)分為Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ,Ⅳ,V五組,每組20個(gè)樣本。各組采用不同的鄰面去釉方法如下:組Ⅰ,片切砂條;組Ⅱ,片切盤;組Ⅲ,片切砂條+拋光+35%磷酸;組Ⅳ,片切盤+拋光+35%磷酸;組V,未去釉組。.對(duì)每組的樣本經(jīng)過體外PH循環(huán)(每天脫礦液中脫礦1小時(shí),其余時(shí)間置于人工唾液中)30天后采用定性(掃描電鏡)及定量(顯微硬度儀)檢測(cè),并采用SPSS13.0統(tǒng)計(jì)分析軟件對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行方差分析。 結(jié)果①經(jīng)統(tǒng)計(jì)學(xué)方差分析(F=13.89),五組間的顯微硬度值有高度統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P=0.000)。由顯微硬度的平均值來看,組Ⅱ最低,組Ⅲ最高。各組的顯微硬度值兩兩比較看,組Ⅰ與組Ⅱ,組Ⅲ與組Ⅳ間差別沒有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05);組Ⅰ與組Ⅲ,組Ⅰ與組Ⅳ,組Ⅱ與組Ⅲ,組Ⅱ與組Ⅳ有高度統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.01);組Ⅰ與組Ⅴ,組Ⅱ與組Ⅴ,組Ⅲ與組Ⅴ,組Ⅳ與組Ⅴ間差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)②肉眼及掃描電鏡觀察,組Ⅲ及組Ⅳ沒有明顯不同,但均優(yōu)于其余幾組。 結(jié)論①去釉盤和去釉砂條的去釉效果沒有明顯的不同。②化學(xué)拋光組的再礦化效果優(yōu)于未拋光組及對(duì)照組。③鄰面去釉后釉質(zhì)表面的劃痕,即使經(jīng)再礦化也難以恢復(fù)。 實(shí)驗(yàn)二不同氟保護(hù)劑對(duì)牙釉質(zhì)再礦化的實(shí)驗(yàn)研究 目的通過離體雙尖牙的體外PH循環(huán)實(shí)驗(yàn),觀察、測(cè)定和比較采用不同氟保護(hù)劑后牙齒的再礦化效果,旨在找到一種效果相對(duì)較好的氟保護(hù)劑,以便于臨床的使用。 方法根據(jù)實(shí)驗(yàn)一的結(jié)果,選擇再礦化效果相對(duì)較好的鄰面去釉方法,即方法Ⅲ和方法Ⅳ。收集因正畸減數(shù)的雙尖牙30顆,沿牙體長(zhǎng)軸縱向劈開得到60個(gè)樣本。隨機(jī)分為A,B兩組,每組30個(gè)樣本。A組采用實(shí)驗(yàn)一的方法Ⅲ,即片切砂條+拋光+35%磷酸;B組采用實(shí)驗(yàn)一的方法Ⅳ,即片切盤+拋光+35%磷酸。每組再根據(jù)不同的氟保護(hù)劑隨機(jī)分為Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ三個(gè)亞組,每亞組10個(gè)樣本。Ⅰ組去釉后應(yīng)用氟保護(hù)漆,Ⅱ組去釉后應(yīng)用氟化泡沫,Ⅲ組去釉后未采用任何氟保護(hù)劑。經(jīng)過體外PH循環(huán)(每天脫礦液中脫礦1小時(shí),其余時(shí)間置于人工唾液中)15天后采用定性(掃描電鏡)及定量(顯微硬度儀)檢測(cè),并采用SPSS13.0統(tǒng)計(jì)分析軟件對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行單因素方差分析。 結(jié)果①實(shí)驗(yàn)A組的顯微硬度值經(jīng)統(tǒng)計(jì)學(xué)方差分析(F=11.73),三組間的顯微硬度有顯著性差異(P=0.0015)。從顯微硬度均值來看,Ⅰ組(氟保護(hù)漆)最高,Ⅲ組(對(duì)照組)最低。三亞組的顯微硬度值的兩兩比較看,Ⅰ組(氟保護(hù)漆)與Ⅱ組(氟化泡沫)間差別沒有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05),Ⅰ組(氟保護(hù)漆)與Ⅲ組(對(duì)照組)有高度統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.01),Ⅱ組(氟化泡沫)與Ⅲ組(對(duì)照組)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。②實(shí)驗(yàn)B組的顯微硬度值經(jīng)統(tǒng)計(jì)學(xué)方差分析(F=9.33),三組間的顯微硬度有顯著性差異(P=0.0036)。從顯微硬度均值來看,Ⅰ組(氟保護(hù)漆)最高,Ⅲ組(對(duì)照組)最低。三組的顯微硬度值的兩兩比較看Ⅰ組(氟保護(hù)漆)與Ⅱ組(氟化泡沫)間差別沒有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05),Ⅰ組(氟保護(hù)漆)與Ⅲ組(對(duì)照組)有高度統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.01),Ⅱ組(氟化泡沫)與Ⅲ組(對(duì)照組)有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。③肉眼及掃描電鏡觀察,Ⅰ組(氟保護(hù)漆)與Ⅱ組(氟化泡沫)沒有明顯的不同,但均優(yōu)于對(duì)照組。 結(jié)論①鄰面去釉并涂氟制劑后,經(jīng)過體外PH循環(huán),去釉面有一定的再礦化發(fā)生。②氟保護(hù)漆和氟化泡沫對(duì)去釉后的牙釉質(zhì)均有良好的再礦化作用,其效果沒有明顯的不同。③鄰面去釉后釉質(zhì)表面的劃痕,即使經(jīng)再礦化也難以恢復(fù)。
【學(xué)位授予單位】:青島大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2010
【分類號(hào)】:R783.5
【圖文】:
l)}一切盤組鄰面去釉后的電鏡照片
圖2.1.1片切條組鄰面去釉后的電鏡照少{2.2片切盤組鄰面去釉后的掃描電鏡觀察結(jié)圖2.2,l)}片切條和片切盤去釉后孔隙更加明顯。一切盤組鄰面去釉后的電鏡照片釉質(zhì)表面形成較大的孔隙。在5000倍的放大倍數(shù)下
圖2.3.1片切條一化學(xué)拋光組鄰面去釉后的電鏡照2.4片切盤+化學(xué)拋光組鄰面去釉后的掃描電鏡觀察結(jié)果圖2,4.1片切盤+化學(xué)拋光組鄰面去釉后的電鏡照片化學(xué)拋光后,低倍鏡下可以看到釉質(zhì)表面的孔隙相對(duì)疏松,高倍鏡下類似魚皮鱗樣。2.5對(duì)照組的掃描電鏡觀察結(jié)果
本文編號(hào):2747325
【學(xué)位授予單位】:青島大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2010
【分類號(hào)】:R783.5
【圖文】:
l)}一切盤組鄰面去釉后的電鏡照片
圖2.1.1片切條組鄰面去釉后的電鏡照少{2.2片切盤組鄰面去釉后的掃描電鏡觀察結(jié)圖2.2,l)}片切條和片切盤去釉后孔隙更加明顯。一切盤組鄰面去釉后的電鏡照片釉質(zhì)表面形成較大的孔隙。在5000倍的放大倍數(shù)下
圖2.3.1片切條一化學(xué)拋光組鄰面去釉后的電鏡照2.4片切盤+化學(xué)拋光組鄰面去釉后的掃描電鏡觀察結(jié)果圖2,4.1片切盤+化學(xué)拋光組鄰面去釉后的電鏡照片化學(xué)拋光后,低倍鏡下可以看到釉質(zhì)表面的孔隙相對(duì)疏松,高倍鏡下類似魚皮鱗樣。2.5對(duì)照組的掃描電鏡觀察結(jié)果
【引證文獻(xiàn)】
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1 夏悅;楊四維;;正畸鄰面去釉后的防齲處理[J];瀘州醫(yī)學(xué)院學(xué)報(bào);2012年06期
本文編號(hào):2747325
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