【摘要】：目的 本實驗主要研究三種不同全瓷冠系統(tǒng)制作的底層冠邊緣適合性，為臨床應(yīng)用提供理論依據(jù)。 方法 通過模擬下頜前磨牙來加工一個金屬主代型，然后復(fù)制12個環(huán)氧樹脂子代型，隨機(jī)分為4組，分別制作鎳鉻金屬烤瓷冠、 IPS-Empess2陶瓷冠、GI-II全瓷冠、Cerec3D全瓷冠系統(tǒng)各3個，粘接（3M-Relyx Unicem），包埋，片切，用掃描電鏡(SEM）來評價冠的適合性，用Smile view軟件測量邊緣，肩臺，軸面，牙合面的粘固劑垂直距離，然后計算各個距離的平均值和標(biāo)準(zhǔn)差，采用單因素方差分析和q檢驗來進(jìn)行統(tǒng)計分析。 結(jié)果 鎳鉻金屬烤瓷，IPS-Empess陶瓷， Cere3系統(tǒng)全瓷，GI-II全瓷，的邊緣適合性分別為(88.2±21.2μm)，（65.1±11.1μm)，（87.4±8.9μm），（108.9±12.5μm）,肩臺適合性分別為（109.9±12.4μm）（87.0±11.0μm），（107.9±21.0μm）,(117.4±15.5μm）軸面適合性分別為（41.8±8.0μm）,(62.6±12.0μm),（93.9±35.5μm）,(116.5±6.2μm）。牙合面適合性分別為（106.9±14.0μm）(64.6±27.0μm)，（213.2±29.0μm），（107.3±11.2μm）。各種全瓷系統(tǒng)邊緣適合性之間有顯著差異(P＜0.05），IPS-Empress2系統(tǒng)制作的冠邊緣的間隙最小，GI-II系統(tǒng)制作全瓷冠的邊緣間隙最大。 結(jié)論 三種全瓷系統(tǒng)底層冠的邊緣適合性都在120μm臨床接受的范圍之內(nèi)。IPS-Empess系統(tǒng)邊緣間隙最小且均勻一致，邊緣適合性最高，GI-II系統(tǒng)邊緣間隙雖然最大且不均勻，但符合臨床上適合性的要求。
【學(xué)位授予單位】：遼寧醫(yī)學(xué)院
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2012
【分類號】：R783

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號：2738179