【摘要】： 目的: 本實驗以離體前磨牙為研究對象,運用掃描電鏡觀察不同酸蝕體系和時間對牙本質(zhì)粘接界面納米滲漏的影響,評價粘接劑邊緣封閉性,以期尋找合適的酸蝕時間與方法,為臨床使用提供實驗依據(jù)。 方法: 將45顆離體前磨牙,分別用320目、400目、600目碳化硅砂紙在流水沖洗下預(yù)備出牙本質(zhì)粘接面玷污層。隨機分為5組,除E組5顆外,A組、B組、C組、D組每組10顆牙,分別酸蝕0s、15s、30s、45s后再分別使用SB和PB粘接劑處理每個亞組5顆牙;E組:使用AP粘接劑;制件,銀染后制作電鏡標(biāo)本,SEM下觀察并照相。 結(jié)果: 1.SEM觀察 A組中未見銀染顆粒,未見納米滲漏;其余組均可見銀的積聚,呈線狀或點狀,納米滲漏程度不一,B組與E組最少,D組SB亞組最多。 2.NIH Image數(shù)據(jù)分析 A組為零;B組的SB與PB亞組納米滲漏差異無統(tǒng)計學(xué)意義(P＞0.05);C組和D中SB亞組產(chǎn)生的納米滲漏比PB亞組產(chǎn)生的納米滲漏大,差異具有統(tǒng)計學(xué)意義(P＜0.05)。SB和PB在不同酸蝕時間下(除不酸蝕組)差異均有統(tǒng)計學(xué)意義(P＜0.05),即產(chǎn)生的納米滲漏值隨酸蝕時間的延長而顯著增加。E組AP與B組SB和PB相比,納米滲漏差異不具有統(tǒng)計學(xué)意義(P＞0.05);而與C組、D組的納米滲漏差異具有統(tǒng)計學(xué)意義(P＜0.05),即按操作要求的AP粘接后產(chǎn)生的納米滲漏均比酸蝕30秒或45秒后分別使用SB和PB粘接劑產(chǎn)生的納米滲漏小。 結(jié)論: 1.全酸蝕粘接系統(tǒng)與自酸蝕粘接系統(tǒng)均能產(chǎn)生納米滲漏; 2.全酸蝕粘接中,牙本質(zhì)粘接界面的納米滲漏隨酸蝕時間的延長而顯著增加,SB受酸蝕時間影響的程度較PB大; 3.自酸蝕粘接劑AP與全酸蝕粘接劑SB、PB在酸蝕15秒后產(chǎn)生的納米滲漏無顯著差異。
【學(xué)位授予單位】：中南大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2009
【分類號】：R783
【圖文】：

E組AP粘接100OX

【參考文獻】

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本文編號：2719035