【摘要】：目的：探討CAD/CAM氧化鋯全瓷冠與氧化鋯基臺的適合性及其對種植修復的指導意義。 方法：選取自制氧化鋯基臺和Osstem GSⅡ金屬鈦基臺各20個,分為A、B兩組,A組應用CAD/CAM技術針對氧化鋯基臺制作氧化鋯全瓷冠20個,B組應用技工用基臺間隙帽鑄造法針對鈦基臺制作鉆鉻合金烤瓷冠20個,然后分別將兩種冠修復體安裝于兩種基臺上,檢測修復體是否完全就位；應用改良的Modified USPHS標準對修復體進行邊緣適合性評價；采用硅橡膠印模法復制冠與基臺之間的微間隙模型,將模型修整后沿近遠中、頰舌向及橫向剖開,在掃描電鏡下測量微間隙厚度。 結果： 1.冠回位率： A(氧化鋯基臺-氧化鋯全瓷冠組)、B(鈦基臺-鈷鉻烤瓷冠組)兩組冠修復體均能順利就位,冠回位率均為100%。 2.邊緣適合性評價：A組(氧化鋯基臺-氧化鋯全瓷冠組)適合性達到A級的18例/90%達到B級的2例/10%C級與D級均為0；B組(鈦基臺-鈷鉻烤瓷冠組)適合性達到A級的16例/80%,達到B級的4例/20%,C級與D級均為0。經非參數(shù)秩和檢驗,兩組冠適合性評價的比較無統(tǒng)計學意義(P0.05)。 3.適合性測定 3.1基臺與冠間的軸面適合性：A組為28.4±0.58μm,B組為35.2±0.23 u m,A組的軸面適合性值小于B組,兩組數(shù)組的比較具有統(tǒng)計學意義(P0.05)。 3.2基臺與冠間橫截面適合性：A組為35.5±0.35 u m,B組為35.7±0.46 u m,兩組數(shù)組的比較具無統(tǒng)計學意義(P0.05) 3.3基臺與冠間的肩臺部適合性：A組為23.5±0.35μm,B組為45.5±0.43μm,A組的肩臺部適合性值小于B組,兩組數(shù)組的比較具有統(tǒng)計學意義(P0.05)。 結論： ].、氧化鋯基臺與氧化鋯全瓷冠之間顯示了良好的適合性,其機械精度可滿足臨床應用。 2、CAD/CAM制作的氧化鋯全瓷冠與氧化鋯基臺的適合性優(yōu)于傳統(tǒng)的技工用基臺間隙帽鑄造法制作的金屬基底烤瓷冠。
【學位授予單位】：青島大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2012
【分類號】：R783.3

【參考文獻】

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本文編號：2684449