焦慮癥是常見的情緒障礙類疾病,嚴重影響著患者正常生活并危害其身心健康。前額葉皮層是焦慮的重要責(zé)任腦區(qū)。應(yīng)用清醒動物在體多通道微電極陣列記錄技術(shù)可以同時獲取大鼠在高架十字迷宮（EPM）焦慮狀態(tài)的動作電位和行為學(xué)數(shù)據(jù)�；跇O大似然估計方法（MLE）構(gòu)建動作電位因果網(wǎng)絡(luò),計算網(wǎng)絡(luò)連接強度和全局效率,定量表征大鼠焦慮狀態(tài)內(nèi)側(cè)前額葉皮層動作電位因果網(wǎng)絡(luò)連接模式。研究發(fā)現(xiàn)大鼠在高架十字迷宮封閉臂的進入次數(shù)（44.13±6.99）和停留時間（439.76±50.43）s,均高于開放臂的進入次數(shù)（16.50±3.25,P<0.001）和停留時間[（160.23±48.22）s,P<0.001]。封閉臂中的動作電位因果網(wǎng)絡(luò)連接強度（0.017 3±0.003 6）和全局效率（0.044 2±0.012 8）,均高于開放臂的網(wǎng)絡(luò)連接強度（0.010 4±0.003 2,P<0.01）和全局效率（0.034 8±0.011 4,P<0.001）,從封閉臂走向開放臂過程中連接強度與全局效率減弱。結(jié)果表明內(nèi)側(cè)前額葉皮層動作電位因果網(wǎng)絡(luò)變化與焦慮狀態(tài)有關(guān),該結(jié)果可為研究焦慮狀態(tài)的前額葉皮層... 

【文章來源】：生物醫(yī)學(xué)工程學(xué)雜志. 2020,37(03)北大核心EICSCD

【文章頁數(shù)】：10 頁

【部分圖文】：

大鼠高架十字迷宮焦慮狀態(tài)任務(wù)行為學(xué)示意圖

為獲取大鼠內(nèi)側(cè)前額葉皮層動作電位，在大鼠內(nèi)側(cè)前額葉皮層在體植入16通道微電極陣列（本實驗室自制）。手術(shù)前使用戊巴比妥鈉（Sigma公司，美國）按照40 mg/kg的劑量進行深度麻醉。大鼠固定于腦立體定位儀（深圳瑞沃德生命科技有限公司，中國）上，使用碘伏和75%酒精對大鼠頭皮消毒后，沿顱骨矢狀縫方向剪開皮膚。以前囟點為參考參照大鼠立體定位腦圖譜[15]找到內(nèi)側(cè)前額葉皮層腦區(qū)對應(yīng)的區(qū)域（前囟前2.5～4.5 mm，旁開0.1～1.1 mm，深度2.5～3.0 mm）。使用電動顱骨鉆（Foredom公司，美國）在目標(biāo)腦區(qū)的顱骨四周上開一個矩形窗口，剝離硬腦膜，盡量避免損傷腦組織。顱骨上安置螺釘來進行固定。電極垂直植入目標(biāo)腦區(qū)，使用造牙粉（上海新世紀齒科材料有限公司，中國）將螺釘、顱骨組織以及電極固定在一起，形成整體。待大鼠完全清醒后單籠飼養(yǎng)。大鼠術(shù)后恢復(fù)期間實驗人員每天撫摸大鼠15 min，使大鼠盡快熟悉實驗人員，減少實驗干擾。圖3為實驗后電極組織學(xué)檢驗得到的電極植入位置與腦圖譜對比示意圖。圖中可以看出電極植入位置在大鼠內(nèi)側(cè)前額葉前邊緣皮層（prelimbic cortex,PrL）區(qū)域。圖3 電極植入位置與腦圖譜對比示意圖

電極植入位置與腦圖譜對比示意圖


本文編號：3322443