目的建立單次大劑量X射線照射的小鼠放射性口腔黏膜炎模型。方法采用X射線單次照射小鼠頭頸部的造模方式,將SPF級(jí)C57BL/6J小鼠55只,隨機(jī)分為正常對(duì)照組,15、16、17和18 Gy照射組,每組11只,其中8只用于觀察照后30 d存活和體質(zhì)量變化,另外3只于照后9 d活殺,取舌組織進(jìn)行甲苯胺藍(lán)染色、HE染色和Ki67免疫組化標(biāo)記,根據(jù)舌黏膜損傷程度確定最佳照射劑量。結(jié)果 15和16 Gy照射組小鼠30 d存活率分別為87.5%和12.5%,17、18 Gy照射組小鼠在11 d內(nèi)全部死亡,照后9 d為最佳取材時(shí)間。15～18 Gy照射組小鼠口腔黏膜甲苯胺藍(lán)染色均可見陽性著色,HE染色和Ki67免疫組化結(jié)果提示經(jīng)X射線一次性頭頸部照射劑量17 Gy,能顯著減少小鼠舌尖和舌背的上皮厚度以及上皮增殖細(xì)胞數(shù)量。結(jié)論 C57小鼠經(jīng)17 Gy一次性頭頸部照射,可用于放射性口腔黏膜炎模型的相關(guān)研究。
【部分圖文】：

腔?掀は赴?（舌尖、舌背）和非角化上皮細(xì)胞（舌腹）等結(jié)構(gòu)正常。X射線照射后，舌尖和舌背的角化上皮結(jié)構(gòu)紊亂，基底層排列不連續(xù)，其下出現(xiàn)大量炎性細(xì)胞浸潤(rùn)，毛細(xì)血管擴(kuò)張充血，上皮厚度變�。▓D3A）。在上皮厚度方面，以舌尖部分最敏感，15~18Gy照射組舌尖黏膜厚度明顯變薄，與正常組相比均有顯著差異（P<0.001）。舌背的黏膜層在15Gy照射劑量下表現(xiàn)為黏膜增生，上皮厚度較正常組略微增加，但差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義；16Gy照射時(shí)，角化上皮結(jié)構(gòu)崩解，但上皮厚度與正常組相比差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義圖1不同劑量X射線局部照射對(duì)C57小鼠體質(zhì)量和存活的影響A.對(duì)照組及15、16、17、18Gy照射組小鼠30d體質(zhì)量變化曲線；B.各組小鼠30d生存曲線189

??攵哉兆橄啾炔?異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義（P<0.001）（圖1B）。根據(jù)小鼠最低體質(zhì)量時(shí)間和中位生存時(shí)間的結(jié)果，確定15~18Gy照射后第9天為可行的取材時(shí)間。22.2不同劑量X線照射后小鼠舌體大體觀察正常小鼠舌體黏膜呈粉紅色、質(zhì)嫩，甲苯胺藍(lán)染液無著色。經(jīng)X射線照射后，照射組小鼠舌黏膜下充血，舌背潰瘍面產(chǎn)生，甚至出現(xiàn)水泡。甲苯胺藍(lán)染色后病損區(qū)著色陽性。15、16GyX射線照射后，肉眼可見散在點(diǎn)狀破損，隨著照射劑量增加至17和18Gy，舌背出現(xiàn)成片潰瘍，舌體顏色變深（圖2）。圖2X射線頭頸部照射后小鼠舌體大體觀察結(jié)果（1％甲苯胺藍(lán)染色）22.3不同照射劑量對(duì)頭頸部照射小鼠口腔黏膜的影響正常小鼠舌黏膜組織結(jié)構(gòu)完整，角化上皮細(xì)胞（舌尖、舌背）和非角化上皮細(xì)胞（舌腹）等結(jié)構(gòu)正常。X射線照射后，舌尖和舌背的角化上皮結(jié)構(gòu)紊亂，基底層排列不連續(xù)，其下出現(xiàn)大量炎性細(xì)胞浸潤(rùn)，毛細(xì)血管擴(kuò)張充血，上皮厚度變�。▓D3A）。在上皮厚度方面，以舌尖部分最敏感，15~18Gy照射組舌尖黏膜厚度明顯變薄，與正常組相比均有顯著差異（P<0.001）。舌背的黏膜層在15Gy照射劑量下表現(xiàn)為黏膜增生，上皮厚度較正常組略微增加，但差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義；16Gy照射時(shí)，角化上皮結(jié)構(gòu)崩解，但上皮厚度與正常組相比差異無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義圖1不同劑量X射線局部照射對(duì)C57小鼠體質(zhì)量和存活的影響A.對(duì)照組及15、16、17、18Gy照射組小鼠30d體質(zhì)量變化曲線；B.各組小鼠30d生存曲線189

軍事醫(yī)學(xué)2020年3月第44卷第3期MilMedSci，Vol44，No3，Mar，2020（圖3B）；17、18Gy照射時(shí)，舌背上皮厚度與正常組相比明顯變薄，差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義（P<0.001）（圖3C）。22.4不同照射劑量對(duì)小鼠角化上皮細(xì)胞增殖的影響正常組小鼠角化上皮細(xì)胞增殖明顯，增殖的細(xì)胞在基底層緊密排列。經(jīng)X射線照射后，Ki67增殖細(xì)胞迅速減少（圖4A），以舌尖部分的上皮細(xì)胞增殖抑制作用最顯著，15~18Gy照射均能顯著減少Ki67陽性細(xì)胞數(shù)量（P<0.001）（圖4B）。舌背的上皮細(xì)胞在15Gy照射劑量下與正常組相比增殖細(xì)胞數(shù)量顯著增加，差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義（P<0.001），該結(jié)果與舌背在15Gy照射劑量下黏膜層增生的結(jié)果一致；16Gy照射時(shí)，固有層增殖細(xì)胞排列紊亂，但增殖細(xì)胞數(shù)量與對(duì)照組相比無明顯減少；17、18Gy照射時(shí)，增殖細(xì)胞數(shù)顯著降低，與對(duì)照組相比差異有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義（P<0.05，P<0.001）（圖4C）。圖3不同劑量X射線局部照射對(duì)C57小鼠舌黏膜的影響A.小鼠舌尖、舌背部HE染色（比例尺為200μm）；B、C.各組舌尖和舌背上皮厚度的定量分析，***P<0.001，與正常對(duì)照組相比圖4不同劑量X射線局部照射對(duì)角化上皮細(xì)胞增殖的影響A.小鼠舌尖、舌背部免疫組化Ki67檢測(cè)（比例尺為200μm）；B、C.各組舌尖和舌背Ki67陽性細(xì)胞的定量分析，*P<0.05，***P<0.001，與正常對(duì)照組相比190
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