本文關鍵詞：基于腦表面形態(tài)學分析在特發(fā)性全面性癲癇的應用

  更多相關文章： 癲癇 特發(fā)性全面性 磁共振成像 腦形態(tài)學分析

【摘要】：目的應用基于腦表面形態(tài)學的分析,探討特發(fā)性全面性癲癇(IGE)腦皮層的結構改變。方法收集IGE患者16例(IGE組)和健康志愿者16名(對照組),均行常規(guī)序列和高分辨率3D-T1WI結構像采集。利用FreeSurer軟件測量腦皮層厚度、表面積及灰質體積,并分析形態(tài)學異常腦區(qū)與病程的相關性。結果與對照組比較,IGE組右顳中回皮層變薄(P=0.010 9),左顳中回表面積減小(P=0.000 3),左額下回中部(P=0.000 2)、左外側枕葉(P=0.043 6)、右島葉(P=0.000 7)表面積增大;左顳上回體積減小(P=0.011 9)。皮層厚度、腦表面面積、腦灰質體積與病程、發(fā)病起始年齡均無相關性(P均0.05);右顳中回皮層厚度與病程呈負相關(r=-0.48,P0.05)。結論 IGE存在多個腦區(qū)微觀結構的形態(tài)學異常�；谀X表面形態(tài)學分析可為IGE提供一定的影像學依據。
【作者單位】： 遵義醫(yī)學院附屬醫(yī)院影像科貴州省醫(yī)學影像中心;遵義市第一人民醫(yī)院影像科;
【關鍵詞】： 癲癇 特發(fā)性全面性 磁共振成像 腦形態(tài)學分析
【基金】：國家自然科學基金(81360218)
【分類號】：R445.2;R742.1
【正文快照】： 特發(fā)性全面性癲癇(idiopathic generalized epilep-sies,IGE)是臨床最常見的特發(fā)性癲癇,占全部癲癇的1/3[1-2]。30%的癲癇藥物治療無效(難治性癲癇),手術治療效果較好。因此,術前明確致癇灶非常重要。常規(guī)MR檢查常不能發(fā)現IGE病灶。本研究采用基于腦表面形態(tài)學的分析方法,對IG

【相似文獻】

中國期刊全文數據庫 前2條

1 王東成;;經額葉入路手術治療高血壓腦基底節(jié)區(qū)出血14例分析[J];中國實用神經疾病雜志;2006年05期

2 ;[J];;年期

中國重要會議論文全文數據庫 前1條

1 雷町;張恒;方媛;劉家剛;陳海峰;李浩;;經顳中回入路選擇性海馬杏仁核切除治療顳葉內側性癲癇術后病人神經功能的影響及療效觀察[A];中華醫(yī)學會神經外科學分會第九次學術會議論文匯編[C];2010年

，

本文編號：573278