【摘要】：研究目的 通過體外培養(yǎng)大腦皮層細胞,并進行不同低氧濃度處理,觀察低氧對大腦皮層細胞凋亡的影響;檢測在不同低氧濃度處理后大腦皮層細胞NO水平和活性氧水平,探討低氧對大腦皮層細胞凋亡及ROS、NO產(chǎn)生水平的影響機制。 研究方法 分離新生24小時內(nèi)的Sprague-Dawley(SD)大鼠大腦皮層并進行體外細胞培養(yǎng),以密度7×105細胞/ml,接種于4個24孔板中。實驗設(shè)10%、0.5%兩個低氧濃度,每個氧濃度均設(shè)相應的常氧對照(20%氧濃度),并且每個氧濃度細胞接種4個復孔,具體分組及低氧處理方式如下:細胞培養(yǎng)24小時后,低氧組進行相應濃度低氧處理,時間為2小時,低氧處理結(jié)束后,用流式細胞儀進行細胞凋亡及細胞ROS水平檢測,ELISA法檢測NO。實驗重復三次。 研究結(jié)果 1.低氧對大腦皮層細胞凋亡的影響:低氧處理組與相應的常氧對照組比較,10%氧濃度處理組細胞凋亡百分率明顯大于常氧對照組(p0.05);不同氧濃度之間進行比較,差異不具顯著性,但0.5%氧濃度誘導細胞凋亡率有低于10%氧濃度的趨勢。 2.低氧對大腦皮層細胞產(chǎn)生ROS的影響:低氧處理組與相應的常氧對照組比較,低氧組細胞產(chǎn)生的活性氧顯著低于常氧對照組(p0.05);不同氧濃度之間進行比較,差異不具顯著性。 3.低氧對大腦皮層細胞產(chǎn)生NO的影響:低氧處理組與相應對照組比較,低氧組產(chǎn)生的NO多于常氧對照組,但差異不具顯著性,存在低氧誘導細胞產(chǎn)生NO的趨勢;不同低氧濃度對細胞NO產(chǎn)生的影響進行比較,無明顯差異。 研究結(jié)論 1. 10%低氧濃度可提高大鼠大腦皮層細胞凋亡的發(fā)生率。 2. 10%、0.5%氧濃度均抑制大鼠大腦皮層細胞產(chǎn)生ROS。 3. 10%氧濃度有誘導大鼠大腦皮層細胞產(chǎn)生NO的趨勢。
【學位授予單位】：上海體育學院
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2011
【分類號】：R363

【參考文獻】

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本文編號：2540591