非均勻電流密度對超導(dǎo)結(jié)構(gòu)力學(xué)特性的影響研究
【文章頁數(shù)】:74 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.1(a)長圓柱狀超導(dǎo)結(jié)構(gòu)示意圖;(b)臨界電流密度分布示意圖
現(xiàn)的強度和剛度問題,有必要研究圓柱狀高溫超導(dǎo)結(jié)構(gòu)中臨界電流密度非均勻分布對其力學(xué)特性的影響。本章基于求解平面應(yīng)變問題的方法和Bean臨界態(tài)模型,考慮臨界電流密度沿超導(dǎo)圓柱體半徑方向呈非均勻分布的特性,解析得到了承載電流上升和下降過程中超導(dǎo)結(jié)構(gòu)內(nèi)局部磁通密度和電流密度分布規(guī)律,并給....
圖3.1(a)長圓柱狀超導(dǎo)結(jié)構(gòu)示意圖;(b)臨界電流密度分布示意圖
了外加磁場增大和減小過程中,圓柱狀超導(dǎo)體內(nèi)部的局部磁場和電流密度分布規(guī)律,同時得到了超導(dǎo)體的徑向位移、徑向和環(huán)向應(yīng)力的解析表達(dá)。分析了臨界電流密度非均勻分布特性影響下,II型超導(dǎo)圓柱體的力學(xué)響應(yīng)。并討論了指數(shù)模型參數(shù)和臨界電流密度的不均勻程度對超導(dǎo)體磁化過程中應(yīng)力分布的影響。這些....
圖4.1(a)長圓柱狀超導(dǎo)結(jié)構(gòu)示意圖;(b)臨界電流密度分布示意圖
峽樽錘呶魯?疾牧顯詰緦κ湓艘約俺?賈岢械確矯?的應(yīng)用,對受磁場和電流共同作用的II型超導(dǎo)圓柱體的力學(xué)行為進行了研究。考慮了臨界態(tài)Bean模型下,超導(dǎo)體內(nèi)臨界電流密度在不同分布狀態(tài)時,外部場上升和下降過程中,結(jié)構(gòu)內(nèi)部的磁通密度和電流密度的分布。基于彈性力學(xué)理論,計算獲得了超導(dǎo)體內(nèi)應(yīng)....
圖4.2電流和磁場相互作用的方位關(guān)系圖
非均勻電流密度對超導(dǎo)結(jié)構(gòu)力學(xué)特性的影響研究38并且在該模型中,n=3時可以有效描述臨界電流密度的非均勻特性,因此我們選取n=3時的情況進行分析。此時在超導(dǎo)長圓柱中,從外到內(nèi)被分為三層,半徑依次為a1、a2、a3且各層半徑之間有如下關(guān)系:132122,,3,assaRsaa====....
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