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1. 基于
HfO
_
2
電荷俘獲層氧缺陷存儲特性研究
2.
HfO
2
/STO結(jié)構(gòu)的輸運性質(zhì)研究
3. Distribution of electron traps in SiO
2
/
HfO
2
nMOSFET
4. Electron trapping properties at
HfO
2
/SiO
2
interface, stud
5.
HFO
-1
2
34yf+HFC-3
2
的pvTx性質(zhì)和
HFO
-1
2
34ze(E)+CO
2
的氣液相平衡性質(zhì)研究
6. 多層
HfO
2
/Al
2
O 3 薄膜基電荷陷阱存儲器件的存儲特性研究
7. YON界面鈍化層改善
HfO
2
/Ge界面特性的研究
8. Ni/
HfO
2
/Pt阻變單元特性與機理的研究
9. 原子層沉積結(jié)合微波退火制備
HfO
2
薄膜及其光電性能研究
10.
HfO
2
薄膜熱特性的分子動力學(xué)模擬與實驗研究
1
2
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4
5
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