幾十年來(lái),抗生素被廣泛應(yīng)用于人類(lèi)和動(dòng)物疾病預(yù)防和治療,以及畜牧養(yǎng)殖。環(huán)境中殘留的抗生素促進(jìn)了抗生素抗性菌（Antibiotic-resistantbacteria,ARB）和抗性基因（Antibiotic resistance genes,ARGs）的產(chǎn)生,進(jìn)而導(dǎo)致抗生素抗性致病菌的增加。在各種污水處理廠的污水中,ARGs的含量遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于典型的水環(huán)境。河流ARGs水平與上游污水處理廠規(guī)模存在顯著的相關(guān)性。所以研究深度處理技術(shù)（如紫外消毒）對(duì)ARB和ARGs的去除,對(duì)于控制其在環(huán)境中的傳播擴(kuò)散具有重要意義。為了闡明紫外消毒對(duì)污水處理廠二級(jí)出水中抗生素抗性去除的影響和機(jī)理,本文研究了紫外處理前后ARB的耐藥譜和可培養(yǎng)異養(yǎng)菌的種類(lèi)的變化;還檢測(cè)了紫外消毒前后ARB中基因組和質(zhì)粒上ARGs的分布情況,研究紫外照射對(duì)活體ARB中不同位置ARGs的影響。此外還采用實(shí)時(shí)熒光定量PCR技術(shù)對(duì)紫外消毒前后二級(jí)處理出水中ARGs的豐度進(jìn)行檢測(cè),探究紫外消毒對(duì)ARGs的去除效果。本文主要研究結(jié)果如下:經(jīng)過(guò)紫外照射后大部分主要種屬的多重抗性（Multi-antibiotic resistance,MAR）指數(shù)顯著...

【文章頁(yè)數(shù)】：77 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第一章 緒論
    1.1 抗生素抗性菌與抗性基因概述
        1.1.1 抗生素抗性菌與抗性基因的危害
        1.1.2 抗生素抗性基因的耐藥機(jī)制
        1.1.3 抗生素抗性基因的傳播機(jī)制
    1.2 水環(huán)境中抗生素抗性菌和抗性基因研究現(xiàn)狀
        1.2.1 畜禽養(yǎng)殖廠廢水
        1.2.2 醫(yī)院廢水
        1.2.3 市政污水處理廠
        1.2.4 自然水體
    1.3 水環(huán)境中抗生素抗性菌和抗性基因深度去除研究進(jìn)展
        1.3.1 氯消毒
        1.3.2 紫外照射
        1.3.3 臭氧氧化
        1.3.4 光氧化
        1.3.5 其他
    1.4 研究目標(biāo)與內(nèi)容
        1.4.1 研究目標(biāo)
        1.4.2 研究?jī)?nèi)容
        1.4.3 技術(shù)路線
第二章 實(shí)驗(yàn)材料與試驗(yàn)方法
    2.1 實(shí)驗(yàn)材料與儀器
        2.1.1 實(shí)驗(yàn)試劑
        2.1.2 常用培養(yǎng)基、溶劑及抗生素的配制
        2.1.3 試劑盒
        2.1.4 實(shí)驗(yàn)儀器
    2.2 試驗(yàn)方法
        2.2.1 樣品的采集
        2.2.2 紫外消毒裝置及過(guò)程
        2.2.3 細(xì)菌的計(jì)數(shù)、分離純化和鑒定
        2.2.4 抗生素敏感性實(shí)驗(yàn)
        2.2.5 DNA的提取
        2.2.6 抗生素抗性菌中抗性基因的檢測(cè)
        2.2.7 定量PCR標(biāo)準(zhǔn)曲線的建立
        2.2.8 實(shí)時(shí)熒光定量PCR
第三章 紫外照射對(duì)抗生素抗性菌的影響
    3.1 引言
    3.2 實(shí)驗(yàn)材料與方法
        3.2.1 細(xì)菌分離與培養(yǎng)
        3.2.2 抗生素藥敏實(shí)驗(yàn)
        3.2.3 16S rRNA基因擴(kuò)增
        3.2.4 結(jié)果分析
    3.3 結(jié)果與討論
        3.3.1 污水廠二級(jí)出水中抗性菌的分布
        3.3.2 紫外照射對(duì)二級(jí)出水抗生素抗性的影響
        3.3.3 群落結(jié)構(gòu)變化對(duì)二級(jí)處理出水中抗生素抗性的影響
        3.3.4 紫外照射下二級(jí)出水多重抗生素抗性指數(shù)的變化
    3.4 本章小結(jié)
第四章 紫外照射對(duì)抗生素抗性菌中抗性基因的影響
    4.1 引言
    4.2 實(shí)驗(yàn)材料與方法
        4.2.1 基因組與質(zhì)粒DNA提取
        4.2.2 ARGs檢測(cè)
        4.2.3 結(jié)果分析
    4.3 結(jié)果與討論
        4.3.1 抗性基因在二級(jí)處理出水中的分布
        4.3.2 基因組DNA上ARGs的變化
        4.3.3 質(zhì)粒DNA上ARGs的變化
    4.4 本章小結(jié)
第五章 紫外照射對(duì)污水處理廠二級(jí)出水中抗性基因的去除研究
    5.1 引言
    5.2 實(shí)驗(yàn)材料與方法
        5.2.1 實(shí)時(shí)熒光定量PCR
        5.2.2 分析方法
    5.3 結(jié)果與討論
        5.3.1 ARGs 絕對(duì)豐度的變化
        5.3.2 ARGs 相對(duì)豐度的變化
        5.3.3 抗性基因之間的相關(guān)性
    5.4 本章小結(jié)
第六章 結(jié)論與建議
    6.1 結(jié)論
    6.2 建議
致謝
參考文獻(xiàn)
作者簡(jiǎn)介



本文編號(hào)：4044835