【摘要】：塊體擇優(yōu)取向納米孿晶Cu在應(yīng)變疲勞時(shí)保持循環(huán)穩(wěn)定.為了研究其本征疲勞機(jī)制,本文利用透射電子顯微鏡在雙束條件下研究了納米孿晶Cu疲勞后孿晶片層內(nèi)位錯(cuò)形貌特征.結(jié)果表明納米孿晶Cu的疲勞變形多由受限于孿晶片層內(nèi)部的滑移方向平行于孿晶界面、滑移面傾斜于孿晶界面的單滑移貫穿位錯(cuò)主導(dǎo).通過三維投影模型重構(gòu)了貫穿位錯(cuò)在納米孿晶片層內(nèi)的空間分布.
【作者單位】： Shenyang
【基金】：supported by the National Basic Research Program of China (2012CB932202) the National Natural Science Foundation of China (51420105001,51371171 and 51471172)
【分類號(hào)】：TG146.11

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本文編號(hào)：2543347