不同厚度納米Ti薄膜的力學(xué)性能
[Abstract]:Four nanocrystalline Ti thin films with different thickness were prepared by DC magnetron sputtering. The mechanical properties and residual stress of Ti thin films were studied by nano-indentation instrument and electron film stress distribution tester. The surface roughness and surface morphology of the films were analyzed by means of fractal dimension method and atomic force microscope (AFM). The experimental results show that the grain size increases with the increase of Ti film thickness, and the surface roughness and residual stress increase firstly and then decrease with the increase of Ti film thickness. However, the elastic modulus and hardness of Ti film decrease first and then increase with the increase of film thickness. When the thickness of the film is 600,2400Nm ~ 3600nm, there is residual compressive stress in the film, and when the thickness of the film is 1200nm, there is residual tensile stress. The distribution of the residual stress in the film is the most uniform, but the film has lower hardness and modulus of elasticity. It is concluded that the hardness and elastic modulus of Ti thin films will be reduced by the existence of residual tensile stress, whereas the residual compressive stress will be reversed.
【作者單位】: 裝甲兵工程學(xué)院裝備再制造技術(shù)國(guó)防科技重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;哈爾濱工程大學(xué)材料科學(xué)與化學(xué)工程學(xué)院;中國(guó)地質(zhì)大學(xué)(北京)工程技術(shù)學(xué)院;
【基金】:北京市自然科學(xué)基金重大項(xiàng)目(3120001) 國(guó)家自然科學(xué)基金(51275105) 國(guó)家杰出青年科學(xué)基金(51125023)
【分類(lèi)號(hào)】:TB383.2;TG146.23
【參考文獻(xiàn)】
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【共引文獻(xiàn)】
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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】
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