Ag/AgCl納米粒子由于表面等離子體共振效應的存在而被廣泛應用于光催化降解染料和抗菌材料領域。其降解的優(yōu)勢在于除了具有常見的超氧自由基和光生空穴兩個氧化基團外,還具有超強氧化性的氯原子共同作用于目標。目前制備Ag/AgCl納米粒子方法主要為沉淀法、化學還原法和光還原法等,這幾種方法在制備過程中均存在如下問題:其一,制備時物料損失較大以及殘留試劑會對環(huán)境產(chǎn)生污染;其二,使用上述方法所制備的Ag/AgCl納米顆粒作用于目標污染物時存在耗時長、降解率低的缺點,嚴重影響光催化效率;其三,降解過程中需以高功率的氙燈作為光源,實用范圍較小。針對上述方法存在的問題,本研究將硝酸銀和反滲透水中以雜質(zhì)形式存在的氯離子作為原料,在功率為20 W,波長為395 nm的紫外光源下原位制備具有良好光催化性的Ag/AgCl納米粒子。并發(fā)現(xiàn)羅丹明6G在制備Ag/AgCl納米粒子的過程中被所發(fā)生的氧化還原反應降解。此外,本文還將Ag/AgCl制備過程應用于水溶液中銀離子的熒光定量分析。本文研究主要包括以下三個方面:（1）以硝酸銀為原料,借助溶液中以雜質(zhì)形式存在的Cl-,在395 nm紫外光源（20 W）照射下制備A... 

【文章來源】：陜西科技大學陜西省

【文章頁數(shù)】：75 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

圖２－３?３）制備八§／八８（：１納米顆粒紫外吸收譜圖：１））光照不同濃度八§＋、（：「時，制備得到八§／八§（：１??納米顆溶液粒的ＵＶ－ｖｉｓ吸收光譜??

??結果相一致�；冢粒绾停茫痹氐模停幔穑穑椋睿鐖D，由此推測Ａｇ／ＡｇＣｌ納米顆粒具有“率糕??型”的形態(tài)結構，即少量的氯化銀（“棗”）分散在相對含量較多的銀基體（“糕”）??中。??（３）?Ｘ－射線衍射（ＸＲＤ）和Ｘ－射線光電子能譜（ＸＰＳ）分析??基于前述討論得知本文制備Ａｇ／ＡｇＣｌ納米顆粒的方法是利用Ａｇ＋與ＲＯ級水溶液中??以雜質(zhì)形式存在的ＣＴ首先形成ＡｇＣｌ，隨后通過光還原反應得到目標納米復合材料。進??一步通過ＸＲＤ對所制備的Ａｇ／ＡｇＣｌ納米顆粒進行表征，其結果如圖２－６所示。??［ｂ）??，７，?？?■?Ｔ?，２２２）?（？？＞???２＿?Ｉ?Ａ?ｔ?Ｔ＞?（ｒ，??＜ｋ？．??．一?２９ｊ＞＇ｉｎ＿??５〇ｍｉｎ??＜１１１）???－人??、??１０?ｍｉｎ??（２２〇）?＇??????—?＞．????—．．?一－．??Ｉ?（２２３）?Ｉ?Ａｒ?ＰＤＦ＃？４－０７８３??Ｉ?（３１１）?，?＜４Ｍ＞?１?Ｉ?Ｉ???．?Ｉ?Ｊ?．????Ｌ，?（ｒ＞?＜？１＞．?１?＾?＇?＇?１??Ｉ?ｊ?ＡｇＣｌ?ＰＤＦ＃３１－１２３８?．?．?ＡｇＣＩ?ＰＤＦ＃３１－１２３８??■?■?Ｊ?■?１?？?■■■■？?■?，?■?Ｕ?ｉ?■?■?■?Ｉ?Ｕ?，?ｊ?，?１?ｒ－■■■，－＾－ｒｌ?，?，?■?ｉ?ｉ．?，■?ｒ??２０?２５?３０?３５?４０?４￥?５０?５５?６０?６５?７０?７５?８０?８５?２０?２５?３０?３５?４０?４５?５０?５５?６０?６５?７０?７５?８０?８５??２０／（°）

隨后，本文通過ＸＰＳ能譜對Ａｇ／ＡｇＣｌ納米顆粒中單質(zhì)銀的平均含量進行分析，其??分析結果如圖２－７所示。由圖２－７?３可看出，在乂？８光譜中存在０］５、＜：１５、�。蓿�、八§３（１??和Ｃ１２ｐ的峰，表明固體顆粒中存在Ａｇ元素和Ｃ１元素。由圖２－７ｂ可看出，在Ａｇ３ｄ光??譜中，結合能３６８．１?ｅＶ和３７４．?ｌｅＶ分別對應于Ａｇ?３ｄ５／２和Ａｇ?３ｄ３／２兩個位置。其中Ａｇ?３ｄ３／２??分為３７４．０?ｅＶ和３７４．７３?ｅＶ的兩個峰，Ａｇ?３ｄ５／２分為３６８．０２?ｅＶ和３６８．８４?ｅＶ的兩個峰。??３６８．８４和３７４．７３?ｅＶ的峰可以歸因于ＡｇＣｌ的Ａｇ?３ｄ峰，而３６８．０２和３７４．０?ｅＶ的峰可歸??屬于金屬Ａｇ單質(zhì)的Ａｇ?３ｄ峰［７９４１。通過軟件Ｃａｓａ?ＸＰＳ擬合分峰計算得出固體顆粒中單??質(zhì)Ａｇ的含量占８１．１５％，表明納米顆粒的主要成分是單質(zhì)銀。該結論與上述Ｍａｐｐｉｎｇ、??ＸＲＤ的分析結果一致，意味著本文利用ＲＯ水中以雜質(zhì)形式存在的Ｃｌ＿通過光還原法經(jīng)??一步反應成功制備了?Ａｇ／ＡｇＣ．Ｉ納米顆粒。??，


本文編號：3096873