關(guān)鍵研發(fā)者為數(shù)不多但承擔(dān)企業(yè)大量的核心技術(shù)創(chuàng)新工作,是企業(yè)最重要的戰(zhàn)略人力資源。以往學(xué)者基于關(guān)鍵研發(fā)者內(nèi)涵,從各維度提出不同的關(guān)鍵研發(fā)者識(shí)別方法,探討影響關(guān)鍵研發(fā)者創(chuàng)造力的各種因素,但尚未形成統(tǒng)一認(rèn)識(shí)和系統(tǒng)理論框架�；仡欔P(guān)鍵研發(fā)者內(nèi)涵,闡述關(guān)鍵研發(fā)者識(shí)別方法及其異同,提出環(huán)境不確定性下影響關(guān)鍵研發(fā)者創(chuàng)造力的4個(gè)方面:①組織內(nèi)工作環(huán)境變動(dòng);②組織間工作環(huán)境變動(dòng);③組織內(nèi)合作網(wǎng)絡(luò);④組織間合作網(wǎng)絡(luò)。最后,提出4個(gè)未來(lái)重要研究方向,為企業(yè)在快速變化的市場(chǎng)環(huán)境下實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵研發(fā)者管理及促進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新提供理論與應(yīng)用依據(jù)。 

【文章來(lái)源】：科技進(jìn)步與對(duì)策. 2020,37(09)北大核心CSSCI

【文章頁(yè)數(shù)】：8 頁(yè)

【部分圖文】：

研究框架

(1)Ernst等[11]給出低效型(產(chǎn)出少且質(zhì)量低)、多產(chǎn)型(產(chǎn)出多但質(zhì)量低)、天才型(產(chǎn)出少但質(zhì)量高)和關(guān)鍵研發(fā)者型(產(chǎn)出多且質(zhì)量高)等4種不同類型研發(fā)者劃分原則(見(jiàn)圖2),并綜合專利數(shù)量和質(zhì)量提出關(guān)鍵研發(fā)者識(shí)別方法,即專利數(shù)量大于均值的2倍,專利質(zhì)量(專利被引用的次數(shù))大于均值的1倍(2∶1)。其中,專利質(zhì)量可采用4種方法加以測(cè)度:①授予的專利份額。計(jì)算公式為:SPG=NPG/(TNP-ENP)(NPG、TNP、ENP分別為研發(fā)者授權(quán)專利數(shù)量、研發(fā)者申請(qǐng)專利總數(shù)、審查中的專利數(shù)量);②有效專利份額。計(jì)算公式為:SVP= NVP/NPC(NVP為研發(fā)者有效專利數(shù)量);③引用比例。計(jì)算公式為:CR=NC/NP(NC、NP分別為專利引用次數(shù)和專利數(shù)量);④美國(guó)專利份額。計(jì)算公式為:SUP=NUP/TNP (NUP為研發(fā)者美國(guó)專利申請(qǐng)數(shù))。其它方法大多參照上述劃分方法,只是在具體細(xì)節(jié)上有所改動(dòng)。例如,Hess & Rothaermel[18]綜合考慮專利數(shù)量和質(zhì)量,按照專利數(shù)量和被引用次數(shù)均大于樣本均值3個(gè)標(biāo)準(zhǔn)差的標(biāo)準(zhǔn)識(shí)別關(guān)鍵研發(fā)者;Kehoe & Tzabbar[7]將專利數(shù)量和被引用次數(shù)進(jìn)行加權(quán),定義關(guān)鍵研發(fā)者選取的綜合績(jī)效指標(biāo)InvPerformance,計(jì)算公式為:

研發(fā)者分類

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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