美國專利產(chǎn)出的時空分異及影響機制研究
發(fā)布時間:2017-04-05 09:08
本文關鍵詞:美國專利產(chǎn)出的時空分異及影響機制研究,,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:在知識經(jīng)濟快速發(fā)展,科技全球化不斷深化的時代背景下,科技創(chuàng)新已逐漸成為一國經(jīng)濟實力的核心依托,創(chuàng)新能力逐漸成為國家綜合實力博弈的重要籌碼。由于較早實施創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略,美國擁有出色的國家創(chuàng)新體系,一直處于全球創(chuàng)新活動等級中的核心位置。因此,研究美國專利產(chǎn)出的空間分布及其演變規(guī)律對于當前我國制定合理的國家創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略及區(qū)域創(chuàng)新發(fā)展規(guī)劃,優(yōu)化創(chuàng)新空間布局具有重要的參考意義。本文在梳理相關文獻及美國專利產(chǎn)出演變歷程的基礎之上,聚焦縣域尺度層面,考察美國專利產(chǎn)出的空間分布規(guī)律,并通過計算基尼系數(shù)、變異系數(shù)、集中度指數(shù)對美國專利的空間集中及區(qū)域差異進行研究,通過分析美國專利產(chǎn)出的重心轉移進一步考察美國專利產(chǎn)出的時空演變規(guī)律,運用探索性空間數(shù)據(jù)分析方法,計算Moran's I指數(shù)及繪制局部空間自相關聚集圖分析美國專利產(chǎn)出的空間關聯(lián)與集聚演化。最后結合因子分析法及多元回歸分析法對美國區(qū)域專利產(chǎn)出能力的影響因素進行實證研究。研究結果表明: (1)建國至二戰(zhàn)期間,美國專利產(chǎn)出增長快速,二戰(zhàn)以來,受經(jīng)濟、科技政策等多方面影響,美國專利產(chǎn)出總體呈現(xiàn)出由慢至快的增長趨勢。從全球范圍來看,無論是專利申請量還是專利授權量指標,都表明美國具有十分突出的創(chuàng)新表現(xiàn),在全球創(chuàng)新版圖中始終處于“引領”的核心地位。 (2)美國區(qū)域專利產(chǎn)出的空間差異十分明顯,主要集中于西部太平洋沿岸、東部的大西洋沿岸及五大湖沿岸地區(qū)為數(shù)不多的幾個城市或地區(qū),呈現(xiàn)傾向于集聚在人口稠密、經(jīng)濟發(fā)展水平高的地區(qū)及傾向于集聚在高校及科研院所聚集區(qū)這兩大分布規(guī)律。(3)進入新世紀以來,美國整體創(chuàng)新格局的極化趨勢進一步增強,但近年來這種趨勢有所放緩。美國專利產(chǎn)出越來越高度集中于少數(shù)熱點區(qū),形成以西部為主導的多核共振空間分布格局。這種分布格局一直較為穩(wěn)定,呈現(xiàn)出一定的空間慣性。但是相對而言,不同的創(chuàng)新熱點區(qū)之間的不同增長速度導致了整體上創(chuàng)新產(chǎn)出的重心偏移。其中以硅谷、舊金山等地區(qū)為核心的太平洋沿岸區(qū)的偏移增長遙遙領先于其他各分區(qū),在競爭格局中始終處于絕對優(yōu)勢地位,形成“西強東弱”的競爭態(tài)勢。同時,美國區(qū)域間存在溢出效應,表現(xiàn)出顯著的空間正相關性,且隨著時間推移,美國專利產(chǎn)出的集聚態(tài)勢保持相對穩(wěn)定。 (4)創(chuàng)新投入、區(qū)域經(jīng)濟發(fā)展水平、區(qū)域教育水平、區(qū)域資本要素、創(chuàng)新文化氛圍、基礎設施以及政府財力支持對美國區(qū)域的專利產(chǎn)出均具有促進作用,特別是科技人力資本的投入是影響美國區(qū)域專利產(chǎn)出能力發(fā)展的重要因素。
【關鍵詞】:美國 創(chuàng)新 影響因素 時空分異 專利
【學位授予單位】:華東師范大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2016
【分類號】:F204
【目錄】:
- 內容摘要6-8
- ABSTRACT8-13
- 第一章 緒論13-24
- 1.1 選題及意義13-14
- 1.2 國內外研究綜述14-20
- 1.2.1 創(chuàng)新活動的空間分布規(guī)律14-17
- 1.2.2 創(chuàng)新區(qū)域差異產(chǎn)生的內在機制及影響因素17-20
- 1.3 研究思路20-21
- 1.4 研究方法21-22
- 1.5 技術路線22-23
- 1.6 本文創(chuàng)新之處23-24
- 第二章 美國專利產(chǎn)出的基本概況24-30
- 2.1 美國專利產(chǎn)出在全球格局中的地位24-26
- 2.2 美國專利產(chǎn)出的演變歷程26-30
- 第三章 美國專利產(chǎn)出的空間分布特征30-39
- 3.1 主要集中于人口稠密、經(jīng)濟發(fā)展水平高的地區(qū)31-33
- 3.2 傾向于集中在高校及科研院所聚集區(qū)33-35
- 3.3 集中于大城市群地區(qū),空間格局呈現(xiàn)“三極一帶多點”特征35-36
- 3.4 專利產(chǎn)出密度及人均專利產(chǎn)出總體同專利總量分布格局一致36-39
- 第四章 美國專利產(chǎn)出的時空演變特征39-59
- 4.1 時空格局——空間極化下的西部主導39-44
- 4.1.1 總體的極化變化特征39-42
- 4.1.2 時空演化格局——西部主導的多核共振格局42-44
- 4.2 偏移增長——波動下的“西強東弱”格局44-52
- 4.2.1 研究方法44-46
- 4.2.2 專利產(chǎn)出重心呈向西南遷移趨勢46-47
- 4.2.3 總體呈“西強東弱”競爭格局47-52
- 4.3 空間關聯(lián)——顯著溢出效應下的路徑依賴52-59
- 4.3.1 研究方法53-54
- 4.3.2 全局自相關分析——呈顯著溢出效應54-55
- 4.3.3 局部自相關分析——集聚態(tài)勢保持相對穩(wěn)定55-59
- 第五章 美國區(qū)域專利產(chǎn)出能力的影響因素分析59-72
- 5.1 理論假設59-63
- 5.1.1 創(chuàng)新投入59-60
- 5.1.2 經(jīng)濟發(fā)展水平60
- 5.1.3 教育水平60-61
- 5.1.4 資本要素61
- 5.1.5 創(chuàng)新文化氛圍61-62
- 5.1.6 基礎設施62
- 5.1.7 政府財力支持62-63
- 5.2 指標選取及模型構建63-64
- 5.3 數(shù)據(jù)預處理64-65
- 5.4 研究方法與模型檢驗65-68
- 5.5 實證結果分析68-72
- 第六章 結論與展望72-77
- 6.1 主要結論72-74
- 6.2 對中國的啟示74-76
- 6.2.1 擴大創(chuàng)新投入規(guī)模75
- 6.2.2 重視創(chuàng)新氛圍培育75
- 6.2.3 加強創(chuàng)新互動聯(lián)系75-76
- 6.3 研究不足與展望76-77
- 參考文獻77-82
- 后記82-83
- 在學期間所取得的科研成果83
【相似文獻】
中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前10條
1 陶用之;;自主創(chuàng)新 加快高新技術領域的專利產(chǎn)出[J];南京財經(jīng)大學學報;2005年05期
2 戴s
本文編號:286830
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