發(fā)布時(shí)間：2021-05-24 21:34

　　半導(dǎo)體產(chǎn)品作為電子裝置的大腦、電力控制的心臟,隨著越來(lái)越廣泛的應(yīng)用,對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品的性能和可靠性的追求也越來(lái)越高,所以在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中力求提高良率和降低缺陷。近幾年,半導(dǎo)體市場(chǎng)的增長(zhǎng)率開(kāi)始下滑,以往那種力圖通過(guò)小型化技術(shù)來(lái)降低成本的方法已接近極限,所以半導(dǎo)體企業(yè)需要不斷提高產(chǎn)品的良率來(lái)降低成本,提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。光刻工藝在半導(dǎo)體生產(chǎn)中起著關(guān)鍵性的作用,從0.25微米、0.18微米到如今的0.15微米、0.13微米、甚至到90納米無(wú)不是從光刻工藝的進(jìn)步革新開(kāi)始的。在光刻工藝中存在著多種多樣的圖形缺陷,這些都會(huì)影響到產(chǎn)品的良率,本文主要針對(duì)0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目進(jìn)行分析研究。本文首先從項(xiàng)目管理的基本理論出發(fā),結(jié)合實(shí)際闡述項(xiàng)目管理在社會(huì)上的實(shí)際應(yīng)用與作用。其次,半導(dǎo)體企業(yè)的晶圓生產(chǎn)線可能不大為人所知,本文簡(jiǎn)介半導(dǎo)體生產(chǎn)企業(yè)狀況和工藝,著重于先進(jìn)工藝中光刻部門所面臨的挑戰(zhàn),從而引出項(xiàng)目管理在光刻工藝中的價(jià)值。再其次,通過(guò)分析研究項(xiàng)目管理在半導(dǎo)體企業(yè)中的應(yīng)用,著重于0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目管理的具體實(shí)施應(yīng)用,研究在本項(xiàng)目中所涉及的風(fēng)險(xiǎn)管理、進(jìn)度管理和成本管理等方面,并提出... 

【文章來(lái)源】：復(fù)旦大學(xué)上海市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁(yè)數(shù)】：48 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第一章 緒論
    第一節(jié) 選題背景
    第二節(jié) 研究意義
第二章 項(xiàng)目管理一般理論綜述
    第一節(jié) 項(xiàng)目管理的意義
    第二節(jié) 項(xiàng)目管理的發(fā)展現(xiàn)狀和特點(diǎn)
    第三節(jié) 項(xiàng)目管理的基本內(nèi)容
第三章 項(xiàng)目管理在半導(dǎo)體光刻部門的應(yīng)用
    第一節(jié) 半導(dǎo)體代工企業(yè)現(xiàn)狀簡(jiǎn)介
    第二節(jié) 半導(dǎo)體光刻工藝流程及主要光刻圖形缺陷
    第三節(jié) 項(xiàng)目管理在光刻部門的應(yīng)用
第四章 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目的管理實(shí)施
    第一節(jié) 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目特點(diǎn)分析
    第二節(jié) 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目范圍管理
    第三節(jié) 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估
    第四節(jié) 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目進(jìn)度管理
    第五節(jié) 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目成本管理
    第六節(jié) 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目結(jié)束
第五章 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目總結(jié)
    第一節(jié) 0.15微米工藝光刻圖形缺陷攻關(guān)項(xiàng)目的成果和價(jià)值
    第二節(jié) 項(xiàng)目管理的在半導(dǎo)體企業(yè)的局限性和展望
參考文獻(xiàn)
致謝



本文編號(hào)：3204899