目的探索一種新型納米熒光材料的制備方法及其在潛在指印顯現(xiàn)方面的應(yīng)用前景。方法以聚酰胺-胺(PAMAM)樹形分子為模板,原位合成CdS納米簇,并使用熒光光譜法對產(chǎn)物進行表征;應(yīng)用這種新型熒光材料對多種客體表面、不同陳舊程度的潛在指印進行顯現(xiàn),并將顯現(xiàn)結(jié)果與傳統(tǒng)熒光染料進行比對。結(jié)果該熒光材料在365nm紫外光激發(fā)下可以發(fā)出很強的可見熒光;與傳統(tǒng)的熒光染料相比,-NH2端基型CdS/PA-MAM可以同指印殘留物進行靶向結(jié)合,其熒光強度高、背景干擾小,指印紋線與客體反差大。結(jié)論-NH2端基型CdS/PAMAM可以有效地顯出非滲透性客體表面的潛在指印。

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圖1Cd5/PAMAM熒光光譜

因此論文首先對兩種物質(zhì)的濃度進行選擇。一方面,雖然PAMAM易溶于水和甲醇,但是當(dāng)濃度高于10-4mol·L-1時,溶液粘度較大,溶質(zhì)易出現(xiàn)團聚或沉積,因此論文初步確定復(fù)合材料中PA-MAMG5.0的濃度為10-4mol·L-1;另一方面,由于....

本文編號：3902690