基質輔助激光解吸電離質譜（MALDI-MS）是一種高靈敏度、高通量、多組分同時分析的軟電離質譜技術,可通過對物質分析實現(xiàn)分子結構的確認及物質分布信息的獲取,因此在指紋分析中獲得越來越多的關注。本文從條件優(yōu)化入手,講述基質優(yōu)化過程。接著介紹了MALDI-MS成像（MALDI-MSI）在指紋分析領域具體的應用,在形態(tài)分析研究方面,總結其與常規(guī)顯現(xiàn)方法聯(lián)用對成像效果的影響、對疑難指紋的圖像處理;在化學信息分析研究方面,分別從根據(jù)質譜信息分析生活習慣/案前活動、指紋遺留時間和個體同一認定對各研究的優(yōu)點及局限性進行評述,最后為MALDI-MSI在指紋領域未來發(fā)展提出展望。 

【文章來源】：應用化學. 2020,37(10)北大核心

【文章頁數(shù)】：10 頁

【文章目錄】：
1 基質的選擇和放置方式
2 疑難指紋處理
3 與常規(guī)顯現(xiàn)方法聯(lián)用
4 化學信息提取
    4.1 生活習慣/案前活動分析
    4.2 指紋遺留時間
    4.3 個體同一認定
5 結論與展望


【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3025388