【摘要】：[目的]觀察亞砷酸鈉(NaAsO_2)對人永生化皮膚角質(zhì)形成細胞(HaCaT細胞)DNA雙鏈斷裂損傷、組蛋白H4第20位賴氨酸一、二甲基化(H4K20me1、H4K20me2)修飾水平的影響,探討H4K20me1、H4K20me2修飾在砷致DNA雙鍵斷裂損傷中的作用。[方法]體外常規(guī)培養(yǎng)HaCaT細胞,以0.00、1.25、2.50、5.00、10.00μmol/L NaAsO_2連續(xù)處理HaCaT細胞24 h,10.00μmol/L NaAsO_2處理HaCaT細胞0、6、12、24 h,其中以0.00μmol/L濃度組和0 h為空白對照組。采用中性單細胞凝膠電泳法檢測各組HaCaT細胞DNA雙鏈斷裂損傷水平(尾部DNA百分含量、Olive尾矩);免疫印跡法檢測各組H4K20me1、H4K20me2蛋白表達水平。[結(jié)果]HaCaT細胞染砷24 h后,DNA雙鏈斷裂程度在5.00、10.00μmol/L濃度組高于對照組(P0.05);H4K20me1/me2蛋白表達水平在2.50、5.00、10.00μmol/L濃度組低于對照組(P0.05)。10.00μmol/L NaAsO_2處理HaCaT細胞0、6、12和24 h后,DNA雙鏈斷裂程度在12、24 h染砷組高于對照組(P0.05),H4K20me1、H4K20me2蛋白表達水平在6、12、24 h較對照組降低(P0.05)。尾部DNA百分含量與H4K20me1、H4K20me2修飾水平呈負相關(guān)(r=-0.955、-0.855,均P0.05),Olive尾矩與二者亦呈負相關(guān)(r=-0.940、-0.841,均P0.05)。[結(jié)論]砷可導(dǎo)致HaCaT細胞DNA雙鍵斷裂損傷和H4K20me1、H4K20me2表達改變,提示砷所致DNA損傷可能與組蛋白H4K20甲基化修飾有關(guān)。
[Abstract]:[objective] to observe the effect of sodium arsenite (NaAsO_2) on DNA double strand break damage of human immortalized skin keratinocytes (HaCaT cells) and the modification level of H4K20me1H4K20me1 (H4K20me1H4K20me2). Effect of H4K20me2 modification on DNA double bond fracture damage induced by arsenic. [methods] HaCaT cells were cultured routinely in vitro. HaCaT cells were treated with 0.001. 25 ~ 2. 50 渭 mol/L NaAsO_2 and 10. 00 渭 mol/L NaAsO_2 for 24 h, respectively. HaCaT cells were treated with 10. 00 渭 mol/L NaAsO_2 for 24 h. The concentration of 0.00 渭 mol/L and 0 h were taken as the blank control group. The level of DNA double strand break (DNA content in tail, tail moment of Olive) and the expression of H4K20me1H4K20me2 protein were detected by neutrophil gel electrophoresis (neutrophilic single cell gel electrophoresis) and Western blot. [results] after arsenic exposure of HaCaT cells for 24 h, the degree of DNA double strand breaks in the 5.00 渭 mol/L group was higher than that in the control group (P0.05). The expression level of H4K20me1/me2 protein in the 2.50 渭 mol/L NaAsO_2 group was lower than that in the control group (P0.05). The HaCaT cells were treated with 10.00 渭 mol/L NaAsO_2 for 12 and 24 hours. The degree of double strand break of DNA in arsenic exposed group was higher than that in control group (P0.05), and the protein expression level of H4K20me1H4K20me2 was lower than that of control group (P0.05). There was a negative correlation between tail DNA content and H4K20me2 modification level (r ~ (-0.955) ~ (-0.855), P 0.05) and tail moment of), Olive (r ~ (-0.940) ~ (-0.841), P _ (0.05). [conclusion] arsenic can cause DNA double bond breaking damage and H4K20me2 expression change in HaCaT cells, suggesting that DNA damage induced by arsenic may be related to H4K20 methylation modification of histone.
【作者單位】： 貴州醫(yī)科大學(xué)公共衛(wèi)生學(xué)院環(huán)境污染與疾病監(jiān)控省部共建教育部重點實驗室;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(編號:81360411);國家自然科學(xué)基金重點項目(編號:81430077)
【分類號】：R114

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本文編號：2421935