本文選題：納米二氧化硅 + p��； 參考：《毒理學(xué)雜志》2015年04期

【摘要】：目的研究納米二氧化硅(nm-SiO2)對(duì)人皮膚表皮細(xì)胞(HaCaT)中p53基因的表達(dá)及基因啟動(dòng)子區(qū)甲基化的影響。方法分別以2.5、5、10μg/ml的nm-SiO2溶液和10μg/ml的微米級(jí)SiO2(micro-SiO2)處理HaCaT24h;以3μmol/LDNA甲基化轉(zhuǎn)移酶抑制劑5-脫氧雜氮胞苷(DAC)處理48h的10μg/mlnm-SiO2組為陽性對(duì)照,并設(shè)立溶劑對(duì)照組。應(yīng)用熒光定量PCR檢測p53基因mRNA水平的表達(dá),Western-blot法檢測其蛋白水平的變化,應(yīng)用甲基化特異性PCR(MSP)檢測p53基因啟動(dòng)子區(qū)CpG島的甲基化狀態(tài)。結(jié)果nm-SiO2作用24h后,HaCaT細(xì)胞中p53基因表達(dá)呈上調(diào)趨勢并且p53啟動(dòng)子區(qū)未檢測出甲基化狀態(tài)。結(jié)論nm-SiO2暴露可以上調(diào)HaCaT細(xì)胞中p53基因的表達(dá),尚未發(fā)現(xiàn)這種上調(diào)與p53基因啟動(dòng)子區(qū)CpG島的甲基化水平改變有關(guān)。
[Abstract]:Objective to study the effect of nano-silica nm-SiO2 on p53 gene expression and promoter methylation in human skin epidermal cells (HaCaT). Methods HaCaT was treated with 2.5 渭 mol/LDNA 5 渭 g/ml nm-SiO2 solution and 10 渭 g/ml micron sio _ 2 micro-SiO _ 2 solution for 24 h, and 10 渭 g/mlnm-SiO2 group treated with 3 渭 mol/LDNA methyltransferase inhibitor 5-deoxyazacytidine for 48 h as positive control group, and solvent control group was set up. The expression of p53 gene mRNA was detected by fluorescence quantitative PCR and the methylation status of CpG island in the promoter region of p53 gene was detected by methylation specific PCR- MSPs. Results the expression of p53 gene was up-regulated in HaCaT cells treated with nm-SiO2 for 24 h, and no methylation was detected in p53 promoter region. Conclusion nm-SiO2 exposure can up-regulate the expression of p53 gene in HaCaT cells, which has not been found to be related to the change of methylation level of CpG island in the promoter region of p53 gene.
【作者單位】： 深圳市慢性病防治中心分子生物室;深圳市疾病預(yù)防控制中心;
【基金】：國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(81202239) 深圳市科技計(jì)劃項(xiàng)目(201401070)
【分類號(hào)】：R114

【參考文獻(xiàn)】

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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

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本文編號(hào)：1788862