3種粘接系統(tǒng)下正常牙本質(zhì)和齲損影響牙本質(zhì)與玻璃陶瓷粘接效果的比較
發(fā)布時(shí)間:2020-07-18 11:18
【摘要】:目的:觀(guān)察比較3種粘接系統(tǒng)下正常牙本質(zhì)(ND)和齲損影響牙本質(zhì)(CAD)與玻璃陶瓷粘接后試件剪切強(qiáng)度、斷裂類(lèi)型及粘接面納米滲漏情況,評(píng)價(jià)其粘接強(qiáng)度及界面封閉性,為臨床操作提供依據(jù)。方法:選取39顆牙合面中齲的離體磨牙,在齲齒顯示劑引導(dǎo)下用慢球鉆去凈齲感染牙本質(zhì),保留齲損影響牙本質(zhì),磨平牙面。保證每顆離體牙獲得2mm*2mm大小正常牙本質(zhì)與齲損影響牙本質(zhì)粘接面。選用24顆離體牙隨機(jī)分為3組,包埋后分別使用全酸蝕粘接劑A(Variolink N)、自酸蝕粘接劑B(Multilink N)、自粘接型樹(shù)脂粘接劑C(Relyx Unicem)與玻璃陶瓷瓷塊粘接。將粘接試件固定于萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)上行剪切強(qiáng)度測(cè)試,將斷裂試件置于體視顯微鏡下觀(guān)察斷裂類(lèi)型。剩余15顆離體牙亦隨機(jī)分成3組,每顆牙切割制備大小2mm*2mm*4mm的CAD塊和ND塊各一個(gè),分別使用全酸蝕粘接劑A、自酸蝕粘接劑B、自粘接型樹(shù)脂粘接劑C與玻璃陶瓷瓷塊粘接。粘接試件經(jīng)氨化硝酸銀染色后于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FESEM)下觀(guān)察比較粘接界面納米滲漏情況。結(jié)果:1.兩因素析因設(shè)計(jì)方差分析提示粘接劑種類(lèi)(P0.05)與牙本質(zhì)類(lèi)型(P0.05)對(duì)剪切強(qiáng)度的影響均有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義:ND組A、B、C三種樹(shù)脂粘接劑剪切強(qiáng)度分別為(23.04±4.79)MPa、(17.15±3.58)MPa、(16.02+4.46)MPa,均顯著高于CAD組[粘接劑A、B、C剪切強(qiáng)度分別為(18.00±3.45)MPa、(12.67±3.68)MPa、(10.88±2.88)MPa](P0.05);同一牙本質(zhì)下,A組剪切強(qiáng)度顯著高于B組和C組(P0.05),B組、C組剪切強(qiáng)度無(wú)顯著差異(P0.05)。2.無(wú)論正常牙本質(zhì)還是齲損影響牙本質(zhì),在3種粘接系統(tǒng)下都可以觀(guān)察到納米滲漏,但銀沉積的分布不同:A組和B組納米滲漏集中混合層底部,C組未觀(guān)察到混合層,納米滲漏位于粘接層與牙本質(zhì)之間;A組和B組銀沉積呈顆粒狀或團(tuán)塊狀分布,C組銀沉積呈帶狀分布。3.兩因素析因設(shè)計(jì)方差分析提示粘接劑種類(lèi)(P0.05)與牙本質(zhì)類(lèi)型(P0.05)對(duì)納米滲漏值均有影響:粘接劑A、B、C與ND粘接,其納米滲漏值分別為(0.250±0.078)%、(0.630±0.132)%、(0.311±0.101)%,均顯著低于CAD組[粘接劑A、B、C納米滲漏值分別為(0.600±0.193)%、(1.442±0.414)%、(0.802±0.223)%](P0.05);同一牙本質(zhì)下,B組納米滲漏值顯著高于C組(P0.05),C組納米滲漏值顯著高于A(yíng)組(P0.05)。結(jié)論:1.同一粘接系統(tǒng)下,ND較CAD可獲得更高的粘接強(qiáng)度;在同一牙本質(zhì)下,全酸蝕粘接劑A粘接強(qiáng)度高于自酸蝕粘接劑B與自粘接型樹(shù)脂粘接劑C,而粘接劑B、C粘接強(qiáng)度無(wú)顯著差異。2.3種粘接劑都無(wú)法避免納米滲漏的發(fā)生;3.同種粘接劑作用下,ND的界面封閉效果優(yōu)于CAD;同一牙本質(zhì)下,全酸蝕粘接劑A界面封閉性好于自粘接型樹(shù)脂粘接劑C,自粘接型樹(shù)脂粘接劑C界面封閉效果好于自酸蝕粘接劑B。
【學(xué)位授予單位】:山西醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類(lèi)號(hào)】:R783.1
【圖文】:
圖 1 試件粘接界面納米滲漏圖像(1000x)注:1:Variolink N ND 組;2:Variolink N CAD 組;3:Multilink N ND 組;4 Multilink N CA組;5 Relyx Unicem ND 組;6 Relyx Unicem CAD 組。(Ad:粘接劑;HL:混合層;D:牙本質(zhì)。圖中箭頭所指區(qū)域?yàn)殂y沉積顆粒)根據(jù)電鏡圖像分析,無(wú)論正常牙本質(zhì)還是齲損影響牙本質(zhì),在 3 種粘接系統(tǒng)下都
CAD組粘接試件
ND組粘接試件
【學(xué)位授予單位】:山西醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類(lèi)號(hào)】:R783.1
【圖文】:
圖 1 試件粘接界面納米滲漏圖像(1000x)注:1:Variolink N ND 組;2:Variolink N CAD 組;3:Multilink N ND 組;4 Multilink N CA組;5 Relyx Unicem ND 組;6 Relyx Unicem CAD 組。(Ad:粘接劑;HL:混合層;D:牙本質(zhì)。圖中箭頭所指區(qū)域?yàn)殂y沉積顆粒)根據(jù)電鏡圖像分析,無(wú)論正常牙本質(zhì)還是齲損影響牙本質(zhì),在 3 種粘接系統(tǒng)下都
CAD組粘接試件
ND組粘接試件
【參考文獻(xiàn)】
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6 鄭治國(guó);楊健;徐s釙
本文編號(hào):2760821
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