純鈦及鈦鋯合金種植體對人骨髓間充質(zhì)干細胞生物學(xué)行為的影響
【圖文】:
圖 3-2 SLActive 樣品表面納米結(jié)構(gòu)直徑及納米結(jié)構(gòu)間距。在四種п同的樣品表面每個納米參數(shù)測試 100 次,#代表 TiSLActive和 TiZrSLActive間差異具有統(tǒng)計學(xué)意義Fig 3-2 Nanostructure size parameter on SLActive samples. Mean±Standard error (SE) ofnanostucture diameter and nanostructure separation. For each parameter, 100 measurements offour different substrates are presented. #denotes significant difference between TiSLActiveand
圖 3-3 CSI 所得 3D 圖像(a:TiSLA,b:TiSLActive,c:TiZrSLA,d:TiZrSLActive)ig 3-3 3D images of implant surface(a:TiSLA,,b:TiSLActive,c:TiZrSLA,d:TiZrSLAct較(μ m,Mean±3-1 種植體表面平均粗糙度у峰谷結(jié)構(gòu)落差的比
【學(xué)位授予單位】:蘭州大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號】:R783.1
【相似文獻】
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本文編號:2629011
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