發(fā)布時間：2020-03-28 00:10

【摘要】：目的:通過檢測交界痣、復(fù)合痣和皮內(nèi)痣痣細胞巢及表皮中MDM2和p53蛋白的表達情況,研究三種獲得性黑素細胞痣(AMN)生物學特性和慢性日光照射對表皮及AMN的影響,分析AMN的類別(表型因素)和慢性日光照射(環(huán)境因素)在AMN惡性轉(zhuǎn)化過程中的作用。 方法:采用免疫組織化學方法(SP法)對30例AMN(交界痣、復(fù)合痣和皮內(nèi)痣各10例)的痣細胞巢和表皮中MDM2和p53蛋白表達的情況進行了檢測,用陽性細胞率作為陽性指數(shù),使用相關(guān)的統(tǒng)計學方法對三種AMN的MDM2和p53的陽性指數(shù),以及慢性日光照射部位和遮蔽部位的表皮中的MDM2和p53的陽性指數(shù)進行統(tǒng)計學比較分析。 結(jié)果:在三種AMN及其表皮中均沒有觀察到抗MDM2蛋白單克隆抗體免疫反應(yīng)陽性的細胞。6例(20%)觀察到抗p53蛋白單克隆抗體陽性細胞,其中交界痣2例,復(fù)合痣1例,皮內(nèi)痣3例。交界部位痣細胞巢和真皮內(nèi)痣細胞巢的陽性率和陽性指數(shù)均沒有顯著性差異(P0.05)。雖然慢性日光照射部位的痣細胞巢的陽性率與遮蔽部位的陽性率沒有顯著性差異(P0.05),但前者(3/8)同后者(3/22)相比明顯偏高。表皮p53克隆均為A型。慢性日光照射部位的表皮p53克隆陽性率同遮蔽部位的表皮p53克隆陽性率相比,顯著增高(P0.05);而痣細胞巢正上方的p53克隆的陽性指數(shù)(12.85%±1.18%)和水平向外正常表皮的p53克隆的陽性指數(shù)(11.29%±3.38%)相比在統(tǒng)計學上無顯著性差異(t=1.57,P=0.12)。 結(jié)論:三種AMN的生物學行為是良性的,其惡性轉(zhuǎn)化可能相似;慢性日光照射可誘導(dǎo)產(chǎn)生表皮p53克隆和黑素細胞痣的p53變異。避免慢性日光照射,阻止p53和MDM2的過度表達,對于預(yù)防AMN的惡性轉(zhuǎn)化具有重要意義。
【學位授予單位】：昆明醫(yī)學院
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2005
【分類號】：R758.51

【參考文獻】

相關(guān)期刊論文 前2條

1 劉振祥,李世蔭,張波;MDM_2蛋白和MDM_2 mRNA在皮膚鱗癌中的表達[J];臨床皮膚科雜志;1999年02期

2 涂平,馬圣清,郭英年,宋芳;幾種色素痣中增殖細胞核抗原的表達[J];中華皮膚科雜志;1995年02期

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本文編號：2603607