【摘要】：目的:通過檢測交界痣、復(fù)合痣和皮內(nèi)痣痣細(xì)胞巢及表皮中MDM2和p53蛋白的表達(dá)情況,研究三種獲得性黑素細(xì)胞痣(AMN)生物學(xué)特性和慢性日光照射對表皮及AMN的影響,分析AMN的類別(表型因素)和慢性日光照射(環(huán)境因素)在AMN惡性轉(zhuǎn)化過程中的作用。 方法:采用免疫組織化學(xué)方法(SP法)對30例AMN(交界痣、復(fù)合痣和皮內(nèi)痣各10例)的痣細(xì)胞巢和表皮中MDM2和p53蛋白表達(dá)的情況進(jìn)行了檢測,用陽性細(xì)胞率作為陽性指數(shù),使用相關(guān)的統(tǒng)計學(xué)方法對三種AMN的MDM2和p53的陽性指數(shù),以及慢性日光照射部位和遮蔽部位的表皮中的MDM2和p53的陽性指數(shù)進(jìn)行統(tǒng)計學(xué)比較分析。 結(jié)果:在三種AMN及其表皮中均沒有觀察到抗MDM2蛋白單克隆抗體免疫反應(yīng)陽性的細(xì)胞。6例(20%)觀察到抗p53蛋白單克隆抗體陽性細(xì)胞,其中交界痣2例,復(fù)合痣1例,皮內(nèi)痣3例。交界部位痣細(xì)胞巢和真皮內(nèi)痣細(xì)胞巢的陽性率和陽性指數(shù)均沒有顯著性差異(P0.05)。雖然慢性日光照射部位的痣細(xì)胞巢的陽性率與遮蔽部位的陽性率沒有顯著性差異(P0.05),但前者(3/8)同后者(3/22)相比明顯偏高。表皮p53克隆均為A型。慢性日光照射部位的表皮p53克隆陽性率同遮蔽部位的表皮p53克隆陽性率相比,顯著增高(P0.05);而痣細(xì)胞巢正上方的p53克隆的陽性指數(shù)(12.85%±1.18%)和水平向外正常表皮的p53克隆的陽性指數(shù)(11.29%±3.38%)相比在統(tǒng)計學(xué)上無顯著性差異(t=1.57,P=0.12)。 結(jié)論:三種AMN的生物學(xué)行為是良性的,其惡性轉(zhuǎn)化可能相似;慢性日光照射可誘導(dǎo)產(chǎn)生表皮p53克隆和黑素細(xì)胞痣的p53變異。避免慢性日光照射,阻止p53和MDM2的過度表達(dá),對于預(yù)防AMN的惡性轉(zhuǎn)化具有重要意義。
【學(xué)位授予單位】：昆明醫(yī)學(xué)院
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2005
【分類號】：R758.51

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前2條

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2 涂平,馬圣清,郭英年,宋芳;幾種色素痣中增殖細(xì)胞核抗原的表達(dá)[J];中華皮膚科雜志;1995年02期

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本文編號：2603607