目的研究上頜后牙區(qū)不同竇嵴距時,采用經(jīng)牙槽嵴頂上頜竇底提升植骨并同期植入短種植體術后,種植體周圍骨高度隨時間的變化情況。方法對37例患者進行經(jīng)牙槽嵴頂上頜竇底提升植骨并同期植入共74枚Bicon短種植體,其中剩余牙槽骨高度（RBH）<4 mm組43個位點,RBH≥4 mm組31個位點。隨訪5年后,通過臨床檢查和X線片測量分析不同竇嵴距時,種植體周圍骨高度隨時間的變化情況。結果 74個種植位點術后竇底提升高度（6.64±1.32）mm,修復負載5年后上頜竇內獲得骨高度為（3.35±1.29）mm;RBH<4 mm組和RBH≥4 mm組之間的種植體頸部骨吸收量的差異無統(tǒng)計學意義,而上頜竇內獲得骨高度及種植體頂部骨高度的差異有統(tǒng)計學意義。結論上頜后牙區(qū)RBH<4 mm時,采用經(jīng)牙槽嵴頂上頜竇底提升同期植入Bicon短種植體的術式可獲得較高的種植體存留率及上頜竇內骨增加量,同時并不會增加牙槽嵴頂骨吸收量。 

【文章來源】：華西口腔醫(yī)學雜志. 2020,38(06)北大核心CSCD

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影像學測量指標圖示

種植修復逐漸成為缺牙患者修復方案的首選，但種植體失敗的情況仍時有發(fā)生。有文獻[3]報道，大部分種植體失敗發(fā)生在種植體愈合期內。本研究中有2枚種植體在愈合期內失敗，可能因為在種植體頸部安放竇提升基臺后未進行創(chuàng)口減張?zhí)幚�，種植體穩(wěn)定性差，在上頜竇及口腔內壓力作用下出現(xiàn)創(chuàng)口裂開，種植體暴露失敗。另外1枚種植體在戴牙時因敲擊力度過大而被推入上頜竇內，分析原因可能是，種植體與骨接觸面積小，骨結合不良，敲擊力大于種植體骨結合力而將種植體推入上頜竇內。所有種植體在功能負載后未出現(xiàn)種植體失敗。目前，大多數(shù)學者支持在RBH 4～10 mm時采用經(jīng)牙槽嵴頂上頜竇底提升術；而在RBH≤4 mm時采用上頜竇外提升術[4]。上頜竇外提升術是在直視下進行上頜竇黏膜的分離及松解，操作視野好，但存在手術風險高、創(chuàng)傷大、植骨量多，患者的經(jīng)濟負擔重和術后并發(fā)癥發(fā)生率高等缺點[5]。經(jīng)牙槽嵴頂上頜竇底提升相比而言更加安全、微創(chuàng)、經(jīng)濟。Shanb-hag等[6]研究發(fā)現(xiàn)，上頜磨牙缺牙區(qū)RBH≤4 mm的患者超過40%。臨床工作中也可見大量上頜后牙缺失患者都存在骨高度嚴重不足的情況。很多學者認為當骨高度重度不足時，應避免采用經(jīng)牙槽嵴頂上頜竇底提升同期種植術，主要是因為手術在盲視下操作，剝離黏膜的范圍相對有限，且種植體難以獲得較好的初期穩(wěn)定性[7]。但也有學者[8]提出，竇嵴距不是決定側壁提升與嵴頂提升的主要條件，而應該綜合考慮患者的上頜竇解剖結構、提升器械和方式的改良、手術醫(yī)師的操作技巧和熟練程度等因素。無論是經(jīng)牙槽嵴頂還是外側壁開窗的提升術，目的都是提升上頜竇黏膜從而創(chuàng)造一個有利于新骨生長的成骨空間。而上頜竇底提升術是一項需要醫(yī)師不斷累積經(jīng)驗才能提高的技術，提升的效果會因為術者的經(jīng)驗不同而改變[9]。有部分學者[10-12]研究發(fā)現(xiàn)，在上頜后牙區(qū)骨高度重度不足時，采用經(jīng)牙槽嵴頂上頜竇底提升同期種植術也可獲得很高的種植體成功率。

【參考文獻】：
期刊論文
[1]上頜竇底提升術[J]. 張善勇,鄭吉駟,楊馳.  中國口腔頜面外科雜志. 2013(02)



本文編號：3241919