目的應(yīng)用錐形束計(jì)算機(jī)體層攝影術(shù)（cone beam computed tomography, CBCT）測(cè)量漢族牙周健康青年人上頜腭側(cè)咀嚼黏膜厚度,并探討性別、位置以及腭穹窿形態(tài)對(duì)上頜腭側(cè)黏膜厚度的影響。方法招募牙周健康的漢族青年志愿者32例（男15例,女17例）,使用CBCT圖像分析法測(cè)量受試者上頜雙側(cè)尖牙至第二磨牙區(qū)正中距離齦緣3、6、9、12 mm水平處共1 280個(gè)位點(diǎn)處的腭側(cè)咀嚼黏膜厚度。并于上頜第一磨牙處計(jì)算每位受試者腭穹窿的寬高度比（W/H）得出中位數(shù):2.59。由中位數(shù)2.59將受試者劃分為高穹窿（W/H<2.59）和低穹窿（W/H≥2.59）組。結(jié)果受測(cè)志愿者上頜腭側(cè)咀嚼黏膜平均厚度為（3.66±1.15）mm,尖牙處上頜腭側(cè)黏膜平均厚度為（3.23±0.71）mm,第一前磨牙處為（3.53±0.75）mm,第二前磨牙處為（4.87±0.58）mm,第一磨牙處為（3.21±0.90）mm,第二磨牙處為（4.39±1.67）mm。上頜腭側(cè)黏膜厚度由尖牙區(qū)往后逐漸增厚,至第一磨牙區(qū)銳減,在第二磨牙區(qū)再次增厚且黏膜厚度從距齦緣向腭中縫處逐漸增厚（P<0.05）;... 

【文章來源】：口腔醫(yī)學(xué). 2020,40(10)

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【部分圖文】：

CBCT圖像分析法測(cè)量位點(diǎn)示意圖

圖1 CBCT圖像分析法測(cè)量位點(diǎn)示意圖腭穹窿寬度(W):上頜左右兩側(cè)第一磨牙釉牙骨質(zhì)界處的連線距離。腭穹窿高度(H):第一磨牙腭骨最深處至連接上頜左右兩側(cè)第一磨牙釉牙骨質(zhì)界的水平線間的垂直距離。計(jì)算每位志愿者腭穹窿的寬高度比(W/H)(圖3)。得出中位數(shù):2.59。由中位數(shù)2.59將志愿者劃分為高穹窿(W/H<2.59)和低穹窿(W/H≥2.59)兩組。

腭穹窿寬度(W):上頜左右兩側(cè)第一磨牙釉牙骨質(zhì)界處的連線距離。腭穹窿高度(H):第一磨牙腭骨最深處至連接上頜左右兩側(cè)第一磨牙釉牙骨質(zhì)界的水平線間的垂直距離。計(jì)算每位志愿者腭穹窿的寬高度比(W/H)(圖3)。得出中位數(shù):2.59。由中位數(shù)2.59將志愿者劃分為高穹窿(W/H<2.59)和低穹窿(W/H≥2.59)兩組。利用eXamVison軟件對(duì)CBCT掃描影像分別進(jìn)行觀察和測(cè)量,同一受試者的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)兩周后進(jìn)行重復(fù)測(cè)量采集,取平均值。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]漢族人群硬腭黏膜厚度測(cè)量:CBCT圖像分析法和探查法的比較[J]. 馬嬋娟,軒東英,王仁飛,金冬梅.  中國(guó)組織工程研究. 2017(24)
[2]上頜腭側(cè)咀嚼黏膜厚度與腭穹窿形態(tài)的CBCT研究[J]. 薛緋,張瑞.  牙體牙髓牙周病學(xué)雜志. 2016(11)



本文編號(hào)：3130024