正畸鄰面去釉對牙釉質齲風險性影響的實驗研究
發(fā)布時間:2021-01-24 06:15
目的:通過對鄰面去釉后的離體牙進行體外致齲實驗,觀察鄰面去釉及去釉后的處理對牙釉質患齲風險的影響,為鄰面去釉的臨床應用提供實驗依據。方法:收集臨床上因正畸需要拔除的前磨牙28顆,將每個牙齒分為近中和遠中兩個鄰面標本。所有標本隨機分為A、B、C、D四個組,每組14個標本,并按各組以下的要求制備標本。A組:空白對照組,未進行任何去釉處理。B組:釉質去除組,鄰面進行釉質的去除,未進行拋光和再礦化處理。C組:釉質去除+拋光組,鄰面進行釉質的去除,且對去釉面進行拋光處理。D組:釉質去除+拋光+再礦化組,鄰面進行釉質的去除,對去釉面進行拋光處理,同時使用再礦化劑(氟化泡沫)。標本制備完畢后,進行體外致齲實驗,將四組標本同時在37℃的恒溫水浴箱中進行30天體外PH循環(huán)。PH循環(huán)前后通過掃描電鏡觀察釉質表面微觀形態(tài)的改變。應用顯微硬度儀測量每一樣本PH循環(huán)前后的顯微硬度值,并應用SPSS13.0統(tǒng)計分析軟件對數(shù)據進行方差分析,組間均數(shù)的多重比較采用SNK-q法進行統(tǒng)計學分析。結果:①PH循環(huán)后,B組和C組表面顯微硬度值的下降量均大于A組,且差異具有高度的統(tǒng)計學意義(P<0.01),即B組和C組牙...
【文章來源】:青島大學山東省
【文章頁數(shù)】:50 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
一ZB組脫礦前電鏡照片(x500,xlOOO,X5000)
二11/卜一一-一‘-一一............................................圖2一l顯示了不同放大倍數(shù)下對照組脫礦前的牙齒表面顯微形態(tài)。可見牙釉質表面光滑,無任何的孔隙。圖2一l對照組脫礦前電鏡照片 (x1000,x5000)圖2一2顯示了不同放大倍數(shù)下B組(鄰面去釉組)脫礦前的牙釉質表面顯微形態(tài)。電鏡中可見,牙齒經過鄰面去釉后,牙齒表面粗糙,可見去釉所形成的劃痕,且劃痕的粗糙程度不一。高倍鏡下可見,粗糙度程度差異較大,有的區(qū)域劃痕較淺,有的區(qū)域所形成的劃痕較深,且劃痕中可見去釉形成的碎屑。圖2一ZB組脫礦前電鏡照片(x500,xlOOO,X5000)
青島大學碩十學位論文圖2一3顯示了不同放大倍數(shù)下C組和D組脫礦前的牙釉質表面顯微形態(tài)。此時D組并未進行再礦化的處理。電鏡中可見,經過去釉和拋光的處理后,釉質表面的粗糙度比B組降低,釉質表面的劃痕比較均勻,但劃痕仍然明顯可見。圖2一3C、D全日.脫礦前電鏡照片(x500,X5000)2.2.2脫礦處理后掃描電鏡觀察圖2一4A組脫礦后電鏡照片(x50o,x50O0)
本文編號:2996740
【文章來源】:青島大學山東省
【文章頁數(shù)】:50 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
一ZB組脫礦前電鏡照片(x500,xlOOO,X5000)
二11/卜一一-一‘-一一............................................圖2一l顯示了不同放大倍數(shù)下對照組脫礦前的牙齒表面顯微形態(tài)。可見牙釉質表面光滑,無任何的孔隙。圖2一l對照組脫礦前電鏡照片 (x1000,x5000)圖2一2顯示了不同放大倍數(shù)下B組(鄰面去釉組)脫礦前的牙釉質表面顯微形態(tài)。電鏡中可見,牙齒經過鄰面去釉后,牙齒表面粗糙,可見去釉所形成的劃痕,且劃痕的粗糙程度不一。高倍鏡下可見,粗糙度程度差異較大,有的區(qū)域劃痕較淺,有的區(qū)域所形成的劃痕較深,且劃痕中可見去釉形成的碎屑。圖2一ZB組脫礦前電鏡照片(x500,xlOOO,X5000)
青島大學碩十學位論文圖2一3顯示了不同放大倍數(shù)下C組和D組脫礦前的牙釉質表面顯微形態(tài)。此時D組并未進行再礦化的處理。電鏡中可見,經過去釉和拋光的處理后,釉質表面的粗糙度比B組降低,釉質表面的劃痕比較均勻,但劃痕仍然明顯可見。圖2一3C、D全日.脫礦前電鏡照片(x500,X5000)2.2.2脫礦處理后掃描電鏡觀察圖2一4A組脫礦后電鏡照片(x50o,x50O0)
本文編號:2996740
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