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異常咬合對口頜面部痛的臨床試驗研究初探

發(fā)布時間:2020-08-09 06:34
【摘要】:口頜面痛是一種臨床常見的口頜面部異常,顳下頜關(guān)節(jié)紊亂病(Temporomandibular Disorders,TMD)與三叉神經(jīng)痛(Trigeminal Neuralgia,TN)被認(rèn)為是兩種不同的口頜面痛,其中TMD是指以咀嚼肌區(qū)或/和顳下頜關(guān)節(jié)區(qū)疼痛,關(guān)節(jié)雜音以及張口受限為主要臨床表現(xiàn)的一組疾病,TN則是指由某些動作觸發(fā)的,出現(xiàn)在單側(cè)三叉神經(jīng)分支分布區(qū)域的陣發(fā)性、閃電樣、針刺樣疼痛。咬合異常在TMD中的意義一直備受關(guān)注,而咬合異常與TN的關(guān)系鮮有報道。我課題組在臨床實(shí)踐中發(fā)現(xiàn),許多TN患者實(shí)際上也有明顯的異常咬合存在。因此本研究的目的是采用病例分析以及臨床試驗的方法,探究異常咬合與TMD及TN之間的關(guān)系。研究方法本研究對臨床病例作常規(guī)檢查外,還采取了如下檢查手段評價咬合及口頜面功能。(1)口頜面痛評價:采用視覺模擬疼痛計分值(visual analogue score,VAS)、McGill疼痛問卷(McGill Pain Questionnaire,MPQ)及疼痛頻次評分進(jìn)行評價;(2)采用下頜運(yùn)動軌跡描記儀記錄下頜功能運(yùn)動軌跡;(3)采用肌電儀記錄咬肌(MM)肌電,并通過T-scan咬合記錄儀同步記錄咬合力特征;(4)采用硅橡膠材料記錄正中緊咬的咬合印記。本研究包括兩個部分第一部分首先,通過下頜軌跡描計系統(tǒng)采集18位有1顆下頜第三磨牙伸長的TMD受試者單側(cè)咀嚼口香糖時的咀嚼軌跡,將數(shù)次咀嚼軌跡的片段合成平均咀嚼循環(huán)(Average Chewing Pattern,ACP)以代表每個受試者的咀嚼特征,獲得其在三維方向上的運(yùn)動距離即垂直位移,前后位移,向中位移,側(cè)方位移及過零點(diǎn)(咀嚼環(huán)從平衡側(cè)轉(zhuǎn)向工作側(cè)與正中矢狀面的交點(diǎn)所在軌跡片段的序號),然后分析計算分別以左、右側(cè)單側(cè)咀嚼時各個ACP參數(shù)的差值即Δ垂直位移,Δ前后位移,Δ向中位移,Δ側(cè)方位移,Δ過零點(diǎn)。并檢驗這些差值與第三磨牙伸長側(cè)和TMD側(cè)的側(cè)別關(guān)系;其次,比較各ACP各位移參數(shù)與過零點(diǎn)值側(cè)別之間的大小。第二部分通過對25例符合國際頭痛協(xié)會第三版診斷標(biāo)準(zhǔn)的三叉神經(jīng)痛患者進(jìn)行調(diào)合治療,調(diào)合治療的目標(biāo)主要是建立平穩(wěn)的正中咬合接觸關(guān)系,消除正中咬合干擾,建立符合局部咬合力學(xué)規(guī)律的咬合接觸,同時消除非正中咬合干擾。治療前后進(jìn)行VAS疼痛計分值、MPQ值和疼痛頻次分?jǐn)?shù)評價,評價時間點(diǎn)為治療后1周、1月、3月、6月,并在治療前和治療后1月進(jìn)行肌電與T-scan、咬合印記等檢查,分析指標(biāo)包括:前磨牙區(qū)、磨牙區(qū)、后牙區(qū)(包括前磨牙和磨牙區(qū))的咬合印記穿通點(diǎn)面積和數(shù)目,以及T-scan并聯(lián)肌電所記錄的在牙尖交錯位(intercuspal position,ICP)、前伸對刃位(protrusive edge to edge position,Pro)和側(cè)方同名牙尖相對的頜位關(guān)系(lateral cuspal to cuspal position,lateral)下,最大自主緊咬(maximal voluntary clenching,MVC)的咬合力與MM肌電值,并計算在咬合力上升過程的100%,75%,50%,25%最大咬合力水平下各個測量值,即為(1)ICP最大緊咬:100%-,75%-,50%-和25%-ICP-MVC;(2)前伸最大緊咬:100%-,75%-,50%-和25%-Pro-MVC;(3)疼痛側(cè)尖對尖(100%-,75%-,50%-和25%-pain-lateral-MVC)和非疼痛側(cè)尖對尖(100%-,75%-,50%-和25%-no-pain-lateral-MVC)最大緊咬的MM的肌電值。進(jìn)一步計算最大牙尖交錯位緊咬維持階段3.3秒的平均肌電值。結(jié)果:1.第三磨牙伸長側(cè)別和咀嚼環(huán)Δ向中位移,Δ側(cè)方位移,Δ過零點(diǎn)有相關(guān)性(P0.05),而TMD癥狀側(cè)別和這些指標(biāo)變化無明顯關(guān)系(P0.05)。相比于用非伸長側(cè)咀嚼,伸長側(cè)咀嚼的平均咀嚼環(huán)(ACP)的側(cè)方移位更大,向中位移更小(P0.05)。非伸長側(cè)咀嚼和伸長側(cè)咀嚼相比,過零點(diǎn)值較大(P0.05)。2.調(diào)合治療可以明顯減輕TN患者的VAS疼痛值、MPQ疼痛值和疼痛頻次評分值(P0.05),疼痛平均值減輕趨勢從調(diào)合治療后1周開始,至治療后6月未見再次升高。VAS值由初診時的7.2±1.7,在6月時降為2.8±2.9,MPQ值則由初診時的59.1±19.8,在6月時降為21.8±25.3。疼痛頻次評分由初診的2.7±1.6降至6月時的1.1±1.4。該組病例咬合與肌電特征:(1)咬合印記顯示:調(diào)合治療后整個后牙區(qū),磨牙區(qū),前磨牙區(qū)咬合穿通點(diǎn)面積明顯減少(P0.05)。表明調(diào)合治療明顯縮小了沖擊性咬合接觸范圍。(2)肌電與T-scan顯示在100%-,50%-ICP-MVC時,雙側(cè)MM肌電差值在治療后和治療前有差異(P0.05)。最大緊咬維持階段的肌電顯示:雙側(cè)MM差值在治療后和治療前有差異(P0.05)?傮w上,治療前非癥狀側(cè)MM電位高于癥狀側(cè),治療后該差異明顯減小。結(jié)論:1.下頜第三磨牙伸長可以影響咀嚼運(yùn)動,但是TMD癥狀或體征并不一定出現(xiàn)在下頜第三磨牙伸長側(cè)。2.咬合治療可以緩解三叉神經(jīng)痛,但還需要進(jìn)一步的試驗來證明治療效果。
【學(xué)位授予單位】:中國人民解放軍空軍軍醫(yī)大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:R782.6
【圖文】:

記錄儀,軍醫(yī)大學(xué),咀嚼運(yùn)動,博士學(xué)位論文


空軍軍醫(yī)大學(xué)博士學(xué)位論文癇者。.2 咬合干擾的確認(rèn)本研究采用 T-scan 咬合記錄儀(圖 1)檢查、記錄咬合接觸,采用下頜運(yùn)跡描記儀(圖 2,3)檢查、記錄咀嚼運(yùn)動。

系統(tǒng)顯示,對切,側(cè)向,方向


-33-圖 2 T-scan 咬合系統(tǒng)顯示的前伸切對切最大緊咬(a)以及非伸長側(cè)側(cè)向尖對尖最大緊咬時 (b)的咬合點(diǎn)分布情況,下頜運(yùn)動軌跡描計系統(tǒng)顯示的冠狀面右側(cè)咀嚼環(huán)原始圖像 (c)與經(jīng)過處理過后的平均咀嚼環(huán) (ACP) (d)以及原始咀嚼環(huán)在三位方向上的位移曲線(e)。(a)和(b)圖中的黑色箭頭代表右側(cè)第三磨牙伸長的咬合干擾接觸。而(d)中的指向垂直軸的箭頭所指示的是過零點(diǎn),無柄箭頭標(biāo)記咀嚼軌跡運(yùn)動方向。M: 向中方向; L: 側(cè)方方向; FRON: 冠狀面; C: 閉口方向; O: 開口方向; A: 向前; P: 向后; R: 向右; L: 向左。

頭帽,下頜運(yùn)動


圖 3 下頜運(yùn)動描計儀(頭帽)T-3D Electrognathograph 下頜運(yùn)動描裝置,原理為:在通電工作狀態(tài)時,而口內(nèi)下頜牙上粘接的磁塊在頭帽可被動態(tài)記錄,以此來表示下頜運(yùn)先調(diào)節(jié)頭帽的大小適合受試者頭部人戴上調(diào)節(jié)好的頭帽,確保不會松帶的指示桿,將指示桿插入磁場底磁塊有 3-5mm 的距離,此方法是為中越過磁場進(jìn)入運(yùn)動信息無法采集場連接螺鈕,保證頭帽系統(tǒng)各組成塊,先在受試者下頜前庭溝處隔濕拭干凈,使用設(shè)備自帶的膠片(這

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9 王s

本文編號:2786751


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