【摘要】：目的：比較間接印模法和直接印模法對修復(fù)體適合性的影響,探討直接印模法在種植修復(fù)中應(yīng)用的可行性。 方法：于青島大學(xué)醫(yī)學(xué)院附屬醫(yī)院口腔科選取符合以下條件的志愿者20例：①單顆牙缺失,已植入osstem GS Ⅱ種植體,擬行修復(fù)的患者。②種植體植入?yún)^(qū)牙齦健康,基臺(tái)安裝后其肩臺(tái)可經(jīng)磨改使其平齊齦緣或位于齦緣下0.5-1.0mm處,經(jīng)排齦使肩臺(tái)清晰顯露。然后分別應(yīng)用間接印模法和直接印模法制取模型,記為A1、B1組,A1組應(yīng)用間接印模法安裝基臺(tái)并磨改后制作金屬基底冠,B1組在石膏模型上制作蠟型通過包埋、鑄造完成金屬基底冠,分別記為A2、B2組。分別將A2、B2組基底冠安裝于基臺(tái)上,檢測其是否完全就位；應(yīng)用改良的Modified USPHS標(biāo)準(zhǔn)對基底冠進(jìn)行邊緣適合性的評價(jià)；采用硅橡膠印模法復(fù)制基底冠與基臺(tái)之間的微間隙模型,將模型修整后沿近遠(yuǎn)中向剖開,在掃描電鏡下測量微間隙的厚度。 結(jié)果： 1.基底冠的回位率： A2(間接印模法模型組)、B2(直接印模法模型組)兩組基底冠均能順利地就位到基臺(tái)上,冠回位率均達(dá)到100%。 2.基底冠邊緣適合性的評價(jià)： A：組(間接印模法模型組)適合性評價(jià)結(jié)果：達(dá)到A級的共有18例(90%),達(dá)到B級的共有2例(10%),測試結(jié)果為C級的有0例,D級的有0例；B：組(直接法模型組)適合性評價(jià)結(jié)果：達(dá)到A級的共有17例(85%),測試結(jié)果達(dá)到B級的共有3例(15%),測試結(jié)果為C級的有0例,D級的有0例。我們通過統(tǒng)計(jì)學(xué)分析中的非參數(shù)秩和檢驗(yàn)得出：制作的兩組基底冠的邊緣適合性評價(jià)的差異沒有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。 3.基底冠與基臺(tái)間適合性的測定 3.1基臺(tái)與基底冠間的軸面適合性：A2組(間接印模法模型組)為38.1±0.25μ m,B2組(直接印模法模型組)為40.2±0.45μ m,兩組數(shù)據(jù)的比較無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。 3.2基臺(tái)與基底冠間的頸部適合性： A2組(間接印模法模型組)為35.5±0.45u m,B2組(直接印模法模型組)為38.4±0.35u m,兩組數(shù)據(jù)的比較無統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。 結(jié)論： 1、采用直接印模技術(shù)完成的金屬基底冠與基臺(tái)間顯示了良好的適合性。 2、在本實(shí)驗(yàn)條件下,直接法印模技術(shù)完成的修復(fù)體可以滿足臨床應(yīng)用要求。
【學(xué)位授予單位】：青島大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2013
【分類號】：R783.4

【參考文獻(xiàn)】

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本文編號：2776518