光學(xué)印模法與普通印模法制作的全瓷嵌體邊緣適合性的比較
發(fā)布時間:2018-05-13 01:41
本文選題:光學(xué)印模 + 普通印模; 參考:《安徽醫(yī)科大學(xué)》2017年碩士論文
【摘要】:目的研究采用光學(xué)印模法和普通印模法制作的全瓷嵌體與牙體組織間邊緣適合性的比較。方法取1顆形態(tài)正常,無牙體缺損的下頜第二磨牙進(jìn)行牙體預(yù)備,二次印模法取模翻制16個相同大小的超硬石膏模型代型,并將所有代型隨機(jī)分為A,B兩組,兩組分別用光學(xué)印模法和普通印模法取模,制作16個氧化鋯全瓷嵌體,然后采用掃描電鏡對其邊緣間隙厚度進(jìn)行測量,應(yīng)用SPSS 19.0軟件對實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,從而評價嵌體的邊緣適合性。結(jié)果光學(xué)印模組和普通印模組制作的嵌體水平間隙寬度分別為(46.25±5.04)μm和(77.52±11.71)μm,片切法電鏡掃描結(jié)果顯示,兩種方法制作的嵌體邊緣測試點(diǎn)均小于120 m,邊緣適合性比較差異均有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義(P0.05)。結(jié)論光學(xué)印模和普通印模法對全瓷嵌體的邊緣適合性有明顯影響,光學(xué)印模組邊緣適合性明顯優(yōu)于普通印模組,且兩種方法制作的嵌體邊緣適合性均在臨床的可接受范圍之內(nèi)。
[Abstract]:Objective To study the marginal fitness of whole porcelain inlay and tooth body by optical impression method and common impression method .
【學(xué)位授予單位】:安徽醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2017
【分類號】:R783.3
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,本文編號:1881115
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