晚發(fā)性抑郁患者早期面孔知覺加工腦機制的ERPs研究
【圖文】:
圖2. 32導電極分布位置(國際10/20系統(tǒng)),參與統(tǒng)計分析的電極用灰色圓圈標Fig.2. Electrode locations on the Quick-Cap, view from top. Electrodes analyzedstatistically are depicted in gray circles.4、數(shù)據(jù)處理應用EEG/ERP SCAN 4.3軟件(Neuroscan Inco.)對腦電數(shù)據(jù)進行線分析(Off-line)。預覽原始腦電,采用相關(guān)法[ 2 4 ]矯正垂直眼電偽跡腦電分析時程(Epoch)為刺激后800ms,基線為刺激前200ms,基線正后波幅超過±100μV者被視為偽跡在疊加中剔除。20Hz低通無相移字濾波(濾波強度24dB/oct)后分別對兩組被試者5種刺激得到的EEG行分類疊加。每個被試者每類非靶刺激均疊加60次以上。將雙側(cè)耳垂考轉(zhuǎn)換為平均參考;诒狙芯康哪康募耙酝墨I報道[ 10 -1 6 ],用SCAN中“Peak detection”自動測量非靶刺激EEG的顳枕區(qū)和枕區(qū)4個電極(T5、T6、O1、O2)60-120ms時間窗最大值為P1峰;上述四個電極130-190ms時間窗最小值為 N170峰;根據(jù)面孔在顳枕區(qū)產(chǎn)生更大的 N1
31= 0.085, P = 0.773)。圖7. 病例組與對照組靶刺激ERP的總平均波形圖?梢,LOD組靶刺激P3潛伏期較對照組顯著延長。Fig.7. Grand average ERP waveforms of P3 elicited by target stimuli.
【學位授予單位】:大連醫(yī)科大學
【學位級別】:碩士
【學位授予年份】:2008
【分類號】:R749.4
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本文編號:2609478
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