本文關(guān)鍵詞：極低頻電磁場(chǎng)與鋁聯(lián)合應(yīng)用對(duì)小鼠學(xué)習(xí)記憶行為的影響

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【摘要】：目的觀察極低頻電磁場(chǎng)(ELF-MF)與鋁負(fù)荷對(duì)學(xué)習(xí)記憶行為的影響,并初步探討其可能機(jī)制。方法 64只雄性SPF級(jí)昆明小鼠每天接受50 Hz、2 mT ELF-MF暴露和(或)灌胃給予葡萄糖酸鋁(200 mg Al3+/kg),一周6 d,共8周。8周后取大腦組織做HE染色觀察小鼠腦組織病理形態(tài)變化;Morris水迷宮檢測(cè)小鼠的學(xué)習(xí)記憶行為;生化方法檢測(cè)小鼠大腦組織及血清中SOD活性和MDA含量。結(jié)果 ELF-MF暴露與鋁負(fù)荷單獨(dú)或聯(lián)合暴露后小鼠的逃避潛伏期明顯增長(zhǎng),在目標(biāo)象限的停留時(shí)間比明顯減少,各組與對(duì)照組相比均有顯著性差異,而組間比較無(wú)顯著性變化。病理切片結(jié)果顯示,ELF-MF組、鋁負(fù)荷組和ELF-MF+鋁負(fù)荷組大腦皮質(zhì)和海馬區(qū)神經(jīng)細(xì)胞和椎體細(xì)胞數(shù)目都出現(xiàn)減少,排列紊亂。通過(guò)氧化應(yīng)激指標(biāo)檢測(cè)發(fā)現(xiàn),二者均可致腦組織與血清中SOD活性明顯降低以及MDA含量明顯升高。結(jié)論 ELF-MF暴露與鋁負(fù)荷單獨(dú)或聯(lián)合暴露均能夠?qū)е滦∈髮W(xué)習(xí)記憶障礙,其機(jī)制可能與氧化應(yīng)激有關(guān)。
【作者單位】： 重慶醫(yī)科大學(xué)藥學(xué)院生藥學(xué)教研室;
【分類號(hào)】：R312
【正文快照】： 極低頻電磁場(chǎng)(extremely low frequency electro-magnetic field,ELF-MF)指頻率在300 Hz以下的交變電磁場(chǎng),主要由電力供應(yīng)和各類家用電器產(chǎn)生。中樞神經(jīng)系統(tǒng)(特別是海馬腦區(qū))是對(duì)電磁輻射最為敏感的靶器官之一。職業(yè)暴露于電磁場(chǎng)中可出現(xiàn)頭痛頭昏、乏力疲勞、記憶力減退、睡

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本文編號(hào)：1147184