目的:探討磁敏感成像技術(shù)（SWI）在顱腦創(chuàng)傷性軸索損傷（TAD）診斷及預(yù)后判斷中的應(yīng)用價(jià)值。方法:30例臨床高度懷疑或已經(jīng)確診為TAD（包括腦震蕩及彌漫性軸索損傷）的腦外傷病人CT檢查未發(fā)現(xiàn)明顯異常或者損傷灶不位于典型部位者（僅數(shù)例可見典型病灶）繼而進(jìn)行MRI檢查。先行SWI檢查后再行常規(guī)MR（T2WI、T1WI、DWI或FLAIR T2WI）檢查。分析SWI圖像特點(diǎn),比較SWI與常規(guī)MR序列對(duì)軸索損傷病變的顯示情況,計(jì)算SWI及常規(guī)MR序列對(duì)于病變的檢出率。結(jié)果:常規(guī)MR序列、SWI對(duì)于軸索損傷病灶數(shù)目的顯示率分別為24.1%,100%,病灶部位數(shù)目的顯示率為42.1%,100%;SWI對(duì)于病灶數(shù)目的檢出率明顯高于常規(guī)MR序列。結(jié)論:SWI是目前顯示腦創(chuàng)傷中TAD最敏感的序列。 

【文章來(lái)源】：南昌大學(xué)江西省 211工程院校

【文章頁(yè)數(shù)】：42 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

2）顱腦內(nèi)未發(fā)現(xiàn)外傷性改變僅見左側(cè)額顳部軟組織腫脹，后復(fù)查CT（圖3,4）亦101112

2）未見明顯異常，T2WI（圖3,4）左側(cè)頂葉白質(zhì)區(qū)可見斑點(diǎn)狀稍長(zhǎng)T2信號(hào)影，SWI（圖5,6）示雙側(cè)頂葉白質(zhì)區(qū)點(diǎn)條形地低信號(hào)影以左側(cè)為甚；對(duì)癥治療后3周復(fù)查，T1WI（圖7）未見異常，T2WI（圖8）左側(cè)頂葉病灶較

44 歲男性患者，車禍后 3 個(gè)月�；杳� 2 個(gè)月，外院 CT（圖 1-3）示左側(cè)額葉白質(zhì)軸索損傷病灶，右側(cè)頂骨骨折顱內(nèi)積氣，頂葉挫裂傷。臨床診斷為 DAI 合并腦挫裂I（圖 4）示胼胝體陳舊性損傷改變，T2WI（圖 5,6）可見左側(cè)額葉白質(zhì)區(qū)異常信號(hào)頂葉骨折并周圍腦組織挫裂傷改變，ADC 及 DWI（圖 7,8）可見左側(cè)雙側(cè)額葉斑點(diǎn)號(hào)影，GRE 序列（圖 9）較之病灶顯示更多更清楚。SWI（圖 10-12）則可發(fā)現(xiàn)雙側(cè)左側(cè)枕葉及胼胝體壓部多發(fā)低信號(hào)，右側(cè)頂骨骨折周圍亦見類似低信號(hào)影說(shuō)明右側(cè)存在軸索損傷。在在在

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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本文編號(hào)：3608178