本文關鍵詞：噻吩衍生物，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

專利類型： 發(fā)明專利

申請（專利）號： CN201310567995.5

申請日期： 2013年11月14日

公開(公告)日： 2014年2月19日

公開(公告)號： CN103588961A

主分類號： C08G61/12,C08G61/00,C,C08,C08G,C08G61

分類號： C08G61/12,C08G61/00,C07D333/24,C07D333/00,C,C08,C07,C08G,C07D,C08G61,C07D333,C08G61/12,C08G61/00,C07D333/24,C07D333/00

申請（專利權）人： 江南大學

發(fā)明（設計）人： 袁妍,張煜霖,劉仁,劉曉亞

主申請人地址： 214122 江蘇省無錫市濱湖區(qū)蠡湖大道1800號

專利代理機構： 無錫市大為專利商標事務所 32104

代理人： 殷紅梅

國別省市代碼： 江蘇;32

主權項： ?一種可紫外光固化的聚噻吩衍生物導電高分子材料的制備方法，其特征是步驟為：（1）噻吩衍生物單體的制備：在惰性氣體的保護下，將二異氰酸酯與3位上帶有羥基或氨基的噻吩衍生物按照羥基摩爾比1:1混合成為反應體，并加入按反應體總重量計0.04%?0.18%的金屬錫化合物催化劑，在第一溶劑存在下，冰水浴中反應2?4h；再升溫至50?70℃，繼續(xù)反應4?7h，獲得帶有異氰酸根基團的噻吩衍生物；繼續(xù)在反應體中加入一端帶有羥基或氨基、一端帶有紫外光敏基團的化合物，及按反應體雙鍵摩爾數(shù)計，摩爾數(shù)為0.1%?0.5%的阻聚劑，保證其與二異氰酸酯的摩爾比為1:1，保持在70?80℃，在惰性氣體和第二溶劑存在下反應7?12h，獲得帶有可紫外光固化光敏基團的噻吩衍生物單體；（2）聚合物的制備：在有機溶劑中加入步驟（1）制備的噻吩衍生物單體，，在催化劑作用下以轉速500?2500r/min攪拌反應8?16h，催化劑與噻吩衍生物單體的摩爾比為1:1?5，隨后加入有機溶劑體積量10?15倍的甲醇沉降4?7次，后得到可紫外光固化聚噻吩衍生物導電材料。

法律狀態(tài)： 公開，公開

  本文關鍵詞：噻吩衍生物，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。