2013年 第32卷 第5期 傳感器與微系統(tǒng) TransducerandMicrosystemTechnologies 9 激光干涉光刻工藝開發(fā)與應(yīng)用研究 于 航，陸冰睿，陳國平，劉 冉 復(fù)旦大學(xué) 微電子系專用集成電路與系統(tǒng)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，上海200433 摘 要：成功開發(fā)出以勞厄干涉為基礎(chǔ)的激光干涉光刻系統(tǒng)與工藝，該工藝可在大面積范圍內(nèi)加工二維 周期性圖形，非常適合于生產(chǎn)光電子器件和微電子器件的周期性結(jié)構(gòu)。通過實(shí)驗(yàn)研究了使用該工藝加工 表面納米結(jié)構(gòu)的流程 ，對(duì)比了幾種光刻膠在該工藝中的性能特點(diǎn)。該工藝不需要掩模、昂貴的短波長光源 和成像透鏡。初步實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：該工藝可以生產(chǎn)大面積亞微米周期的光柵、點(diǎn)陣以及錐形結(jié)構(gòu)，，為激光 干涉光刻加工納米結(jié)構(gòu)的后續(xù)工作奠定 了基礎(chǔ)。 關(guān)鍵詞 ：激光干涉光刻；微納結(jié)構(gòu)；光刻膠 中圖分類號(hào)：TN205 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1000-9787 2013 05--0009-04 Developmentandapplicationresearch oflaserinterference lithographyprocess YU Hang，LU Bing―mi，CHEN Guo―ping，LIU Ran StateKeyLabofASICandDevice，DepartmentofMicroelectronics， FudanUniversity，Shanghai200433，China Abstract：A Loyld’s-Mirrorlaserinterferencelithographysystem andprocessarcdeveloped，whichcanbeused tofabricatein largeareatwodimensional periodicpattern，thisprocessisespecially suitableforfabrication of period icstructureofopto-electronicdevicesandmicro―electronicdevices．Propertiesofseveralsortsofphotoresists inthisprocessracstudied．Thisprocessdonotneedmask，expensivelensandlightsourcewithshortwavelength． Initialexperimentalresultsshow largeareasubmironperiodicgrating，dotarraysnadconearraypatternscanbe fbaricatedbythisprocess，whichestablishestheexcitingfoundationforthe nanostructurefabricationwith laser interferencelithorgaphy． Keywords：laserinterferencelithorgaphy；micro／nanostructure；photoresist ． 0 引