NiTi合金表面納米孔層的構(gòu)建及其腐蝕行為與生物學(xué)性能研究
發(fā)布時(shí)間:2021-11-12 03:58
在近等原子比的NiTi合金表面制備有序的Ni-Ti-O納米孔層,使合金既能保持原有的超彈性、形狀記憶效應(yīng)和低彈性模量等體特性,又使其表面具有較好的納米仿生結(jié)構(gòu),從而改善其生物相容性。在常見的納米孔制備工藝中,陽極氧化以其低成本、可操作性及環(huán)境友好等優(yōu)點(diǎn)而備受關(guān)注。本論文采用陽極氧化技術(shù)在含Cl-/Br-/CO32-離子和H2O的乙二醇電解液中,在NiTi合金表面構(gòu)建納米孔層。借助SEM、EDS、TEM、XPS等分析手段,研究典型氧化工藝參量對納米孔形成微觀過程、成分與其微結(jié)構(gòu)等的影響,并探討其反應(yīng)機(jī)理。借助電化學(xué)方法和體外細(xì)胞、細(xì)菌實(shí)驗(yàn),評價(jià)了NiTi合金表面納米孔層的腐蝕行為和生物學(xué)性能。結(jié)果表明:1.在含Cl-/Br-/CO32-離子和H2O的乙二醇電解液中,通過陽極氧化可以在NiTi合金表面構(gòu)建由非晶態(tài)TiO2和NiO組成的有序納米孔層。在N...
【文章來源】:太原理工大學(xué)山西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:132 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
納米管直徑尺寸和局部附著位點(diǎn)確定軟骨細(xì)胞的粘附和鋪展的原理圖
18圖 3-1(a)在含有 5.0 vol% H2O 和不同濃度 HCl 的 EG 電解液中,氧化 10 V 后試樣的表面、亞表面和橫截面圖;(b)和(c)在含有 5.0 vol% H2O 和 0.25 M HCl 的 EG 電解液中,氧化 10 V 后 NPs的橫截面圖;(d)在含有 0.5 M HCl 的 EG 電解液中制備的 NPs 的 EDS 能譜圖;(e)陽極氧化過程中相應(yīng)的電流密度-時(shí)間曲線Fig. 3-1 (a) Surface, sub-surface, and cross-sectional FE-SEM images of the samples anodized at 10.0 V inthe EG containing 5.0 vol% H2O and different HCl concentrations; (b) and (c) Cross-sectional FE-SEMimages of the NPs anodized at 10 V in the EG containing 5.0 vol% H2O and 0.25 M HCl; (d) EDSspectrumof the NPs fabricated in the EG electrolyte containing 0.5 M HCl; (e) Corresponding j-t curvesduring anodization部覆蓋不規(guī)則多孔層。將不規(guī)則層去掉后,暴露出均勻規(guī)則的納米孔結(jié)構(gòu)。納米孔直徑為 70nm,與 HCl 的濃度無關(guān)。然而,納米孔長度隨著 HCl 濃度從 0.125M 增加到 0.75M 時(shí),長度從 5.0 μm 增加到 29.8 μm。圖 3-1(b)是試樣在含 0.25 M HCl 電解液中制備納米孔的高倍放大截面圖,表明納米孔橫跨整個(gè)氧化膜。圖 3-1(b)局部放大圖(3-
太原理工大學(xué)博士研究生學(xué)位論文(c))清楚的顯示納米孔相對較直,表明納米孔是垂直試樣表面生長的。圖 3-1(d)米孔的 EDS 能譜圖,結(jié)果表明主要存在 Ni,Ti,O 和 Cl 四種元素。由于 Cl 元素于電解液中,納米孔主要由 Ni,Ti,O 元素組成,并將此納米孔命名為 Ni-Ti-O 納(NPs)。圖 3-1(e)是試樣在陽極氧化過程中電流密度-時(shí)間曲線圖,從圖中可以,沒有 HCl 時(shí),電流密度為零,有 HCl 存在時(shí),電流密度開始迅速的降低隨后慢慢最后達(dá)到穩(wěn)定值。穩(wěn)態(tài)電流密度值隨 HCl 濃度的增加而增加。
本文編號:3490120
【文章來源】:太原理工大學(xué)山西省 211工程院校
【文章頁數(shù)】:132 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
納米管直徑尺寸和局部附著位點(diǎn)確定軟骨細(xì)胞的粘附和鋪展的原理圖
18圖 3-1(a)在含有 5.0 vol% H2O 和不同濃度 HCl 的 EG 電解液中,氧化 10 V 后試樣的表面、亞表面和橫截面圖;(b)和(c)在含有 5.0 vol% H2O 和 0.25 M HCl 的 EG 電解液中,氧化 10 V 后 NPs的橫截面圖;(d)在含有 0.5 M HCl 的 EG 電解液中制備的 NPs 的 EDS 能譜圖;(e)陽極氧化過程中相應(yīng)的電流密度-時(shí)間曲線Fig. 3-1 (a) Surface, sub-surface, and cross-sectional FE-SEM images of the samples anodized at 10.0 V inthe EG containing 5.0 vol% H2O and different HCl concentrations; (b) and (c) Cross-sectional FE-SEMimages of the NPs anodized at 10 V in the EG containing 5.0 vol% H2O and 0.25 M HCl; (d) EDSspectrumof the NPs fabricated in the EG electrolyte containing 0.5 M HCl; (e) Corresponding j-t curvesduring anodization部覆蓋不規(guī)則多孔層。將不規(guī)則層去掉后,暴露出均勻規(guī)則的納米孔結(jié)構(gòu)。納米孔直徑為 70nm,與 HCl 的濃度無關(guān)。然而,納米孔長度隨著 HCl 濃度從 0.125M 增加到 0.75M 時(shí),長度從 5.0 μm 增加到 29.8 μm。圖 3-1(b)是試樣在含 0.25 M HCl 電解液中制備納米孔的高倍放大截面圖,表明納米孔橫跨整個(gè)氧化膜。圖 3-1(b)局部放大圖(3-
太原理工大學(xué)博士研究生學(xué)位論文(c))清楚的顯示納米孔相對較直,表明納米孔是垂直試樣表面生長的。圖 3-1(d)米孔的 EDS 能譜圖,結(jié)果表明主要存在 Ni,Ti,O 和 Cl 四種元素。由于 Cl 元素于電解液中,納米孔主要由 Ni,Ti,O 元素組成,并將此納米孔命名為 Ni-Ti-O 納(NPs)。圖 3-1(e)是試樣在陽極氧化過程中電流密度-時(shí)間曲線圖,從圖中可以,沒有 HCl 時(shí),電流密度為零,有 HCl 存在時(shí),電流密度開始迅速的降低隨后慢慢最后達(dá)到穩(wěn)定值。穩(wěn)態(tài)電流密度值隨 HCl 濃度的增加而增加。
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