激光尾場(chǎng)加速電子的密度梯度注入的解析處理
本文關(guān)鍵詞:激光尾場(chǎng)加速電子的密度梯度注入的解析處理,,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:激光尾場(chǎng)加速電子,能夠提供高于100 GeV/m的加速梯度,有望在不遠(yuǎn)的將來(lái)實(shí)現(xiàn)臺(tái)面型電子加速器。近年來(lái),隨著啁啾脈沖放大技術(shù)的發(fā)展,超短超強(qiáng)激光脈沖尾場(chǎng)加速電子的研究在實(shí)驗(yàn)、理論方面取得重大進(jìn)展。在激光尾場(chǎng)加速電子的機(jī)制中,電子注入是關(guān)鍵之一,為得到單能性、準(zhǔn)直性更優(yōu)、電量更大的電子束,各具特色的注入方案被提出。在各種注入機(jī)制中,利用等離子體密度梯度更容易實(shí)現(xiàn)并控制電子注入,且密度梯度注入得到的電子束能散相對(duì)較低,而對(duì)密度梯度注入的研究卻還主要在實(shí)驗(yàn)和模擬上。本文用解析方法,研究了梯度區(qū)域電子的注入和后續(xù)加速,主要工作有:一、由密度不均勻的等離子體中的尾場(chǎng)相速度變化,給出了線性條件下梯度區(qū)域注入的電子能量閾值與等離子體參數(shù)的條件關(guān)系。梯度區(qū)域電子注入的閾值依賴于密度梯度參數(shù),密度下降區(qū)域的電子注入閾值明顯低于自注入的閾值,而且隨激光脈沖的傳播逐漸降低。并且發(fā)現(xiàn),線性下降的密度梯度區(qū)域,電子注入發(fā)生的位置靠近密度梯度區(qū)域與加速區(qū)域相接的位置。二、確定線性條件下梯度區(qū)域的電場(chǎng)并與粒子網(wǎng)格模擬結(jié)果比較,以保證線性近似的合理性。依據(jù)密度梯度區(qū)域的線性電場(chǎng)得到相應(yīng)的背景電子的震蕩運(yùn)動(dòng)和激光尾場(chǎng)相速度隨時(shí)間的變化。在確定的激光和等離子體參數(shù)下,獲得了精確的注入位置和注入時(shí)間。相比于梯度注入的其他理論研究,本文的理論分析更為清晰合理,給出了電子注入的詳細(xì)動(dòng)力學(xué)過(guò)程。三、把哈密頓力學(xué)分析應(yīng)用在梯度區(qū)域的電子注入,得到梯度區(qū)域和加速區(qū)域的相空間分界線(separatrix)。以此分析電子在梯度區(qū)域的注入和后續(xù)加速,解釋電子獲得持續(xù)加速需要的條件是電子進(jìn)入加速區(qū)域時(shí)的能量高于此時(shí)相空間分界線的下限。四、粒子網(wǎng)格模擬密度梯度注入,并跟蹤電子運(yùn)動(dòng)軌跡。梯度區(qū)域的注入電子的軌跡結(jié)合電子進(jìn)入加速區(qū)域時(shí)的相空間分界線驗(yàn)證了上述理論分析的結(jié)果。
【關(guān)鍵詞】:電子注入 密度梯度 等離子體波
【學(xué)位授予單位】:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2015
【分類號(hào)】:O53
【目錄】:
- 摘要6-7
- ABSTRACT7-11
- 第1章 緒論11-19
- 1.1 激光尾場(chǎng)加速電子概述11-12
- 1.2 尾場(chǎng)加速電子的各種機(jī)制12-16
- 1.2.1 激光尾場(chǎng)加速電子中各種注入機(jī)制12-14
- 1.2.2 激光尾場(chǎng)加速電子器的加速過(guò)程14-16
- 1.3 論文選題背景及內(nèi)容安排16-17
- 參考文獻(xiàn)17-19
- 第2章 密度梯度注入的進(jìn)展19-27
- 2.1 密度梯度注入機(jī)制的提出19
- 2.2 密度梯度注入的進(jìn)展19-24
- 2.2.1 密度梯度注入的理論與模擬20-22
- 2.2.2 密度梯度注入的實(shí)驗(yàn)進(jìn)展22-24
- 2.3 密度梯度注入的前景24
- 參考文獻(xiàn)24-27
- 第3章 密度梯度注入的理論分析27-35
- 3.1 密度梯度區(qū)域電子注入閾值的解析討論27-29
- 3.2 密度梯度區(qū)域的注入電子動(dòng)力學(xué)分析29-34
- 3.2.1 密度梯度區(qū)域的電場(chǎng)分析29-30
- 3.2.2 背景電子注入的動(dòng)力學(xué)過(guò)程30-32
- 3.2.3 注入電子在加速區(qū)域的持續(xù)加速32-33
- 3.2.4 密度梯度區(qū)域非線性等離子體波處理33-34
- 3.3 本章小結(jié)34
- 參考文獻(xiàn)34-35
- 第4章 粒子網(wǎng)格模擬與驗(yàn)證35-41
- 4.1 注入電子的兩種后續(xù)加速35-38
- 4.1.1 激光強(qiáng)度低時(shí)的密度梯度注入35-37
- 4.1.2 a_0=1時(shí)兩種密度梯度注入電子37-38
- 4.2 模擬中其他結(jié)果介紹38-39
- 4.3 本章小結(jié)39
- 參考文獻(xiàn)39-41
- 全文總結(jié)及展望41-43
- 附錄 VORPAL模擬激光等離子體的部分參數(shù)43-45
- 致謝45-47
- 在讀期間參加的研究課題及取得的學(xué)術(shù)成果47
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本文關(guān)鍵詞:激光尾場(chǎng)加速電子的密度梯度注入的解析處理,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
本文編號(hào):384077
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