常溫下氧化鉻催化劑對NO的催化氧化反應(yīng)性能研究
本文關(guān)鍵詞:常溫下氧化鉻催化劑對NO的催化氧化反應(yīng)性能研究,由筆耕文化傳播整理發(fā)布。
【摘要】:常用的NO_x治理技術(shù)如選擇性催化還原法(SCR),由于需要具有較高的反應(yīng)溫度(通常為200~400oC),而無法適用于半封閉空間內(nèi)NO_x的常溫消除。為了在常溫條件下有效脫除半封閉空間中的NO,本文對常溫條件下氧化鉻催化劑的催化氧化性能進(jìn)行了研究。采用沉淀方法制備了氧化鉻催化劑,并用于NO催化氧化反應(yīng),首次發(fā)現(xiàn)該催化劑具有常溫催化氧化活性,然后研究了沉淀劑和焙燒溫度等制備條件對其活性的影響,并研究了反應(yīng)條件如NO濃度和空速對催化劑活性的影響。結(jié)果發(fā)現(xiàn),相比于常規(guī)的活性炭及活性炭纖維,氧化鉻催化劑表現(xiàn)出了優(yōu)異的常溫催化氧化NO活性及穩(wěn)定性,并且當(dāng)NO濃度為5 ppm,空速為43200 mL/h時(shí),可維持500分鐘以上100%凈化率。通過對比氨水,碳酸氫銨,氫氧化鉀作為沉淀劑時(shí)不同焙燒溫度制備的氧化鉻催化劑的活性,得出氨水作為沉淀劑制備的催化劑表現(xiàn)出最好的催化活性,焙燒溫度為300 oC制備的氧化鉻催化劑具有較好的活性及穩(wěn)定性。最后本文通過TG,XRD,SEM,H2-TPR,BET,Raman和XPS等表征發(fā)現(xiàn)氧化鉻催化劑之所以具有較好的NO催化氧化活性和穩(wěn)定性,是因?yàn)樗哂休^大比表面積,表面帶有基團(tuán),結(jié)構(gòu)屬于無定形結(jié)構(gòu)等特點(diǎn)。
【關(guān)鍵詞】:一氧化氮 常溫催化氧化 氧化鉻 催化劑 沉淀劑
【學(xué)位授予單位】:中北大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:X701
【目錄】:
- 摘要4-5
- Abstract5-9
- 1 緒論9-20
- 1.1 NOx的危害9
- 1.2 NOx的來源9-11
- 1.3 NOx的控制技術(shù)11
- 1.4 催化分解法11-13
- 1.4.1 貴金屬催化劑12
- 1.4.2 分子篩催化劑12-13
- 1.4.3 金屬氧化物催化劑13
- 1.5 催化氧化法13-17
- 1.5.1 活性炭催化劑14-15
- 1.5.2 貴金屬催化劑15-16
- 1.5.3 金屬氧化物催化劑16-17
- 1.6 催化還原法17-19
- 1.6.1 選擇性催化還原法17-18
- 1.6.2 非選擇性催化還原法18-19
- 1.7 本課題的研究目的和主要內(nèi)容19-20
- 2 實(shí)驗(yàn)部分20-24
- 2.1 實(shí)驗(yàn)主要試劑與儀器20-21
- 2.1.1 實(shí)驗(yàn)主要試劑20
- 2.1.2 實(shí)驗(yàn)主要儀器20-21
- 2.2 催化劑活性測定方法及測試條件21
- 2.3 分析手段及研究方法21-22
- 2.3.1 比表面測定儀(BET)21
- 2.3.2 X射線衍射分析(XRD)21
- 2.3.3 熱重分析(TG)21-22
- 2.3.4 程序升溫還原(TPR)22
- 2.3.5 掃描電子顯微鏡(SEM)22
- 2.3.6 光電子能譜儀(XPS)22
- 2.3.7 拉曼光譜儀(Raman)22
- 2.4 催化劑制備22-24
- 3 NO常溫催化氧化活性測試結(jié)果24-31
- 3.1 不同沉淀劑對氧化鉻催化劑的NO常溫催化氧化活性的影響24-25
- 3.2 300oC焙燒制備的氨沉淀氧化鉻催化劑樣品與ACF,AC的活性對比25-26
- 3.3 不同焙燒溫度對氨沉淀氧化鉻催化劑的NO常溫催化氧化性能的影響26-27
- 3.4 NO濃度對 300 ℃焙燒制備的氨沉淀氧化鉻催化劑的催化氧化性能的影響27-28
- 3.5 300℃焙燒制備的氨沉淀氧化鉻催化劑的用量對NO催化氧化性能的影響28-29
- 3.6 本章小結(jié)29-31
- 4 催化氧化NO催化劑的表征31-42
- 4.1 不同焙燒溫度、不同沉淀劑制備的氧化鉻催化劑的表征與分析31-36
- 4.1.1 不同焙燒溫度、不同沉淀劑制備的氧化鉻催化劑的XRD分析31-32
- 4.1.2 不同沉淀劑制備的氧化鉻催化劑的TG曲線32-34
- 4.1.3 不同沉淀劑 300oC焙燒后獲得的氧化鉻催化劑的H2-TPR曲線34-35
- 4.1.4 不同焙燒溫度和沉淀劑制備的氧化鉻催化劑及活性炭纖維和活性炭的比表面積(BET)及元素分析35-36
- 4.2 不同焙燒溫度制備的氨沉淀氧化鉻催化劑的表征及分析36-41
- 4.2.1 不同焙燒溫度制備的氨沉淀氧化鉻催化劑及空白對照催化劑的比表面積(BET)分析36-37
- 4.2.2 不同焙燒溫度制備的氨沉淀氧化鉻催化劑XRD分析37-38
- 4.2.3 不同焙燒溫度制備的以氨沉淀氧化鉻催化劑的TG曲線分析38-39
- 4.2.4 不同焙燒溫度制備的以氨溶液作為沉淀劑的氧化鉻催化劑的DRIFT光譜分析39-40
- 4.2.5 不同焙燒溫度制備的以氨溶液作為沉淀劑的氧化鉻催化劑的Raman光譜分析40-41
- 4.3 本章小結(jié)41-42
- 5 結(jié)論42-43
- 參考文獻(xiàn)43-46
- 攻讀碩士學(xué)位其間取得的研究成果46-47
- 致謝47-48
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