殼聚糖和硅鋁分子篩的凈水功能調(diào)控及其機(jī)制研究
【圖文】:
據(jù)已有研究報道,高濃度的H2O2處理(大于1邋M邋)或其他自由基反應(yīng)會破壞殼逡逑聚糖的晶體結(jié)構(gòu)[151“53]。因此,,我們在研究中也選用了邋X射線衍射分析來觀察H2O2逡逑處理前后殼聚糖的晶體結(jié)構(gòu)變化。圖2.4為原始?xì)ぞ厶羌安煌龋玻希矟舛忍幚淼臍ぞ坼义咸牵厣渚衍射圖譜及其相應(yīng)的結(jié)晶度值。由圖所示,經(jīng)過H2O2處理后的殼聚糖在逡逑20邋=邋19.84°邋and邋26邋=邋10.38°處的衍射峰都變地更加尖銳,并且隨著H2O2處理濃度的逡逑增加此現(xiàn)象更加明顯。通過結(jié)晶度計(jì)算,我們可以發(fā)現(xiàn)在經(jīng)過200mMH202處理后逡逑殼聚糖的結(jié)晶度由原來的16.57%上井至了邋47.21%。這些結(jié)果都表明小濃度的H2O2逡逑處理并沒有導(dǎo)致殼聚糖晶體結(jié)構(gòu)的破壞,反而獲得了結(jié)構(gòu)更有序的殼聚糖樣品。逡逑8(:1^6丨§61:[156]等研究者提出的Peeling-off殼聚糖降解模型可以用來解釋我們研逡逑究中殼聚糖結(jié)晶度的變化,同時這個模型也收到了邋&3118等[157]學(xué)者的贊同:殼聚糖逡逑25逡逑
2.3.1.3改性前后殼聚糖的掃描.電鏡分析逡逑為了進(jìn)一步了解殼聚糖改性前后的形貌變化,我們對改性前后的殼聚糖進(jìn)行了逡逑掃描電鏡分析。圖2.5分別展示了原始?xì)ぞ厶呛停龋玻希蔡幚砗蟮臍ぞ厶潜砻嫘蚊。由逡逑圖所示,改性前后的亮聚糖粉末都呈現(xiàn)為不規(guī)則的片狀,直徑大約在200邋nm左右,逡逑重要的是,我們發(fā)現(xiàn)殼聚糖在使用H202處理后表面變地光滑且規(guī)整。根據(jù)之前討論逡逑的FTIR和XRD結(jié)果,可以認(rèn)為殼聚糖的表面變化是由于H2O2處理后表面無定型逡逑26逡逑
【學(xué)位授予單位】:浙江大學(xué)
【學(xué)位級別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2012
【分類號】:X703
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:2679357
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